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MOCVD簡介

  MOCVD是在氣相外延生長(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型氣相外延生長技術(shù)。MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。系統(tǒng)簡介編輯定義MOCVD是在氣相外延生長(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型氣相外延生長技術(shù)。縮寫Metal-organic Chemical Vapor Deposition (金屬有機化合物化學氣相沉淀)。原理MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。通常MOCVD系統(tǒng)中的晶體生長都是在常壓或低壓(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不銹鋼)反應(yīng)室中進行,襯底溫度為500-1200℃,用射頻感應(yīng)加熱石墨基座(襯底基片在石墨基座上方),H2通過溫度可控的液體源鼓泡攜帶金屬有機物到生長區(qū)。

MOCVD百科

  MOCVD是在氣相外延生長(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型氣相外延生長技術(shù)。MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。系統(tǒng)簡介編輯定義MOCVD是在氣相外延生長(VPE)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型氣相外延生長技術(shù)??s寫Metal-organic Chemical Vapor Deposition (金屬有機化合物化學氣相沉淀)。原理MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。通常MOCVD系統(tǒng)中的晶體生長都是在常壓或低壓(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不銹鋼)反應(yīng)室中進行,襯底溫度為500-1200℃,用射頻感應(yīng)加熱石墨基座(襯底基片在石墨基座上方),H2通過溫度可控的液體源鼓泡攜帶金屬有機物到生長區(qū)。

  系統(tǒng)概況編輯組成因為MOCVD生長使用的源是易燃、易爆、毒性很大的物質(zhì),并且要生長多組分、大面積、薄層和超薄層異質(zhì)材料。因此在MOCVD系統(tǒng)的設(shè)計思想上,通常要考慮系統(tǒng)密封性,流量、溫度控制要精確,組分變換要迅速,系統(tǒng)要緊湊等。不同廠家和研究者所產(chǎn)生或組裝的MOCVD設(shè)備是不同的。 一般由 源供給系統(tǒng) 、氣體輸運和流量控制系統(tǒng)、反應(yīng)室及溫度控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全防護報警系統(tǒng)、自動操作及電控系統(tǒng)?!驹垂┙o系統(tǒng)】包括Ⅲ族金屬有機化合物、V族氫化物及摻雜源的供給。金屬有機化合物裝在特制的不銹剛的鼓泡器中,由通入的高純H2攜帶輸運到反應(yīng)室。為了保證金屬有機化合物有恒定的蒸汽壓,源瓶置入電子恒溫器中,溫度控制精度可達0.2℃以下。氫化物一般是經(jīng)高純H2稀釋到濃度5%一10%后,裝入鋼瓶中,使用時再用高純H2稀釋到所需濃度后,輸運到反應(yīng)室。摻雜源有兩類,一類是金屬有機化合物,另一類是氫化物,其輸運方法分別與金屬有機化合物源和氫化物源的輸運相同?!練怏w輸運系統(tǒng)】氣體的輸運管都是不銹鋼管道。為了防止存儲效應(yīng),管內(nèi)進行了電解拋光。管道的接頭用氫弧焊或VCR及Swagelok方式連接,并進行正壓檢漏及Snoop液體或He泄漏檢測,保證反應(yīng)系統(tǒng)無泄漏是MOCVD設(shè)備組裝的關(guān)鍵之一。流量是由不同量程、響應(yīng)時間快、精度高的質(zhì)量流量計和電磁閥、氣動閥等來實現(xiàn)。在真空系統(tǒng)與反應(yīng)室之間設(shè)有過濾器,以防油污或其它顆粒倒吸到反應(yīng)室中。為了迅速變化反應(yīng)室內(nèi)的反應(yīng)氣體,而且不引起反應(yīng)室內(nèi)壓力的變化,設(shè)置“run”和“vent,,管道。【反應(yīng)室和加熱系統(tǒng)】反應(yīng)室是由石英管和石墨基座組成。為了生長組分均勻、超薄層、異質(zhì)結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體材料,各生產(chǎn)廠家和研究者在反應(yīng)室結(jié)構(gòu)的設(shè)計上下了很大功夫,設(shè)計出了不同結(jié)構(gòu)的反應(yīng)室。石墨基座是由高純石墨制成,并包裹SIC層。加熱多采用高頻感應(yīng)加熱,少數(shù)是輻射加熱。由熱電偶和溫度控制器來控制溫度,一般溫度控制精度可達到0.2℃或更低。【尾氣處理系統(tǒng)】反應(yīng)氣體經(jīng)反應(yīng)室后大部分熱分解,但還有部分尚未完全分解,因此尾氣不能直接排放到大氣中,必須先進行處理,處理方法主要有高溫熱解爐再一次熱分解,再用硅油或高錳酸鉀溶液處理;也可以把尾氣直接通入裝有H2SO4+H2O及裝有NaOH溶液的吸濾瓶處理;也有的把尾氣通入固體吸附劑中吸附處理,以及用水淋洗尾氣等?!景踩Wo及報警系統(tǒng)】為了安全,一般的MOCVD系統(tǒng)還備有高純從旁路系統(tǒng),在斷電或其它原因引起的不能正常工作時,通入純N2保護生長的片子或系統(tǒng)內(nèi)的清潔。在停止生長期間也有常通高純N2保護系統(tǒng)?!臼謩雍妥詣涌刂葡到y(tǒng)】一般MOCVD設(shè)備都具有手動和微機自動控制操作兩種功能。在控制系統(tǒng)面板上設(shè)有閥門開關(guān)、各個管路氣體流量、溫度的設(shè)定及數(shù)字顯示,如有問題會自動報警,是操作者能及時了解設(shè)備運轉(zhuǎn)的情況。此外,MOCVD設(shè)備一般都設(shè)在具有強排風的工作室內(nèi)。優(yōu)點1 適用范圍廣泛,幾乎可以生長所有化合物及合金半導(dǎo)體;2 非常適合于生長各種異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料;3 可以生長超薄外延層,并能獲得很陡的界面過渡;4 生長易于控制;5 可以生長純度很高的材料;6 外延層大面積均勻性良好;7 可以進行大規(guī)模生產(chǎn)。

  國內(nèi)外發(fā)展編輯中國MOCVD系統(tǒng)發(fā)展2012年12月12號,中國首臺具有世界先進水平的大型國產(chǎn)MOCVD設(shè)備發(fā)運慶典在張江高新區(qū)核心園舉行。作為LED芯片生產(chǎn)過程中最為關(guān)鍵的設(shè)備,MOCVD的核心技術(shù)長期被歐美企業(yè)所壟斷,嚴重制約了中國LED產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展。中晟光電設(shè)備上海有限公司于2012年1月18日成功實現(xiàn)了擁有自主創(chuàng)新知識產(chǎn)權(quán)的具有世界先進水平的大型國產(chǎn)MOCVD設(shè)備下線,僅用了10個月時間,又完成了工藝的開發(fā)和設(shè)備進一步的改進優(yōu)化,完成了設(shè)備產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)必備條件與設(shè)施的建立;在此基礎(chǔ)上又完成了4家客戶的多次實地考察,親臨操作設(shè)備和驗證各項工藝??蛻舫浞挚隙酥嘘稍O(shè)備的技術(shù)方向和設(shè)計上的世界先進性,也對設(shè)備用于大規(guī)模生產(chǎn)提出了進一步改進的建設(shè)性要求。使該設(shè)備同時具有目前世界上最高的系統(tǒng)產(chǎn)能、最低的外延生產(chǎn)成本、良好的波長均勻性、大規(guī)模外延生產(chǎn)所需的各項關(guān)鍵性能等4項核心的差異競爭力。這次我國首臺具有世界先進水平的大型國產(chǎn)MOCVD設(shè)備成功發(fā)運,不僅標志著在實現(xiàn)中國大型MOCVD設(shè)備國產(chǎn)化戰(zhàn)略目標的征途上,中晟邁開了具有里程碑意義的一步,而且充分體現(xiàn)了中國有能力在高端裝備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)跨越式的發(fā)展。國外MOCVD系統(tǒng)發(fā)展隨著化合物半導(dǎo)體器件(如 GaAs MMIC、 InP MMIC以及GaN藍光LED)市場的不斷擴大,MOCVD系統(tǒng)的需求量不斷增長。國際上實力最為雄厚的MOCVD系統(tǒng)制造商有:德國Aixtron公司、美國的Emcore公司(其MOCVD已被Veeco兼并)、英國的Thomass~(1999年被Aixtron兼并)等。因為MOCVD系統(tǒng)最關(guān)鍵的問題就是保證材料生長的均勻性和重復(fù)性,因此不同廠家的MOCVD系統(tǒng)最主要的區(qū)別在于反應(yīng)室結(jié)構(gòu)。Aixtron采用行星反應(yīng)(Planetary Reactor),Emcore采用TurboDisc反應(yīng)室(該業(yè)務(wù)己出售給Veeco公司)、Thomas Swan(該公司于2003年2月份被Aixtron兼并)采用 Closed Coupled Showerhead(CCS)反應(yīng)室。國內(nèi)擁有的進口MOCVD系統(tǒng)700臺左右,其中 Aixtron MOCVD系統(tǒng)和Emcore MOCVD系統(tǒng)占絕大多數(shù),有少量的 Thomas Swan MOCVD系統(tǒng)、法國ASM MOCVD系統(tǒng)和日本RIPPON SANSO MOCVD系統(tǒng),主要用于GaN LD/LED的研究和制造。

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mocvd知識

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mocvd技術(shù)

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市場研究機構(gòu)IHS Markit最新報告針對LED行業(yè)提出了一些觀點: ◆在對供應(yīng)商的采購計劃進行評估后,IHS Markit預(yù)測,2018年將新建33...

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華為哈勃投資入股了長光華芯,有望進入華為激光雷達產(chǎn)業(yè)鏈

在近日發(fā)布的長光華芯招股說明書中,我們可以發(fā)現(xiàn)華為哈勃投資入股了長光華芯,持有其4.98%股份。華為布局激光雷達產(chǎn)業(yè)鏈的目的不言而喻,也使得長光華芯有望...

2021-06-29 標簽:芯片光刻MOCVD 6217 0

乾照光電/歐普照明/利亞德/三星近期動向分析

國內(nèi)各大芯片廠均在大舉擴充產(chǎn)能,在此背景下,MOCVD設(shè)備迎來重大利好。愛思強作為MOCVD設(shè)備國際大廠,在業(yè)內(nèi)已形成良好的聲譽,其設(shè)備已在大多數(shù)芯片廠...

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2019-01-14 標簽:MOCVDMicroLED 5711 0

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    LG Display(紐約證券交易所:LPL,韓交所:034220)是一家生產(chǎn)薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)面板、OLED和柔性顯示器的領(lǐng)先制造商。1987年LG Display開始開發(fā)TFT-LCD,目前提供應(yīng)用了不同尖端科技(IPS,OLED和柔性技術(shù))的多種尺寸、規(guī)格的顯示面板。
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