日本的佳能曾經(jīng)是最大的***制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄***業(yè)務(wù)。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型***“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導(dǎo)體市場。
時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導(dǎo)體***,該設(shè)備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產(chǎn)效率較以往機(jī)型提高了約17%。
就工藝水平而言,佳能的這款新型***是入門級別的,它的最大價值在于幫助企業(yè)提高產(chǎn)能。
除了主流的硅晶圓之外,該機(jī)還可以提高小型晶圓較多的化合物半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅(SiC),以及作為5G相關(guān)半導(dǎo)體材料而受到期待的氮化鎵(GaN)等。
此外,佳能還致力于研發(fā)“后期工序”(制作半導(dǎo)體芯片之后的封裝加工等)中使用的***,比如去年7月推出的515毫米 x 510毫米大型基板的***。
據(jù)悉,佳能正在著力開展新一代生產(chǎn)工藝的研發(fā)。
責(zé)任編輯:pj
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注,是最有機(jī)會率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時候,根據(jù)英國金融時報的報道,負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓
發(fā)表于 03-09 00:15
?4185次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
?590次閱讀
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?1398次閱讀
,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
?1186次閱讀
其中。 ? 報道援引知情人士的消息稱,蘋果退出了最近一輪的談判,該輪融資預(yù)計(jì)將于下周結(jié)束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達(dá)也參與了這一輪談判。有消息稱微軟預(yù)計(jì)將在此前已向該公司投資130億美元的基礎(chǔ)上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機(jī)
發(fā)表于 09-29 11:24
?930次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?788次閱讀
阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
發(fā)表于 05-22 11:29
?5774次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV
發(fā)表于 05-17 17:21
?995次閱讀
光刻機(jī)有很多種類型,但有時也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?1913次閱讀
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式
發(fā)表于 03-21 11:31
?6336次閱讀
EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級,未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 38
發(fā)表于 03-14 08:42
?558次閱讀
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
發(fā)表于 03-08 14:02
?1193次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4747次閱讀
Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C,并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設(shè)備的價格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能
發(fā)表于 02-01 15:42
?988次閱讀
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?3382次閱讀
評論