有報(bào)道稱,三星集團(tuán)計(jì)劃向半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域投資10萬(wàn)億韓元,并大量采購(gòu)ASML的EUV***。據(jù)韓國(guó)今日電子新聞報(bào)道,三星計(jì)劃增加進(jìn)口ASML極紫外(EUV)光刻設(shè)備的數(shù)量。因?yàn)楸C軛l款的存在,盡管具體細(xì)節(jié)未能披露,但根據(jù)證券市場(chǎng)消息,據(jù)稱該協(xié)議將使ASML在五年內(nèi)提供50套設(shè)備,每套設(shè)備的單價(jià)約為2000億韓元,總價(jià)值高達(dá)10萬(wàn)億韓元(當(dāng)前約551億元人民幣)。
目前還不清楚該合同中的產(chǎn)品是現(xiàn)有的EUV光刻設(shè)備還是下一代“HighNAEUV”光刻設(shè)備。然而,目前EUV光刻設(shè)備的最大問題是產(chǎn)量有限。根據(jù)官方介紹,它的復(fù)雜程度甚至超過衛(wèi)星零部件們是三星電子、臺(tái)積電、英特爾、SK海力士和美光。其中,臺(tái)積電約占供應(yīng)量的70%,剩下的30%由其他四家公司爭(zhēng)奪。
去年6月,三星電子推出了全球首個(gè)使用全柵極(GAA)技術(shù)的3納米代工技術(shù)。由此以來(lái),該公司一直在努力采購(gòu)更多的EUV光刻設(shè)備,計(jì)劃在明年上半年進(jìn)入3納米世代的第二代工藝,并于2025年進(jìn)入2納米工藝,最終在2027年進(jìn)入1.4納米工藝。
為了落地這個(gè)計(jì)劃,去年6月,李在镕董事長(zhǎng)訪問了ASML總部,與首席執(zhí)行官PeterBennink討論了EUV采購(gòu)問題。隨后,在去年11月訪問韓國(guó)期間,他與Bennink進(jìn)行了進(jìn)一步的會(huì)談。考慮到EUV設(shè)備的交付周期至少需要一年(從下單到收貨),這些會(huì)議似乎確實(shí)取得了實(shí)際的成果。
事實(shí)上,就三星電子增加購(gòu)買EUV光刻設(shè)備的計(jì)劃而言,半導(dǎo)體領(lǐng)域的分析師也持有積極的態(tài)度。來(lái)自祥明大學(xué)的半導(dǎo)體工程教授表示:“三星已引進(jìn)數(shù)十臺(tái)EUV光刻設(shè)備,據(jù)稱每一臺(tái)的成本大約為2000億韓元,這表明該公司計(jì)劃擴(kuò)大3納米芯片的量產(chǎn),并在未來(lái)推進(jìn)2納米計(jì)劃?!?/span>
在此之前,三星電子表示計(jì)劃在2025年之前擁有100臺(tái)EUV***。根據(jù)市場(chǎng)預(yù)測(cè),目前三星擁有大約40臺(tái)EUV設(shè)備。如果這批50臺(tái)設(shè)備能夠按時(shí)交付,那么到2028年,三星將能夠擁有約100臺(tái)EUV設(shè)備。
荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究所(TNO)的韓國(guó)代表Byung-hoonPark解釋道:“通常情況下,半導(dǎo)體工藝會(huì)將每臺(tái)機(jī)器的10%用于工藝研發(fā)和測(cè)試。因此,如果有100臺(tái)機(jī)器的話,那就意味著它們可以全天候地用于研發(fā)?!彼赋觯ㄟ^這種方式,我們可以保證擁有足夠的工藝能力來(lái)正確使用設(shè)備。他補(bǔ)充道,預(yù)計(jì)這種方法可以減少工藝過程中所需的時(shí)間和成本,并提高產(chǎn)量。
金陽(yáng)邦(KimYang-pang)是工業(yè)研究所的專家研究員,他表示:“只有在擁有大量EUV設(shè)備并穩(wěn)定運(yùn)行的情況下,我們才能增加生產(chǎn)量,并在代工方面取得進(jìn)展。”
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