Cu-Clip技術(shù)
Cu-Clip技術(shù),它可以應(yīng)用在很多模塊封裝形式當中。它的特點有:降低寄生電感和電阻,增加載流能力,相應(yīng)地提高可靠性,以及靈活的形狀設(shè)計。當芯片面積越來越小(比如IGBT 7 和SiC),這限制了常規(guī)綁定線的數(shù)量,但Cu-Clip技術(shù)相應(yīng)地緩解了這方面的問題。
上面是綁定線和Cu-Clip的簡單示意圖。
功率半導體器件結(jié)構(gòu)可以分為好多層,其中影響長期可靠性的因素是CTE(熱膨脹系數(shù))的匹配,CTE失配而引起的應(yīng)力對可靠性產(chǎn)生很大的影響,鋁綁定線脫落就是其中較為典型的例子。這是鋁綁定線和半導體材料之間CTE(鋁:23ppm/K,Si:3ppm/K)差異較大導致的。而銅的CTE約為16.5ppm/K,相應(yīng)地可以減輕CTE失配帶來的熱機械應(yīng)力問題,同樣又可以降低回路電感和電阻。
Cu-Clip粘接到其他表面的方式也有很多種,包括傳統(tǒng)的焊接,銀燒結(jié)以及銅燒結(jié)技術(shù)。當然這其中又牽扯到焊料,燒結(jié)工藝等,這些又都是復雜且不斷發(fā)展的領(lǐng)域。
就像綁定線有著材料、長度、直徑、彎曲度等等因素的考量,Cu-Clip也相應(yīng)的會有厚度,材料,形狀等等考量。
Clip的厚度
采用AlN基板,三芯片(IGBT和FRD)并聯(lián),焊料采用SnAgCu,來比較Clip厚度0.5mm和1.5mm在一定溫度差下的熱機械應(yīng)力,檢測位置為Clip和芯片之間的焊接層,以及芯片表面。下面是材料CTE的參數(shù):
進行了歸一化處理,我們可以看到,使用較薄的Clip,連接的位置應(yīng)力會更小,但滿足必要的載流能力的同時,盡量使用較薄的Clip。
應(yīng)力緩解
上面的模塊圖片中,我們可以看到Clip上有開孔,主要便是為了緩解應(yīng)力,而相比于不開孔,應(yīng)力具體會怎么樣呢?從下面的仿真結(jié)果我們可以看到。
結(jié)果顯然,可以通過開孔來緩解應(yīng)力,但孔的形狀大小和位置又有所考究,這需要我們結(jié)合實際來具體設(shè)計完善的。
Clip材料
這里,作者提出了兩種材料,一個上面說到的CMC,一個是CIC,Invar是一種鎳鐵合金,以低CTE而聞名,下面是它們的相關(guān)參數(shù):
但是由于CIC的導電率較低,雖然CTE和Si更為接近,但是溫升卻很高,并不是一個理想的Clip材料,所以這里作者只比較了純銅和CMC。
從相同芯片表面的應(yīng)力和應(yīng)變曲線來看,CMC由于和Si較小的CTE差異而產(chǎn)生更小的應(yīng)力。同時我們可以看到最大的應(yīng)力和應(yīng)變出現(xiàn)在芯片邊緣位置,所以又回到上一個問題,緩解應(yīng)力的開孔放在和芯片接觸的邊緣位置會更好一些。
審核編輯:劉清
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原文標題:Cu-Clip互連技術(shù)
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