蘋果新專利曝光 新一代設(shè)備將采用屏下攝像技術(shù)
近日，美國專利商標(biāo)局（USPTO）公布了蘋果的一份新專利。根據(jù)專利信息顯示：為了保證視覺效果最大化，蘋果將在新一代設(shè)備屏幕中，加入Face ID和攝像元件，以達(dá)到“真全面屏”設(shè)計。
據(jù)悉，蘋果早在今年6月就已向美國專利商標(biāo)局申請了：屏幕進(jìn)化的獨(dú)家方案，其中最終要的一點就是，如何降攝像元件隱藏于玻璃蓋板之中。
該專利技術(shù)還顯示，受限于LCD屏幕材質(zhì)顯示原因，目前該項技術(shù)無法在LCD屏幕材質(zhì)中應(yīng)用，也暗示出蘋果今后機(jī)型將全部采用OLED屏幕。
目前全面屏進(jìn)化形勢依然沒有停止，從最早的改變屏幕比例，從16：9到最終的19：9，再到“劉海屏”，“珍珠屏”，最現(xiàn)在的采用滑軌設(shè)計。那么屏幕進(jìn)化的最終形勢又是什么呢？
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