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進行MEMS制造的最基本需求是能夠沉積1到100微米之間的材料薄膜。NEMS的制造過程是基本一致的,膜沉積的測量范圍從幾納米到一微米。
STM32內(nèi)部自帶PVD功能,用于對MCU供電電壓VDD進行監(jiān)控。通過電源控制寄存器中的PLS[2:0]位可以用來設定監(jiān)控電壓的閥值,通過對外部電壓進行...
那么漸變色是怎么做出來的呢?PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的...
手機外殼材料的變化,推動納米注塑技術(shù)的發(fā)展
第二部手機大家都很熟悉,前面在久久精工的演講里也說過,應該是在此之前屏占比最高的一款手機——essential PHONE,這款手機也是用DSM的For...
蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動能太低,填充密度太低。
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