我國芯片刻蝕機再獲技術突破，技術全球領先

（文章來源：網(wǎng)絡整理）

眾所周知，我國芯片制造技術與國際先進水平有著不小的差距。芯片制造的關鍵設備--光刻機，與國際領先水平差距更大：世界最先進水平已經(jīng)到了5nm水平，而我國才達到90nm水平。

可能是因為我國光刻機技術與國際領先水平差距巨大的原因，國人的的注意力都集中在光刻機上，而忽視了另一種在芯片制造過程中跟光刻機起到同等重要作用的設備——刻蝕機。

據(jù)國內(nèi)技術最先進的刻蝕機生產(chǎn)商中微半導體設備有限公司（簡稱中微公司）最新披露，該公司的5nm高端刻蝕機設備已經(jīng)獲得行業(yè)領先客戶——臺積電的批量訂單。

5nm制程代表了現(xiàn)階段全球芯片加工技術的最高水平，臺積電在其世界上最先進的5nm芯片生產(chǎn)線上采用我國中微公司的高端刻蝕機，足以說明我國在刻蝕機領域技術的全球領先性。

光刻機和刻蝕機同樣是芯片制造的關鍵設備，刻蝕機在我國企業(yè)地努力下已經(jīng)達到了世界領先水平。相信在不久的將來，通過我國政府的統(tǒng)一部署與協(xié)調(diào)，和全國科研工作者的努力攻關，我國光刻機技術一定能夠實現(xiàn)突破，趕上甚至超過世界最高水平！
（責任編輯：fqj）