電路板的孔金屬化工藝
孔金屬化工藝過(guò)程是印制電路板制造中最關(guān)鍵的一個(gè)工序。為此,就必須對(duì)基板的銅表面與孔內(nèi)表面狀態(tài)進(jìn)行認(rèn)真的檢查。
(一)檢查項(xiàng)目
1.表面狀態(tài)是否良好。無(wú)劃傷、無(wú)壓痕、無(wú)針孔、無(wú)油污等;
2.檢查孔內(nèi)表面狀態(tài)應(yīng)保持均勻呈微粗糙,無(wú)毛刺、無(wú)螺旋裝、無(wú)切屑留物等;
3.沉銅液的化學(xué)分析,確定補(bǔ)加量;
4.將化學(xué)沉銅液進(jìn)行循環(huán)處理,保持溶液的化學(xué)成份的均勻性;
5.隨時(shí)監(jiān)測(cè)溶液內(nèi)溫度,保持在工藝范圍以內(nèi)變化。
(二)孔金屬化質(zhì)量控制
1.沉銅液的質(zhì)量和工藝參數(shù)的確定及控制范圍并做好記錄;
2.孔化前的前處理溶液的監(jiān)控及處理質(zhì)量狀態(tài)分析;
3.確保沉銅的高質(zhì)量,應(yīng)建議采用攪拌(振動(dòng))加循環(huán)過(guò)濾工藝方法;
4.嚴(yán)格控制化學(xué)沉銅過(guò)程工藝參數(shù)的監(jiān)控(包括PH、溫度、時(shí)間、溶液主要成份);
5.采用背光試驗(yàn)工藝方法檢查,參考透光程度圖像(分為10級(jí)),來(lái)判定沉銅效時(shí)和沉銅層質(zhì)量;
6.經(jīng)加厚鍍銅后,應(yīng)按工藝要求作金相剖切試驗(yàn)。
第三節(jié) 孔金屬化
金屬化工藝是印制電路板制造技術(shù)中最為重要的工序之一。最普遍采用的是沉薄銅工藝方法。在這里如何去控制它,有如下幾個(gè)方面:
1.最有效的沉銅方法是采用掛蘭并傾斜300角,并基板之間要有一定的距離。
2.要保持溶液的潔凈程度,必須進(jìn)行過(guò)濾;
3.嚴(yán)格控制對(duì)沉銅質(zhì)量有極大影響作用的溶液溫度,最好采用水套式冷卻裝置系統(tǒng);
4.經(jīng)清洗的基板必須立即將孔內(nèi)的水份采用熱風(fēng)吹干。
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