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  與平面工藝相比,F(xiàn)inFET的復雜性一般會導致更加昂貴的制造工藝,F(xiàn)inFET降低了工作電壓,提高了晶體管效率,對靜態(tài)功耗(線性)和動態(tài)功耗(二次方)都有積極作用??晒?jié)省高達50%的功耗。性能也更高——在0.7V上,性能(吞吐量)比平面工藝高37%。

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