韓國半導(dǎo)體巨頭SK海力士正加速推進(jìn)NAND閃存技術(shù)的革新,據(jù)韓媒最新報(bào)道,該公司計(jì)劃于2025年末全面完成400+層堆疊NAND閃存的量產(chǎn)準(zhǔn)備工作,并預(yù)計(jì)于次年第二季度正式開啟大規(guī)模生產(chǎn)。這一舉措標(biāo)志著SK海力士在NAND閃存領(lǐng)域再次邁出堅(jiān)實(shí)步伐,引領(lǐng)行業(yè)技術(shù)前沿。
早在2023年,SK海力士便展示了其創(chuàng)新的321層堆疊NAND閃存樣品,并宣布該產(chǎn)品計(jì)劃于2025年上半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。如今,SK海力士再次提速,將目光投向了更高層數(shù)的NAND閃存研發(fā),其目標(biāo)直指400+層堆疊技術(shù),這一突破將顯著提升存儲(chǔ)密度和性能,滿足市場對大容量、高速存儲(chǔ)解決方案的迫切需求。
值得注意的是,SK海力士在NAND閃存技術(shù)的迭代速度上展現(xiàn)出了驚人的實(shí)力。據(jù)報(bào)道,SK海力士計(jì)劃將未來兩代NAND閃存的研發(fā)周期縮短至約1年,這一速度明顯快于業(yè)界的平均水平,彰顯了其在技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)能提升方面的強(qiáng)大競爭力。
為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),SK海力士正積極構(gòu)建與供應(yīng)鏈合作伙伴的緊密合作,共同開發(fā)400層及以上NAND閃存所需的先進(jìn)工藝技術(shù)和設(shè)備。同時(shí),該公司還在探索采用全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),如混合鍵合技術(shù)等,以進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品性能并降低成本。
隨著SK海力士在NAND閃存領(lǐng)域的持續(xù)深耕,我們有理由相信,該公司將不斷推動(dòng)存儲(chǔ)技術(shù)的進(jìn)步,為全球消費(fèi)者帶來更加高效、可靠的存儲(chǔ)解決方案。
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