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電子發(fā)燒友網(wǎng)>光電顯示>佳能光刻機(jī)現(xiàn)在是什么水平?佳能如何看待顯示行業(yè)寒冬?

佳能光刻機(jī)現(xiàn)在是什么水平?佳能如何看待顯示行業(yè)寒冬?

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光刻機(jī)有什么用

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光刻機(jī)中國(guó)能造嗎_為什么中國(guó)生產(chǎn)不了光刻機(jī)

,中國(guó)最好的光刻機(jī)廠商上海微電子裝備有限公司(SMEE)已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中,性能最好的SSA600/20工藝只能達(dá)到90nm,相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。而國(guó)外的先進(jìn)水平已經(jīng)達(dá)到了7納米,正因如此,國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
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光刻機(jī)能干什么_英特爾用的什么光刻機(jī)_光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)有何作用

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機(jī),或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前,我國(guó)高端的光刻機(jī),基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
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音圈電機(jī)在光刻機(jī)掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

作為芯片制造的核心設(shè)備之一,光刻機(jī)對(duì)芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉,光刻機(jī)按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中,生產(chǎn)芯片的High End
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佳能半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品即將開售, 可滿足高產(chǎn)能大型基板的封裝需求

6月23日消息,佳能1將在2020年7月上旬發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)的新產(chǎn)品——面向后道工序的i線2步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-8000iW”。該產(chǎn)品具備對(duì)應(yīng)尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。
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開發(fā)頂級(jí)光刻機(jī)的困難 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞?

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2020-07-02 09:38:3911513

擦肩而過的光刻機(jī)

1964年中國(guó)科學(xué)院研制出65型接觸式光刻機(jī);1970年代,中國(guó)科學(xué)院開始研制計(jì)算機(jī)輔助光刻掩膜工藝;清華大學(xué)研制第四代分部式投影光刻機(jī),并在1980年獲得成功,光刻精度達(dá)到3微米,接近國(guó)際主流水平。而那時(shí),光刻機(jī)巨頭ASML還沒誕生。
2020-09-20 10:35:027124

政策助力光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展,我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)研發(fā)進(jìn)度仍待加快

光刻機(jī)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備,光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬,同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162

AMSL宣布:無須美國(guó)許可同意可向中國(guó)供貨DUV光刻機(jī),但EUV受限

光刻機(jī),在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設(shè)備,技術(shù)難度極高。在全球光刻機(jī)市場(chǎng),日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場(chǎng)90%以上份額。而最高級(jí)的EUV(極紫外光)技術(shù),則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:453450

一文詳解光刻機(jī)技術(shù)

最近光刻機(jī)十分火,我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī),但其實(shí)嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機(jī),5納米光刻機(jī),我為什么會(huì)這樣說呢?
2020-10-19 11:42:5120305

中國(guó)芯片制造行業(yè)正進(jìn)入快速發(fā)展的新階段

大家都知道,ASML是光刻機(jī)市場(chǎng)的大巨頭,雖說在主流的光刻機(jī)上ASML是和日本尼康和佳能三分天下的,但是在EUV的光刻機(jī)上,這就只有靠著ASML才行。
2020-11-06 15:44:351781

為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備?

只有荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML能造,對(duì)此也有很多網(wǎng)友們感覺到非常疑惑,為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備呢?像我國(guó)的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎?
2020-12-03 13:46:226379

日本佳能正加快搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)

日本佳能正通過光刻機(jī)加快搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)。佳能時(shí)隔7年更新了面向小型基板的半導(dǎo)體光刻機(jī),提高了生產(chǎn)效率。在用于純電動(dòng)汽車(EV)的功率半導(dǎo)體和用于物聯(lián)網(wǎng)的傳感器需求有望擴(kuò)大的背景下,佳能推進(jìn)支持多種半導(dǎo)體的產(chǎn)品戰(zhàn)略。目標(biāo)是在三大巨頭壟斷的光刻機(jī)市場(chǎng)上確立自主地位。
2021-01-06 10:03:061540

佳能/尼康/阿斯麥三家制造商占據(jù)全球超過90%的半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)

日本光學(xué)設(shè)備制造巨頭佳能(Canon)正計(jì)劃靠提升光刻機(jī)的生產(chǎn)效率來搶占市場(chǎng)。按照計(jì)劃,今年3月份,佳能將時(shí)隔7年(自2013年來),面向市場(chǎng)推出新型光刻機(jī)“FPA-3030i5a”,這款新品較舊機(jī)型的生產(chǎn)效率提升了將近17%。
2021-01-06 15:47:073242

佳能發(fā)售新型光刻機(jī)“FPA-3030i5a”,搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)

光刻機(jī)(圖源:日經(jīng)中文網(wǎng)) 時(shí)隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導(dǎo)體光刻機(jī),該設(shè)備使用波長(zhǎng)為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產(chǎn)效率較以往機(jī)型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:067868

佳能即將發(fā)售新型光刻機(jī)“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾經(jīng)是最大的光刻機(jī)制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機(jī)業(yè)務(wù)。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報(bào)道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機(jī)“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)。
2021-01-07 09:03:223005

佳能將推新光刻機(jī),效率提升17%

日本的佳能曾經(jīng)是最大的光刻機(jī)制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機(jī)業(yè)務(wù)。據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報(bào)道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機(jī)“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)。
2021-01-07 11:21:093152

佳能時(shí)隔7年更新了面向小型基板的半導(dǎo)體光刻機(jī)

FPA-3030i5a步進(jìn)式光刻機(jī)的硬件和軟件已在其前代產(chǎn)品FPA-3030i5步進(jìn)式光刻機(jī)(2012年6月發(fā)布)基礎(chǔ)上進(jìn)行了升級(jí),以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案
2021-01-07 17:04:063492

芯源微:光刻工序涂膠顯影設(shè)備成功打破國(guó)外廠商壟斷

近日,芯源微披露投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表指出,公司前道涂膠顯影機(jī)與國(guó)際光刻機(jī)聯(lián)機(jī)的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗(yàn)證,可以與包括ASML、佳能等國(guó)際品牌以及國(guó)內(nèi)的上海微電子(SMEE)的光刻機(jī)聯(lián)機(jī)應(yīng)用。
2021-01-08 13:53:334683

ASML壟斷第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī):一臺(tái)利潤(rùn)近6億

光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML,占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端,畢竟沒有了他們的設(shè)備,想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677

解析全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展情況

根據(jù)芯思想研究院(ChipInsights)的數(shù)據(jù)表明,2020年全球集成電路、面板、LED用光刻機(jī)出貨約58臺(tái),較2019年增加3臺(tái)。其中集成電路制造用光刻機(jī)出貨約410臺(tái);面板、LED用光刻機(jī)出貨約170臺(tái)。
2021-02-24 16:56:1211120

光刻機(jī)原理介紹

光刻機(jī),是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機(jī)的重要地位,光刻機(jī),是制造芯片的機(jī)器,要是沒有了光刻機(jī),我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

佳能暖心服務(wù),讓打印更無憂

2021年6月8日至7月8日,佳能(中國(guó))有限公司(以下簡(jiǎn)稱“佳能”)剛剛結(jié)束了為期一個(gè)月的免費(fèi)清潔保養(yǎng)系列活動(dòng)。據(jù)悉,該活動(dòng)覆蓋了全國(guó)180個(gè)城市的近300家佳能維修店,為近兩萬臺(tái)企業(yè)用戶
2021-07-14 15:27:471442

光刻機(jī)的難度在哪里

中國(guó)是目前世界上消費(fèi)芯片最多的國(guó)家,每年的芯片進(jìn)口額已超過了石油的進(jìn)口額。雖然中國(guó)芯片行業(yè)也已經(jīng)取得了小有成就,但在世界上還是處于落后的水平,芯片的落后少不了因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">光刻機(jī)的原因,那么光刻機(jī)的難度究竟在在哪里呢?
2022-01-03 17:16:004756

刻蝕機(jī)能替代光刻機(jī)

刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)。光刻機(jī)的精度和難度的要求都比刻蝕機(jī)高出很多,在需要光刻機(jī)加工的時(shí)候刻蝕機(jī)有些不能辦到,并且刻蝕機(jī)的精度十分籠統(tǒng),而光刻機(jī)對(duì)精度的要求十分細(xì)致,所以刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)
2022-02-05 15:47:0039915

光刻膠和光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻機(jī)干啥用的

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī),有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī),還有用于封裝的光刻機(jī)光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù),然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

光刻機(jī)是干什么用的 光刻機(jī)廠商有哪些

光刻機(jī)又被稱為掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,總得來說光刻機(jī)是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機(jī)的維修手冊(cè)

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機(jī)的維修手冊(cè),維修利器
2022-03-14 15:31:539

佳能計(jì)劃上半年發(fā)售3D半導(dǎo)體光刻機(jī) 格科半導(dǎo)體正式搬入光刻機(jī)

佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機(jī)。
2022-04-01 16:36:5911569

佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)的Grade10升級(jí)包

佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級(jí)配件包(以下簡(jiǎn)稱“Grade10”升級(jí)包)。KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a
2022-06-14 09:14:112006

中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米 光刻機(jī)的基本原理

眾所周知,光刻機(jī)一直處于壟斷地位,在光刻機(jī)領(lǐng)域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332

euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)

中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國(guó)在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥資買新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息

三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634

最先進(jìn)的光刻機(jī)多少nm 中國(guó)現(xiàn)在能做幾nm芯片

光刻機(jī)是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機(jī)技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少nm的?中國(guó)現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354

euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機(jī)目前幾納米 中國(guó)5納米光刻機(jī)突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

說到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機(jī)是干什么的

光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃描曝光,對(duì)集成電路進(jìn)行蝕刻。精度更高的光刻機(jī)
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢? duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了,現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻機(jī)用途是什么

等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。 是半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)含量最高的設(shè)備。 光刻機(jī)在芯片制作中扮演著很重要的角色。在加工芯片的時(shí)候,光刻機(jī)會(huì)通過光源能量、形狀控制手段,讓光束透射過畫著線路圖的掩膜,能夠把線路圖縮小然后映射在硅片上,最后用化
2022-07-10 16:34:403116

佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)解決方案Lithography Plus

來源:佳能集團(tuán) 通過技術(shù)與數(shù)據(jù)優(yōu)勢(shì),提升光刻機(jī)的生產(chǎn)效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺(tái)“Lithography Plus1”服務(wù)(以下簡(jiǎn)稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:491195

除ASML之外的光刻機(jī)廠商們近況如何?

廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅(jiān)持開發(fā)并擴(kuò)展自己的光刻機(jī)業(yè)務(wù)。 尼康 尼康的光刻機(jī)產(chǎn)品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機(jī)、ArF步進(jìn)掃描光刻機(jī)、KrF掃描光刻機(jī)、i線步進(jìn)式光刻機(jī)和FPD面板光刻機(jī),基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:033222

佳能發(fā)售面向后道工藝的3D技術(shù)i線半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品

來源:佳能 通過100X100mm超大視場(chǎng)曝光 實(shí)現(xiàn)大型高密度布線封裝的量產(chǎn) ? 佳能將于2023年1月上旬發(fā)售面向后道工藝的半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品——i線※1步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-5520iV LF2
2022-12-08 17:48:46982

同時(shí)實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)與高解像力曝光 佳能發(fā)布半導(dǎo)體***新品

來源:佳能 佳能于3月13日發(fā)售面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品----i線※1步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-5550iX”,該產(chǎn)品能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)0.5μm(微米※2)高解像力與50×50mm大視場(chǎng)曝光
2023-03-14 17:25:02599

日本佳能發(fā)布新型***

來源:中國(guó)半導(dǎo)體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設(shè)備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創(chuàng)達(dá)午后
2023-10-17 11:07:23230

可繞過EUV量產(chǎn)5nm!佳能CEO:納米壓印設(shè)備無法賣到中國(guó)!

雖然目前在光刻機(jī)市場(chǎng),還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場(chǎng)份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了90%的市場(chǎng)份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機(jī)的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45486

佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)

來源:DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨,與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng),因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270

納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)用在即,能否掀起芯片制造革命?

壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注,是最有機(jī)會(huì)率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時(shí)候,根據(jù)英國(guó)金融時(shí)報(bào)的報(bào)道,負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時(shí)稱,采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標(biāo)最快在
2024-03-09 00:15:002918

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