尹志堯揭秘：中微是怎么從初創(chuàng)公司，做到全球領先的刻蝕機大廠

9月15日，中微半導體設備（上海）有限公司創(chuàng)始人、董事長、總經(jīng)理尹志堯在某活動中探討如何打造高質(zhì)量、有競爭力的半導體設備公司時，表示目前半導體公司的設備主要可以分為四大類，光刻機、等離子體刻蝕機、薄膜設備、測試設備。

以刻蝕機設備為例，等離子體刻蝕設備市場成長迅速，目前年市場規(guī)模超過120億美元。并且等離子體刻蝕設備已經(jīng)工廠中投入最大的部分，已經(jīng)占到工廠設備成本的30%以上。

尹志堯提到一定要將更大力度推動和發(fā)展半導體微觀加工設備產(chǎn)業(yè)提到日程上來，半導體設備公司不僅是集成電路制造的供應商和產(chǎn)業(yè)鏈，也是集成電路制造的最核心部分。而大國博弈在經(jīng)高科技戰(zhàn)線上，集中在半導體設備和關鍵零部件的限制上。



當前中微半導體開發(fā)的四類設備均達到了國際領先水平，如CCP電容性刻蝕機、ICP電感型刻蝕機、深硅刻蝕機、MOCVCD。

其中，中微開發(fā)的第三代CCP高能等離子體刻蝕機，已經(jīng)從過去的20:1發(fā)展到如今的60:1極高深寬比細孔。并且中微CCP刻蝕機在臺灣領先的晶圓廠和存儲廠，已經(jīng)占據(jù)三成市場份額。中微的MOCVD設備在國際氮化鎵基MOCVD市場占有率已在2018年第四季度已經(jīng)達到了70%以上。

尹志堯表示，十年來中國有54個公司和研究所曾宣布開發(fā)MOCVD設備，但目前只有中微一家成功，并且已經(jīng)實現(xiàn)穩(wěn)定的量產(chǎn)。多年來中微的MOCVD設備不斷提高藍綠光LED波長均勻性，目前LED波長片內(nèi)均勻性已經(jīng)做到0.71nm。

如何將中微半導體做大做強，尹志堯表示中微以“四個十大”為中心，總結(jié)17年的經(jīng)驗與教訓，繼續(xù)發(fā)展科創(chuàng)企業(yè)的管理章法，其中包括：中微產(chǎn)品開發(fā)的十大原則；中微戰(zhàn)略和商務的十大原則；中微運營管理的十大原則；中微精神文化的十大原則。

在開發(fā)產(chǎn)品上，尹志堯表示不要老跟著外國人的設計，這樣很難做出自己獨有的產(chǎn)品，因此中微提出了甚高頻去耦合反應離子體刻蝕，讓高頻、低頻都在下電極，當前該技術已經(jīng)具備一定優(yōu)勢。

此外，中微公司還開發(fā)了CCP單臺機和雙臺機，ICP單臺機和雙臺機，可以覆蓋90%的刻蝕應用，不僅在成本上降低30%，效率上也提升了50%。



戰(zhàn)略上，中微將通過三維成長（集成電路設備、泛半導體設備、非半導體設備），計劃在未來10到15年成為國際一流的微觀加工設備公司。

公司運營管理上，中微通過運營KPI管理不斷提升質(zhì)量管理水平。截至2021年6月份，中微已經(jīng)申請了1883個專利，并已獲得1115個專利。

尹志堯表示，盡管中微在知識產(chǎn)權上已經(jīng)做得很全面，但也受到多次美國公司對中微發(fā)起的專利訴訟，有三次是美國公司對中微提起訴訟，一次是中微對美國公司發(fā)起的訴訟。值得注意的是，在專利訴訟中，兩次獲得了完全勝利，另外兩次也在較大優(yōu)勢下達成和解。

中微公司在等離子體刻蝕機的技術優(yōu)勢，也讓美國在2015年取消了對中國的出口控制，而中微的相關產(chǎn)品出口環(huán)境也變得極為寬松。



值得注意的是，中微實施了員工期權激勵和全員持股的模式，認為這是高科技公司發(fā)展的生命線，也是社會主義集體所有制的核心。尹志堯認為，企業(yè)價格由投入的股本金帶來和勞動創(chuàng)造的價值兩部分組成，但公司80%的市值由勞動力創(chuàng)造。

不忘初心，就是回到“資本論”，就是要解決剩余價格的合理分配問題。通過期權和股權將員工長期利益和企業(yè)綁定，使更多員工參加公司，使員工積極為公司工作，全員持股是中微賴以生存和發(fā)展的生命線。



尹志堯提到，自己僅占公司1%的股份，但這并不意味著就無法將公司做好。讓公司做大做強，要做到強群的總能量最大化和凈能量最大化，總能量最大化即使所有階層和所有部門人們的積極性群都發(fā)揮出來，凈能量最大化即怎樣使各個階層和各個部門的能量不會在內(nèi)耗中消失。

最后，尹志堯表示，一家公司從初創(chuàng)公司做到成功，公司的文化和作風是主要應隨，要建立一直領先的百年老店，初創(chuàng)時期，首先要有過硬的技術產(chǎn)品，到了大公司時期要有足夠的運營能力，做到領頭公司，則需要看公司的文化作風。