GaN和 SiC令人印象深刻的品質(zhì)使它們深受業(yè)內(nèi)人士的喜愛。然而,它帶來了滿足生產(chǎn)和供應(yīng)需求的挑戰(zhàn),因此專業(yè)人士、投資者和工業(yè)家正在合作以確保足夠的可用性。這是因為隨著氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC) 的采用,電力電子技術(shù)走上了一條非凡的道路。Yole Développement (Yole) 估計了這些寬帶隙材料的總體情況。雖然硅仍然占據(jù)市場主導(dǎo)地位,但 GaN 和 SiC 器件的出現(xiàn)一直在引領(lǐng)技術(shù)走向新的高效成果。
在技術(shù)基礎(chǔ)上,碳化硅技術(shù)側(cè)重于在更大直徑和功率模塊開發(fā)上提高碳化硅晶圓質(zhì)量。在 GaN 領(lǐng)域,主要趨勢是 GaN 器件集成——系統(tǒng)級封裝或片上系統(tǒng)解決方案。
碳化硅
“在過去的幾年里,我們看到了從 4 英寸到 6 英寸的轉(zhuǎn)變。而現(xiàn)在,越來越多的設(shè)備制造商正在開發(fā)六英寸。我們理解的是,今天,高質(zhì)量的六英寸晶圓仍然難以生產(chǎn)。就基板生長和準(zhǔn)備而言,這仍然具有挑戰(zhàn)性,這將直接影響您在接下來的工藝中的良率。因此,設(shè)備制造商的想法是從頭到尾使用優(yōu)質(zhì)材料,真正最大限度地提高產(chǎn)量,當(dāng)然,還要節(jié)約產(chǎn)品成本”,Ezgi Dogmus博士說。Yole Développement 的技術(shù)和市場分析師。
她繼續(xù)說道,“我們看到了來自 Cree、II-VI Advanced Materials、Sicrystal 和中國玩家等領(lǐng)先企業(yè)的大量投資。許多參與者都參與了這一領(lǐng)域?!盎骞?yīng)商 Cree/Wolfspeed、SiCrystal 與英飛凌科技和 ST 微電子等設(shè)備制造商簽署了多年供應(yīng)協(xié)議。”
成本優(yōu)化促使許多公司開發(fā)商業(yè)模式以正確供應(yīng) SiC 襯底。
2018年至2019年期間,意法半導(dǎo)體、英飛凌、ON Semi等公司與Cree、SiCrystal等領(lǐng)先的SiC襯底供應(yīng)商簽訂了多年的襯底供應(yīng)協(xié)議。為了專注于大批量市場,功率 GaN 行業(yè)的主要趨勢之一是與臺積電 (TSMC)、X-Fab 或 Episil Technologies 等老牌代工廠合作。
圖 1:功率 SiC 長期演進(來源:Yole)
“我們知道 ST 與特斯拉在碳化硅主逆變器方面有合作關(guān)系,因此它代表了當(dāng)今碳化硅市場的最高銷量。我們還看到英飛凌和 ON Semi 參加了比賽,因此他們也真正瞄準(zhǔn)了工業(yè)和汽車應(yīng)用,”Ezgi 說。
所有這些合作的想法是保證碳化硅襯底的供應(yīng)。
“On Semi 也在開發(fā)其內(nèi)部碳化硅襯底。他們還與 GTAT 就碳化硅晶體供應(yīng)達(dá)成協(xié)議。為他們提供高質(zhì)量,并將他們垂直整合到供應(yīng)鏈中并對他們的材料進行全面控制至關(guān)重要,”Egzi 說。
她繼續(xù)說道:“我們認(rèn)為,展望未來,玩家將更多地關(guān)注模塊部分,因為我們將瞄準(zhǔn)大功率應(yīng)用,例如主逆變器和充電基礎(chǔ)設(shè)施,以及所有這些應(yīng)用。還需要大功率模塊?!?/p>
氮化鎵
消費者主導(dǎo)了功率GaN市場,主要受快速充電器推動。我們已經(jīng)看到了這些設(shè)備的大量集成。“對于消費市場來說,這是一個明顯的技術(shù)趨勢。因此,我們有 GaN 系統(tǒng)級封裝和 GaN 片上系統(tǒng)。這些是現(xiàn)在為快速充電器提供的主要解決方案,”Ahmed Ben Slimane 博士說。Yole Développement 的技術(shù)和市場分析師。
圖 2:功率 GaN 長期演進(來源:Yole)
他繼續(xù)說道,“例如,對快速充電器的要求是功率密度和效率。因此,我們必須以這種形式壓縮系統(tǒng)并降低每功率的價格。我們已經(jīng)看到來自中國原始設(shè)備制造商 (OEM) 為 Navitas 和 Power Integrations 等供應(yīng)商提供的快速充電器的大量采用。”
在處理基板時,我們有兩種:硅和藍(lán)寶石。硅在 6 英寸上保持開發(fā),但一些玩家在 8 英寸上進行開發(fā)。Gan-on-Sapphire 是另一種正在部署的材料。
“我們?nèi)詫⒖吹交?GaN 的分立器件,但它更適合高功率應(yīng)用,例如數(shù)據(jù)中心或基站電源,”Ahmed 說
在射頻 GaN 領(lǐng)域,“華為早在幾年前就已經(jīng)在其 4G LTE 基站中采用了氮化鎵功率放大器。隨著 5G 的到來,我們還必須走向 3GHz 以外的更高頻率。盡管如此,我們?nèi)苑Q它們?yōu)榈陀?6 GHz。氮化鎵的潛力越來越大,因為在高頻下,與LDMOS相比,功率密度仍然非常出色,功率附加效率也隨之而來?!?添加了 Ezgi。
圖 3:功率 GaN 市場(來源:Yole)
GaN 技術(shù)的采用將在 5G sub-GHz 中具有重要意義,特別關(guān)注其在高功率基站和新型有源天線系統(tǒng)中的使用。在后一種情況下,想法是使用低功率有源天線,但更多天線需要各種功率放大器。要考慮的一個參數(shù)是電源效率。
功率效率是放大器 RF 域中的一個重要參數(shù),因為它會告訴您它會發(fā)熱多少,在散熱方面會損失多少。
“通過用 GaN 取代硅技術(shù),我們依靠游戲的效率來提供更快的切換。就電源本身的體積減小而言,數(shù)據(jù)中心容量增加,這對于GaN器件來說非常重要,”Ezgi說。
“對于數(shù)據(jù)中心采用氮化鎵的情況,我們現(xiàn)在看到采用速度緩慢;這是因為缺乏監(jiān)管?!?/p>
因此,政府需要對數(shù)據(jù)中心實施嚴(yán)格的指導(dǎo)方針,以降低能耗;艾哈邁德說,那么我們將能夠在這個應(yīng)用程序中看到更高的滲透率
隨著高效率要求的提高,與硅相比,氮化鎵確實將發(fā)揮重要作用,而硅仍在履行當(dāng)前的義務(wù)。全 SiC 模塊的開發(fā)活動非常顯著,特別關(guān)注封裝材料,例如芯片貼裝和基板互連。
功率模塊的封裝必須適合碳化硅器件。必須存在一種新型封裝來滿足 100% 碳化硅的要求,您可以從中受益于高溫操作、高頻開關(guān)等。
審核編輯 黃昊宇
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