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標簽 > 芯片制程
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存內(nèi)計算——助力實現(xiàn)28nm等效7nm功效
可重構(gòu)芯片嘗試在芯片內(nèi)布設可編程的計算資源,根據(jù)計算任務的數(shù)據(jù)流特點,動態(tài)構(gòu)造出最適合的計算架構(gòu),國內(nèi)團隊設計并在12nm工藝下制造的CGRA芯片,已經(jīng)...
功率MOSFET基本結(jié)構(gòu)之平面結(jié)構(gòu)
電流從漏極流向源極時,電流在硅片內(nèi)部橫向流動,而且主要從硅片的上表層流過,因此沒有充分應用芯片的尺寸;而且,這種結(jié)構(gòu)的耐壓,由柵極下面P層寬度和摻雜決定
淺談芯片制程工序中片內(nèi)&片間均勻性的定義和計算
均勻性是衡量工藝在晶圓上一致性的一個關鍵指標。比如薄膜沉積工序中薄膜的厚度;刻蝕工序中被刻蝕材料的寬度,角度等等,都可以考慮其均勻性。
英特爾成為全球最大半導體芯片制造商,2023年半導體行業(yè)營收展望
市調(diào)機構(gòu)Counterpoint Research指出,三星電子半導體部門2023年預估營收由2022年的7,020億美元銳減至4,340億美元,降幅高...
臺灣相關部門介紹,其中一個計劃重點在推動業(yè)界研究以7納米及以下芯片制程、先進異質(zhì)整合封裝技術(shù)、異質(zhì)整合微機電感測技術(shù)為主的新興芯片。此外,還推出了針對兩...
目前尚不清楚臺積電何時開始在日本建設第三座工廠。3納米芯片制程是目前商用的最先進芯片制造技術(shù),不過當新工廠開始批量生產(chǎn)時,3納米芯片可能已經(jīng)落后1-2代...
芯片制程的發(fā)展:從毫米到納米,人類智慧的結(jié)晶
在 20 世紀 60 年代,芯片制程技術(shù)還處于起步階段,當時的制程尺寸達到了 10 微米。這種毫米級的制程技術(shù)雖然較為粗糙,但已經(jīng)為計算機和通信設備的小...
? ? 中芯國際,作為當前我國技術(shù)最為先進,工藝最為成熟的芯片半導體代工廠商,堪稱是當下國內(nèi)半導體行業(yè)“全村的希望”。盡管面臨著技術(shù)的限制和先進光刻機設...
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