1.中國產(chǎn)能逐漸開出 內(nèi)存價(jià)格2019將下滑;
內(nèi)存價(jià)格從2016年起一路上揚(yáng),但自2018下半年起,由于各廠商產(chǎn)能陸續(xù)開出,因此資策會(huì)MIC預(yù)測內(nèi)存價(jià)格將于開始下滑。
資策會(huì)MIC資深產(chǎn)業(yè)顧問洪春暉表示,2018年的半導(dǎo)體市場概況是近5年來難得的樂觀,盡管2018年內(nèi)存價(jià)格成長空間有限,但NAND Flash需求仍然持續(xù)增加。 因此,預(yù)估2018年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模將成長10.1%,其中最大的原因是各應(yīng)用終端內(nèi)存需求持續(xù)增加,以及車用電子等新興應(yīng)用帶動(dòng)。
洪春暉進(jìn)一步指出,內(nèi)存受惠于市場價(jià)格上揚(yáng),2018年全年***內(nèi)存產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值將成長25%,產(chǎn)值達(dá)2,053億新臺(tái)幣。 但自2018年第二季起,內(nèi)存價(jià)格由于各新廠產(chǎn)能陸續(xù)開出價(jià)格開始松動(dòng),由其是在中國大陸,無論是DRAM或是NAND Flash產(chǎn)能都在持續(xù)開出;盡管目前尚未進(jìn)入穩(wěn)定量產(chǎn)階段,但預(yù)期2018下半年內(nèi)存價(jià)格仍有下跌空間, 在未來兩年內(nèi)存也不容易再出現(xiàn)價(jià)格飆漲的狀況。
由于內(nèi)存供給有望增加,因此展望2019年,預(yù)計(jì)內(nèi)存成長趨緩,預(yù)期成長幅度為3.8%。 觀測***產(chǎn)業(yè),半導(dǎo)體則因高階制程與內(nèi)存市場帶動(dòng)呈穩(wěn)定成長,預(yù)估2018年***半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值將達(dá)2.46兆新臺(tái)幣,較2017年成長8.1%,成長動(dòng)力與全球平均水平相當(dāng)。 但預(yù)期在2019年,DRAM制程將轉(zhuǎn)進(jìn)至1x和1y納米,F(xiàn)lash產(chǎn)能也持續(xù)增加,預(yù)計(jì)內(nèi)存價(jià)格下滑將對(duì)臺(tái)廠造成沖擊。新電子
2.2018全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成長估達(dá)10.1%;
資策會(huì)產(chǎn)業(yè)情報(bào)研究所(MIC)發(fā)表全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)指出,2018年全球半導(dǎo)體概況,預(yù)估市場規(guī)模將成長10.1%,主要來自各應(yīng)用終端內(nèi)存需求持續(xù)增加,及車用電子等新興應(yīng)用帶動(dòng);展望2019年,內(nèi)存成長趨緩, 預(yù)期成長幅度為3.8%,預(yù)計(jì)2018年下半年,這波產(chǎn)業(yè)景氣就會(huì)逐漸落底。 觀測***產(chǎn)業(yè),半導(dǎo)體因高階制程與內(nèi)存市場帶動(dòng)呈穩(wěn)定成長,預(yù)估2018年***半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值將達(dá)2.46兆新臺(tái)幣,較2017年成長8.1%,成長動(dòng)力與全球平均水平相當(dāng)。
資策會(huì)MIC資深產(chǎn)業(yè)顧問洪春暉表示,***半導(dǎo)體各次產(chǎn)業(yè)表現(xiàn)皆可期。 關(guān)于IC設(shè)計(jì),隨著***廠商手機(jī)處理器全球市占提升,再加上***廠商在無線連網(wǎng)芯片、TDDI等芯片市場需求增加,將讓***IC設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值年成長6.2%,產(chǎn)值達(dá)5,798億新臺(tái)幣。 而隨著人工智能及物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用崛起,也帶動(dòng)***IC設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)中,非3C應(yīng)用IC的營收占比逐年成長,再加上非3C產(chǎn)品芯片規(guī)格多元化,吸引IC設(shè)計(jì)業(yè)者投入提供AISC設(shè)計(jì)服務(wù),預(yù)期2019年經(jīng)營模式將朝多元化發(fā)展。 晶圓代工則在2018下半年因挖礦機(jī)需求較減緩,預(yù)估全年成長約6.4%,產(chǎn)值達(dá)1.2兆新臺(tái)幣。 展望2019年,隨著臺(tái)積電7+制程將量產(chǎn),未來***先進(jìn)制程比例可望進(jìn)一步提升,預(yù)估2019年成長率達(dá)8~10%。
3.美光轉(zhuǎn)向電荷捕捉 3D Xpoint暖身時(shí)間不多了;
由于對(duì)未來技術(shù)發(fā)展路線的看法出現(xiàn)歧異,英特爾(Intel)與美光(Micron)在NAND Flash方面的技術(shù)合作將在一年后告終。 未來美光的第四代3D NAND Flash將放棄使用浮閘(Floating Gate)技術(shù),轉(zhuǎn)向電荷捕捉(Charge Trap)。 業(yè)界常將此事解讀為電荷捕捉技術(shù)大獲全勝,成為未來NAND Flash所采用的主流技術(shù),因?yàn)槟壳俺擞⑻貭柛拦庵猓?a href="http://wenjunhu.com/tags/三星/" target="_blank">三星(Samsung)、東芝(Toshiba)與海力士(SK Hynix)都已改用電荷捕捉來生產(chǎn)3D NAND Flash。
西瓜偎大邊 電荷捕捉大獲全勝
在半導(dǎo)體的世界里,一項(xiàng)技術(shù)能否成功,供需兩端的規(guī)模都是非常重要的因素。 美光的NAND Flash產(chǎn)品發(fā)展路線決定從浮閘轉(zhuǎn)向電荷捕捉,正是因?yàn)槌擞⑻貭柛拦庵?,業(yè)內(nèi)已經(jīng)沒有其他供貨商采用浮閘技術(shù)。
由于美光決定轉(zhuǎn)向,未來還會(huì)堅(jiān)守浮閘技術(shù)的NAND Flash供貨商將只剩下英特爾。 對(duì)英特爾來說,這是一個(gè)相當(dāng)不利的情況。 一來日后所有的研發(fā)費(fèi)用將必須獨(dú)自承擔(dān),二來設(shè)備供應(yīng)鏈業(yè)者愿意力挺到何種程度,也是個(gè)問題。 英特爾的設(shè)備采購訂單再大,也無法跟三星、東芝、海力士等業(yè)者的設(shè)備需求總量相比。 設(shè)備業(yè)者在商言商,其NAND Flash相關(guān)設(shè)備的研發(fā)重心必然往電荷捕捉移動(dòng),未來還能分配多少資源給浮閘制程所使用的設(shè)備,是個(gè)大哉問。
事實(shí)上,類似的情況在DRAM產(chǎn)業(yè)就曾發(fā)生過。 在21世紀(jì)的前十年,DRAM產(chǎn)業(yè)就曾發(fā)生過溝槽式(Trench)與堆棧式(Stack)的架構(gòu)大戰(zhàn)。 溝槽式DRAM(圖1)的電容在閘極下方,堆棧式DRAM(圖2)的電容器則在閘極上方,是這兩種DRAM最大的差異。
在溝槽式DRAM的制程中,必須先在基板蝕刻出溝槽,然后在溝槽中沉積出介電層,以形成電容器,然后在電容器上方再制造出閘極,構(gòu)成完整的DRAM Cell。 這種制程最大的技術(shù)挑戰(zhàn)有二,一是隨著線寬越來越細(xì),溝槽的寬深比跟著增加,如何蝕刻出這種溝槽,是相當(dāng)大的技術(shù)挑戰(zhàn)。 其次,在進(jìn)行沉積制程時(shí),由于溝槽的開口越來越細(xì),要在溝槽里面沉積足夠的介電材料,形成容值夠高的電容器,也越來越難。 相較之下,堆棧式DRAM則沒有上述問題,因此隨著制程節(jié)點(diǎn)越往前推進(jìn),溝槽式DRAM的采用者越來越少。
兩大技術(shù)陣營從130奈米開始一路纏斗到75奈米,最后只剩下奇夢(mèng)達(dá)(Qimonda)還能做出溝槽式DRAM,其他DRAM業(yè)者則早已改采堆棧式架構(gòu)。 而在這個(gè)過程中,DRAM業(yè)者不斷跳槽到堆棧式架構(gòu),設(shè)備業(yè)者對(duì)溝槽式制程的支持也越來越少。 最后,隨著奇夢(mèng)達(dá)破產(chǎn),溝槽式DRAM也宣告走入歷史。
如果歷史經(jīng)驗(yàn)有任何參考價(jià)值,溝槽式DRAM與堆棧式DRAM的大戰(zhàn)告訴我們,英特爾可能做出了很危險(xiǎn)的決策。 臺(tái)語俗諺說「西瓜偎大邊」,看準(zhǔn)趨勢(shì)發(fā)展方向,站在主流方,可獲得的生態(tài)系統(tǒng)資源也越多,規(guī)模經(jīng)濟(jì)效應(yīng)也越明顯。 而站錯(cuò)邊的廠商,最后往往只能黯然退出市場。
人多的地方不要去
照理說,英特爾應(yīng)該也看得出固守浮閘技術(shù)的危險(xiǎn)性,但英特爾/美光宣布分手已經(jīng)幾個(gè)月過去,英特爾看起來沒有改變NAND Flash技術(shù)發(fā)展路線的打算。 有些媒體認(rèn)為,英特爾應(yīng)該只是不愿公開承認(rèn)浮閘技術(shù)已經(jīng)走到盡頭,試圖做最后的努力。
但對(duì)英特爾而言,浮閘技術(shù)或許仍有值得賭一把的理由。 筆者認(rèn)為,英特爾不是一家會(huì)為了面子死撐的企業(yè),從Wireless USB、WiMAX到WiDi,英特爾技術(shù)發(fā)展押錯(cuò)寶的例子其實(shí)不少,最后都是以壯士斷腕的結(jié)局收?qǐng)觥?因此,另一個(gè)可能是,英特爾對(duì)自己的浮閘技術(shù)掌握度深具信心,認(rèn)為至少還能再支撐一個(gè)世代以上,然后將自家內(nèi)存產(chǎn)品過渡到Optane,也就是3D Xpoint技術(shù)。
事實(shí)上,筆者認(rèn)為,對(duì)手握3D Xpoint技術(shù)的英特爾來說,以浮閘技術(shù)為基礎(chǔ)的NAND Flash,最大的任務(wù)是爭取時(shí)間,而不是真的要一直靠此技術(shù)跟其他NAND Flash供貨商競爭。
雖說西瓜偎大邊,但「人多的地方不要去」也是商業(yè)競爭的常識(shí)。 NAND Flash內(nèi)存跟DRAM一樣,是同構(gòu)型很高的產(chǎn)品,也因?yàn)槿绱?,供貨商之間的競爭武器,直言之只有三項(xiàng)法寶--產(chǎn)品開發(fā)速度、成本控管跟口袋深度。 誰的產(chǎn)品開發(fā)速度領(lǐng)先同業(yè),誰就能掌握新產(chǎn)品上市初期的高獲利時(shí)機(jī);成本控管能力較佳、口袋深度夠深的業(yè)者,則更有籌碼打價(jià)格戰(zhàn),在市況不佳的時(shí)候熬過市場寒冬。
相較于其他內(nèi)存供貨商,英特爾其實(shí)有很多策略選項(xiàng),Optane就是一路活棋,而且是其他內(nèi)存供貨商所沒有的獨(dú)家技術(shù)。 Optane的讀寫效能理論上接近DRAM,但卻具有NAND Flash的非揮發(fā)特性,被認(rèn)為是非常有潛力的次世代內(nèi)存。 不過,目前Optane固態(tài)硬盤(SSD)的效能其實(shí)跟NAND Flash SSD相去不遠(yuǎn),價(jià)格卻高出一大截,因此市場接受度并不理想。 也因?yàn)槿绱耍⑻貭栠€需要時(shí)間為Optane做更多準(zhǔn)備,包含平臺(tái)架構(gòu)/軟件的調(diào)整跟優(yōu)化,以及最重要的降低成本,Optane的市場接受度才有機(jī)會(huì)提升。
另一方面,Optane除了用在SSD之外,也可以DIMM模塊的型態(tài)出現(xiàn)。 目前英特爾已經(jīng)提供基于Optane的DIMM模塊工程樣品給特定客戶,預(yù)計(jì)2019年開始量產(chǎn)。 這是一項(xiàng)非常值得關(guān)注的產(chǎn)品,即便短期內(nèi)Optane DIMM不可能取代DRAM的地位,但至少有攪局的潛力。
某內(nèi)存相關(guān)業(yè)者就直言,主板上的DIMM插槽總數(shù)不太有增加的機(jī)會(huì)。 換言之,只要Optane DIMM占掉一個(gè)插槽,DRAM的DIMM插槽就少一個(gè)。 由于DRAM報(bào)價(jià)居高不下,英特爾在2017年拱手把盤據(jù)數(shù)十年的全球半導(dǎo)體營收龍頭寶座讓給了三星,而Optane DIMM這項(xiàng)產(chǎn)品在此刻現(xiàn)身,其實(shí)頗有牽制三星的意味存在。
前面提到,英特爾不是純內(nèi)存業(yè)者,而是運(yùn)算平臺(tái)的主導(dǎo)者,因此,相較于其他內(nèi)存業(yè)者只能在英特爾制定的平臺(tái)框架內(nèi)競爭,在技術(shù)上,英特爾可以用平臺(tái)設(shè)計(jì)來拉抬Optane,在商業(yè)模式上也有捆綁銷售的可能性。
供貨商家數(shù)不足恐成普及障礙
雖然Optane有其特殊性,而且英特爾還可以將其包裹在平臺(tái)中推廣,但整體來說,這項(xiàng)技術(shù)未來的最大隱憂,恐怕就是它的特殊性。 3D Xpoint是英特爾跟美光連手開發(fā)的次世代內(nèi)存技術(shù),目前已經(jīng)商品化的廠商則只有英特爾一家,美光則不愿意將基于3D Xpoint技術(shù)的內(nèi)存運(yùn)用在SSD產(chǎn)品上,甚至寧可讓其廠房閑置,也不愿生產(chǎn)3D Xpoint內(nèi)存。
某種程度上,這也是Optane SSD價(jià)格居高不下的原因之一,因?yàn)楫a(chǎn)能實(shí)在太低。 沒有量就不會(huì)有Cost Down,是電子業(yè)的基本規(guī)律。 此外,單一供貨商也會(huì)使原始設(shè)備制造商(OEM)跟品牌廠持觀望態(tài)度。
或許也是考慮到單一供貨商可能造成的問題,加上3D Xpoint的部分關(guān)鍵技術(shù)也來自美光,因此在英特爾、美光宣布停止合作開發(fā)下一代NAND Flash內(nèi)存的同時(shí),美光也明確表示,雙方在3D Xpoint技術(shù)上的合作將繼續(xù)進(jìn)行。
美光的盤算應(yīng)該是將3D Xpoint內(nèi)存運(yùn)用在DIMM模塊產(chǎn)品上,而非SSD。 但即便英特爾跟美光連手提供3D Xpoint內(nèi)存,其供應(yīng)量相對(duì)于整個(gè)DRAM或NAND Flash產(chǎn)業(yè)來說還是太小,只能稍微紓解單一供貨商的疑慮。
總結(jié)來說,3D Xpoint雖有發(fā)展?jié)摿?,但其市場普及仍有諸多障礙需要克服,英特爾跟美光的操盤手,對(duì)此必須小心翼翼,做好縝密規(guī)畫。
4.臺(tái)積帶動(dòng)半導(dǎo)體群聚效應(yīng) 設(shè)備鏈靠攏;
***半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展,全球晶圓代工龍頭臺(tái)積電撐起半邊天, 不但多年蟬聯(lián)***制造研發(fā)和總資本支出冠軍,臺(tái)積電匯集全球半導(dǎo)體最先先進(jìn)制程的能量,更吸引材料和設(shè)備供應(yīng)鏈向***聚集,形成強(qiáng)化的群聚效應(yīng)。
半導(dǎo)體業(yè)者表示,臺(tái)積電堅(jiān)持技術(shù)自主及領(lǐng)先,這幾年不斷提升研發(fā)人員與研發(fā)支出,奠定***半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在全球具舉足輕重地位。
工研院產(chǎn)經(jīng)中心(IEK)統(tǒng)計(jì),去年***IC產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值達(dá)2.46兆元,僅次美國和南韓;今年估可超越2.6兆元。
5.半導(dǎo)體展5日登場 臺(tái)積四巨頭力挺;
2018臺(tái)北國際半導(dǎo)體展(SEMICON TAIWAN)本周三(5日)登場,臺(tái)積電創(chuàng)辦人張忠謀、董事長劉德音、 副董事長曾繁城與總裁魏哲家等「四巨頭」開幕當(dāng)天都將出席,探討***半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展及未來趨勢(shì)。
根據(jù)主辦單位國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)規(guī)畫,今年臺(tái)積電四巨頭出席半導(dǎo)體展,將由張忠謀打頭陣進(jìn)行專題演講、曾繁城帶領(lǐng)來賓回顧***半導(dǎo)體發(fā)展,魏哲家和劉德音則分別主掌上午場與下午場壓軸。
SEMI表示,今年會(huì)展將有超過2,000個(gè)攤位展出,規(guī)模為歷屆最大;同時(shí),今年也將邀請(qǐng)上百位重量級(jí)講師,并舉辦超過22場國際論壇,一同揭示未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展脈動(dòng)。
今年臺(tái)北國際半導(dǎo)體展適逢***發(fā)展集成電路(IC)60周年,主辦單位舉辦「IC 60大師論壇」,除了臺(tái)積電四巨頭罕見同日登場力挺之外,也邀請(qǐng)閃存發(fā)明者、 現(xiàn)任交大榮譽(yù)講座教授施敏與會(huì)并進(jìn)行專題演講。
6.德國開發(fā)出世界最小單原子晶體管
德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院托馬斯?希梅爾教授領(lǐng)導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)開發(fā)出了單原子晶體管——一種利用電流控制單個(gè)原子位移實(shí)現(xiàn)開關(guān)的量子電子元件。單原子晶體管可在室溫下操作,并消耗很少電能,這為未來信息技術(shù)開辟了新的應(yīng)用前景。這項(xiàng)成果已被刊登在 雜志上。
數(shù)字化對(duì)能源有巨大需求,在工業(yè)化國家中,信息技術(shù)目前用電量占整個(gè)工業(yè)用電量的10%以上,無論是計(jì)算機(jī)處理中心、個(gè)人電腦,還是從洗衣機(jī)到智能手機(jī)的各種嵌入式應(yīng)用系統(tǒng)。目前一個(gè)幾歐元的USB存儲(chǔ)器就含有上億個(gè)晶體管??査刽敹蚶砉W(xué)院開發(fā)的單原子晶體管未來可顯著提高信息技術(shù)的能源效率,希梅爾教授稱,“有了這個(gè)量子電子元件,能耗將低于傳統(tǒng)硅技術(shù)電子元件一萬倍”。希梅爾教授是卡爾斯魯厄理工學(xué)院單原子電子與光子研究中心主任,被譽(yù)為單原子電子學(xué)先驅(qū)。
在雜志上刊登的論文里,研究人員介紹了如何在只有單一金屬原子寬度的縫隙間建立兩個(gè)微小金屬觸點(diǎn),實(shí)現(xiàn)目前晶體管所能達(dá)到的最小極限。希梅爾教授稱,“我們?cè)诖丝p隙通過電控脈沖移動(dòng)單個(gè)銀原子,完成電路閉合;當(dāng)我們?cè)賹y原子移出縫隙,電路被切斷”,由此實(shí)現(xiàn)世界上最小晶體管在接通電源情況下單個(gè)原子的受控可逆運(yùn)動(dòng)。與傳統(tǒng)量子電子元件不同,單原子晶體管不需要在接近絕對(duì)零度的低溫條件工作,它可以一直在室溫下工作,這是未來應(yīng)用的一個(gè)決定性優(yōu)勢(shì)。
為開發(fā)單原子晶體管,卡爾斯魯厄理工學(xué)院研究人員還開發(fā)了一套全新的工藝,單原子晶體管完全由金屬構(gòu)成,不含半導(dǎo)體材料。其結(jié)果是所需電壓極低,因此能耗也極低。研究人員之前制作單原子晶體管需要依靠液體電解質(zhì),現(xiàn)在希梅爾教授及其團(tuán)隊(duì)首次應(yīng)用固體電解質(zhì)的工作原理,通過水溶性銀電解質(zhì)凝膠與熱解法二氧化硅凝膠電解質(zhì)結(jié)合,從而改善了安全性,更便于單原子晶體管的處理。
評(píng)論
查看更多