NexGen Power Systems Inc. 正在使用GaN 襯底上的同質(zhì)外延 GaN 制造垂直功率器件(垂直氮化鎵或垂直 GaN)。垂直 GaN 器件能夠以更高的頻率進行開關(guān)并在更高的電壓下工作,這將催生新一代更高效的功率器件。
“垂直 GaN 器件比硅小 90%;NexGen Power Systems 的首席執(zhí)行官兼聯(lián)合創(chuàng)始人 Dinesh Ramanathan 表示,電容與器件的面積直接相關(guān)?!霸O(shè)備越小,電容越低。電容越低,開關(guān)頻率越高。在大多數(shù)典型應(yīng)用(尤其是電源)中,垂直 GaN 的開關(guān)損耗比 Si [硅] MOSFET 低 67%?!?/p>
GaN是一種寬帶隙材料,與硅相比,它允許器件在更高的溫度下工作并承受更高的電壓。此外,GaN 較高的介電擊穿率允許制造更薄的器件,因此可以制造更低電阻的器件。較低的特性 R DS(on)導(dǎo)致具有較低電容的較小器件。
在低缺陷密度塊體 GaN 襯底上生長低缺陷密度外延層的優(yōu)勢在于,與在非 GaN 襯底上制造的橫向 GaN 器件相比,它導(dǎo)致垂直功率器件在電壓和熱應(yīng)力下具有更高的可靠性。
垂直 GaN 能夠在高擊穿電壓下工作(圖 1),這使垂直 GaN 能夠為要求最苛刻的應(yīng)用供電,例如數(shù)據(jù)中心服務(wù)器、電動汽車、太陽能逆變器、電機和高速列車的電源。
圖 1:與 Si 和 SiC 相比的 GaN 材料特性(圖片:NextGen Power Systems)
傳統(tǒng)功率器件和橫向 GaN-on-Si
功率電子器件使用固態(tài)器件來處理或轉(zhuǎn)換電能。電源轉(zhuǎn)換器或適配器無處不在,有各種形狀和尺寸可供選擇。大多數(shù)稱為開關(guān)模式電源 (SMPS) 的轉(zhuǎn)換器使用電容器、電感器、變壓器和半導(dǎo)體開關(guān)將功率從具有給定電壓和電流的輸入傳輸?shù)讲煌妷?電流配置的輸出(圖 2)。
圖 2:開關(guān)模式電源的框圖(圖片:NextGen Power Systems)
電容器、電感器和變壓器是無源且物理上較大的組件。為了減小 SMPS 的尺寸,它們必須在高頻下工作。為了在高頻下工作,他們需要更好的半導(dǎo)體開關(guān),它可以克服現(xiàn)有硅基開關(guān)的限制,通常最高可達幾百千赫茲。
在過去的三十年里,MOSFET 和 IGBT 等硅器件一直主導(dǎo)著功率器件市場。最近,硅 MOSFET 只看到了性能提升?!肮枰呀?jīng)達到了極限;基于硅功率器件的材料特性,您現(xiàn)在無法從根本上獲得任何收益,”Dinesh Ramanathan 說。
碳化硅 (SiC) 是硅的另一種替代品,但 GaN 通常具有更具吸引力的基本材料特性。
當前的 GaN 器件是在混合襯底上制造的:硅或碳化硅上的 GaN 薄層,形成 GaN-on-Si 或 GaN-on-SiC 高電子遷移率晶體管 (HEMT) 結(jié)構(gòu)(圖 3)。
圖 3:GaN-on-Si HEMT 結(jié)構(gòu)的代表性示意圖(圖片:NexGen Power Systems)
橫向 GaN-on-Si(或 GaN-on-SiC)器件將材料與不匹配的熱膨脹系數(shù) (CTE) 結(jié)合在一起,這會損害可靠性和性能。此外,在典型的 GaN HEMT 器件中,通道非??拷砻妫ù蠹s幾百納米),這會產(chǎn)生鈍化和冷卻問題。在橫向 GaN-on-Si 器件中,漏源分離決定了器件的擊穿電壓。較大的漏源分離會增加溝道電阻并限制電流容量。為了彌補這一點并提高載流能力,該器件必須做得更寬。更高的電壓和更高的電流要求的組合導(dǎo)致設(shè)備具有大面積,因此具有更高的電容。因此,
雪崩擊穿是 Si 和 SiC 器件在短期過壓條件下保護自身的關(guān)鍵特性。橫向 GaN-on-Si HEMT 中沒有 pn 結(jié)可防止這些器件發(fā)生雪崩擊穿。此外,由于靠近器件表面的電流傳導(dǎo)的敏感性,GaN-on-Si HEMT 難以從頂部冷卻。將 Si 襯底與 GaN 層隔開的緩沖層限制了底部冷卻的效率。這意味著,通常必須創(chuàng)建定制封裝來冷卻 GaN-on-Si HEMT,從而進一步增加其成本。
垂直 GaN 功率器件
GaN 和 Si 或 SiC 之間的晶格失配會降低 GaN 的電性能并影響可靠性,當 GaN 器件在 GaN 襯底上生長時,晶格和 CTE 當然是完美匹配的——它是同一種材料。 因此,可以在塊狀 GaN 襯底上外延生長非常厚的 GaN 層,從而制造出非常高電壓的器件。
垂直 GaN 技術(shù)釋放了 GaN 卓越材料特性的全部潛力,因為它基于在 GaN 襯底上同質(zhì)外延生長的 GaN(圖 4)。此外,垂直 GaN 器件使用所有三個空間維度:通過增加漂移層的厚度來提高擊穿電壓和通過增加器件面積來降低 R DS(on) / 電流能力,從而有效地創(chuàng)建將擊穿電壓和電流能力解耦的 3D 器件。 R DS(on) )。
“交流系統(tǒng)需要具有顯著降低諧波失真的高性能功率因數(shù)校正電路,”Ramanathan 說。“垂直 GaN 的高開關(guān)頻率支持新的控制算法,并以更小的實現(xiàn)和更高的效率提供所有這些?!?/p>
圖 4:垂直 GaN 與 GaN-on-Si 器件結(jié)構(gòu)(圖片:NextGen Power Systems)
圖 5顯示了增強型垂直 GaN 結(jié)場效應(yīng)晶體管 (eJFET) 和 GaN-on-Si HEMT 的示意圖。NexGen Power Systems 表示,它能夠展示 》40 μm 的漂移厚度,生產(chǎn)擊穿電壓 》4,000 V 的二極管和電阻率為 2.8 mΩ/cm 2的晶體管。對于相同的電流能力,垂直 GaN 器件尺寸大約比 650-V GaN-on-Si HEMT 小 6 倍,但提供更大的 1,200 V 擊穿電壓。垂直 GaN eJFET 具有雪崩能力,可在以下情況下保護器件超過規(guī)定的擊穿電壓。
圖 5:垂直 GaN eJFET 和 GaN-on-Si HEMT 的示意圖。虛線白線表示電子傳導(dǎo)路徑。(圖片:下一代電力系統(tǒng))
垂直 GaN 器件用于通過漂移層傳導(dǎo)電流,該漂移層位于晶體管主體內(nèi)部。因此,不存在由表面界面雜質(zhì)捕獲的電荷產(chǎn)生的動態(tài) R DS (on) 變化的機制。柵源二極管的耗盡區(qū)延伸到溝道中,控制了漏極和源極之間的電流流動。在超過擊穿電壓的情況下,雪崩最初通過反向極化的柵源二極管發(fā)生,隨后導(dǎo)致雪崩電流增加柵源電壓和溝道打開并導(dǎo)通。
由于輸出電容小,應(yīng)用中的開關(guān)損耗非常小。與橫向 GaN 器件相比,熱量通過均質(zhì)材料(無需額外層)從器件的頂部和底部 直接傳遞到封裝引線框架(圖 6 )。
“這種器件的優(yōu)勢在于它只有由 GaN 制成的 pn 結(jié),”Ramanathan 說?!拔覀儧]有二維電子氣和復(fù)雜的材料層。我們有一個增強型 JFET,這是一種廣為人知的器件,由于它具有 pn 結(jié),它會發(fā)生雪崩,因此不會發(fā)生破壞性擊穿。因為這一切都發(fā)生在設(shè)備的主體中,它可以在雪崩期間吸收相當多的能量,并且在事件發(fā)生后,設(shè)備恢復(fù)并正常運行。所以它有一個內(nèi)置的安全機制,因此,它是一個更可靠、更強大的設(shè)備?!?/p>
圖 6:同質(zhì)外延生長結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢(圖片:NextGen Power System)
Figure 7: Driving NexGen’s vertical GaN eJFETs (Image: NextGen Power System)
NexGen 的 Vertical GaN 技術(shù)結(jié)合了器件的特性,這些特性以前被認為是不兼容的,因此是不可能實現(xiàn)的。汽車、消費電子、太陽能、電機和數(shù)據(jù)中心的功率轉(zhuǎn)換是人們可以體驗這項新技術(shù)潛力的主要應(yīng)用。與其他開關(guān)器件相比,它在更高的開關(guān)頻率下提供更低的損耗和更好的雪崩魯棒性,并在成本上與硅器件有效競爭。
“從手機到筆記本電腦,電子設(shè)備變得越來越小,越來越便攜,”Ramanathan 說?!笆褂么怪?GaN,電源系統(tǒng)也可以小、輕、低成本和便攜。”
他繼續(xù)舉了一個特別引人注目的例子:“在數(shù)據(jù)中心機架中,為電源預(yù)留了一定數(shù)量的機架單元,將交流電轉(zhuǎn)換為直流電——我們將該電源的尺寸減小了 50%。讓我們看看一個 30 kW 的機架——需要 11 個機架單元用于供電,31 個提供計算服務(wù)。憑借我們更高的開關(guān)頻率,我們可以將電源尺寸從 11 個減少到 5 個機架單元,這意味著我們可以騰出 6 個機架單元來添加到計算機架。六個額外的計算機架意味著計算密度增加了 20%”。
垂直 GaN 允許您解決目前只能由多種技術(shù)提供服務(wù)的全系列電源轉(zhuǎn)換應(yīng)用。
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