機械研磨和離子濺射技術(shù)是硬質(zhì)材料樣品制備中常用的方法。首先,將樣品通過機械研磨的方式制成極薄的片狀,然后利用離子濺射技術(shù)進一步減薄至電子能夠穿透的厚度。這一過程能夠使樣品達到透射電子顯微鏡(TEM)所需的觀察標準。以下是操作步驟:
1. 機械研磨:
使用研磨設(shè)備將硬質(zhì)材料樣品磨成薄片。
2. 離子濺射:
利用離子濺射設(shè)備進一步減薄樣品,直至達到透射電子顯微鏡的觀察要求。
聚焦離子束(FIB)加工技術(shù)
聚焦離子束(FIB)加工技術(shù)是一種精密的切割和薄膜制備方法,適用于各種材料。通過聚焦離子束對樣品表面進行精確的切割和薄膜制備,可以獲得厚度均勻的電子透射薄膜。
1. 樣品定位:
將樣品放置在FIB設(shè)備下,精確定位需要切割的區(qū)域。
2. 離子束切割:
使用聚焦的離子束對樣品進行切割,制備出所需的薄膜。
超薄切片技術(shù)
超薄切片技術(shù)主要用于生物樣品和軟質(zhì)材料。首先將樣品用樹脂包埋固定,然后使用超薄切片機切出僅幾十納米厚的超薄切片,以滿足透射電子顯微鏡的觀察需求。
1. 樹脂包埋:
將生物樣品或軟質(zhì)材料用樹脂包埋固定。
2. 超薄切片:
使用超薄切片機將包埋的樣品切成幾十納米厚的切片。
電化學拋光技術(shù)
電化學拋光技術(shù)利用電化學原理在樣品表面進行局部溶蝕,制備出具有特殊形貌的電子透射薄膜。這種方法特別適用于金屬和合金材料。
1. 電化學設(shè)置:
將樣品置于電化學拋光設(shè)備中,設(shè)置合適的電化學參數(shù)。
2. 局部溶蝕:
通過電化學反應(yīng)在樣品表面進行局部溶蝕,制備出所需的電子透射薄膜。
TEM樣品載網(wǎng)
樣品載網(wǎng)是TEM樣品制備中不可或缺的部分,常用的載網(wǎng)材料為銅網(wǎng),外徑通常為3毫米,具有多種篩孔尺寸可供選擇。載網(wǎng)中間的大孔需要覆蓋一層電子透明薄膜,常用的薄膜材料為碳膜或孔狀碳膜。
樣品制備的主要目標是獲得足夠薄的切片,以便電子束能夠穿過整個樣品并從另一側(cè)射出。
有機類樣品制備方法
1.特點與挑戰(zhàn):
有機類和生物類樣品在TEM制備中面臨結(jié)構(gòu)敏感性、高含水量、低襯度、制樣困難和電子束敏感等問題。因此,需要采用特殊的固定、浸漬、脫水和染色方法來保護樣品結(jié)構(gòu)并增強襯度。
2.主要方法:
- 低溫固定法:通過快速冷凍樣品以保持其結(jié)構(gòu)。
- 化學固定法:使用化學試劑固定樣品,以增強襯度。
- 負染色法:通過染色技術(shù)增強樣品的輪廓或表面形狀的觀察。
無機類樣品制備方法
1.特點與挑戰(zhàn):
無機硬質(zhì)樣品在TEM制備中面臨高硬度和脆性、制樣困難、電子束輻射敏感和厚度控制困難等問題。因此,需要采用離子轟擊、機械研磨等復(fù)雜的制備方法。
2.主要方法:
- 粉末制備:將散裝易碎材料粉碎成粉末,然后分散在載網(wǎng)上。
- 大塊材料制備:使用金剛石鋸片切割堅硬的金屬樣品,然后進一步變薄以供觀察。
制樣產(chǎn)生的假象
在TEM樣品制備和觀察過程中,可能會產(chǎn)生各種假象,如離子注入、化學污染、機械拋光不均、超聲處理不當?shù)?。識別這些假象并確定其原因?qū)τ讷@得準確的TEM觀察結(jié)果至關(guān)重要。為了避免這些問題,需要合理調(diào)整電子束或等離子體的照射參數(shù),并采用低溫、低劑量等特殊技術(shù)手段來保護樣品。
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