本文介紹了為什么要用液態(tài)鎵作為FIB的離子源以及鎵離子束是如何產(chǎn)生的。
什么是FIB?
FIB,全名Focused Ion Beam,聚焦離子束,在芯片制造中十分重要。主要有四大功能:結(jié)構(gòu)切割,線路修改,觀察,TEM制樣等。
為什么用金屬鎵做離子源?
鎵的熔點(diǎn)為 29.76°C,在室溫稍高的條件下即為液態(tài),這使其非常適合操作。 液態(tài)鎵的蒸氣壓非常低(<10-13Torr),即使在高真空環(huán)境下也能保持穩(wěn)定,不易揮發(fā)而污染真空腔。 ? 表面張力高,可以穩(wěn)定地形成 Taylor cone,從而精確地提取離子。 ? 亮度高,束斑尺寸小,通常小于10nm,加工精度高。 ?
鎵離子束是如何產(chǎn)生的?
如上圖,液態(tài)鎵存儲(chǔ)在儲(chǔ)存器(Ga Reservoir)中,通過(guò)線圈(heater wires)加熱,使鎵保持液態(tài)。液態(tài)鎵通過(guò)毛細(xì)作用流向鎢針尖(W needle) 的表面,在鎢針尖和提取電極之間施加數(shù)十千伏的強(qiáng)電場(chǎng),電場(chǎng)會(huì)集中在針尖處,使液態(tài)鎵受到電場(chǎng)力拉伸。 液態(tài)鎵在電場(chǎng)的作用下被拉伸成一個(gè)非常小的曲率半徑的錐形(Taylor cone),在Taylor cone的尖端,液態(tài)鎵的原子被強(qiáng)電場(chǎng)游離,形成鎵離子,離子以初始發(fā)射角約為50°的角度射出,經(jīng)過(guò)下游的電磁透鏡聚焦,最終形成一個(gè)高亮度、高精度的高斯分布束斑(Gaussian Profile),即聚焦離子束。
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原文標(biāo)題:FIB為什么要用液態(tài)鎵來(lái)做離子源?
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