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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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不使用EUV突破1nm極限?美國推出全新光刻系統(tǒng),分辨率0.768nm!
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)最近,一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1,據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0...
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
傳臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉EUV光刻機(jī)來減少產(chǎn)能
一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī),一天就能省下3萬度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣(約合人民幣0.55元...
臺(tái)積電基于GAA技術(shù)的2nm制程將會(huì)在2025年量產(chǎn)
臺(tái)積電2021 年12,000 種產(chǎn)品,其中采用了300 多種制程,這些都是生態(tài)系合作的結(jié)果,沒有生態(tài)系的支持,臺(tái)積電就沒辦法進(jìn)步。
2022-09-06 標(biāo)簽:臺(tái)積電芯片設(shè)計(jì)EUV 3442 0
A股半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國產(chǎn)光刻膠的中流砥柱
光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代?中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何?光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力?在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間,徐州博康公司董事長傅志偉...
基于EUV技術(shù),制程工藝演進(jìn)到intel4,激發(fā)千倍算力怎么做?英特爾宋繼強(qiáng)揭示前沿半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新路徑
如何突破算力的瓶頸?如何讓不同架構(gòu)的處理器在硬件架構(gòu)布局上發(fā)揮最大協(xié)同作用?從終端側(cè)、到邊緣再到服務(wù)器,如何對不同級別的硬件進(jìn)行加速?英特爾研究院副總裁...
小芯片與單片的決定現(xiàn)在變得更加困難。一旦考慮到封裝成本,單片芯片的制造成本很可能會(huì)更便宜。此外,小芯片設(shè)計(jì)存在一些電力成本。在這種情況下,構(gòu)建一個(gè)大型單...
Intel 4 工藝對于英特爾來說是一個(gè)重要的里程碑,因?yàn)樗怯⑻貭柕谝粋€(gè)集成 EUV 的工藝,也是第一個(gè)跨越陷入困境的 10nm 節(jié)點(diǎn)的工藝。對于英特...
泛林集團(tuán)、Entegris 和 Gelest 攜手推進(jìn) EUV 干膜光刻膠技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)
這一使用突破性技術(shù)的合作將為全球芯片制造商提供強(qiáng)大的化學(xué)品供應(yīng)鏈,并支持下一代 EUV 應(yīng)用的研發(fā) 北京時(shí)間2022年7月15日——泛林集團(tuán) (NASD...
2022-07-19 標(biāo)簽:EUV泛林集團(tuán) 808 0
光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...
euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生...
duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...
光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對芯片晶圓進(jìn)行掃...
說到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道...
euv光刻機(jī)目前幾納米 中國5納米光刻機(jī)突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?,F(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先...
在半導(dǎo)體制造過程中,光刻機(jī)是最核心的設(shè)備,同時(shí),也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求:覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準(zhǔn)分子激光,光源的波長能達(dá)到193納米。
euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)
中國芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
半導(dǎo)體設(shè)備將再度面臨交期延長至18~30個(gè)月?
市調(diào)機(jī)構(gòu)TrendForce在最新研報(bào)指出,半導(dǎo)體設(shè)備又再度面臨交期延長至18~30個(gè)月不等的困境。
2納米即將進(jìn)入下世代的埃米(angstorm)時(shí)代布局
英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業(yè)界首臺(tái) High-NA 量產(chǎn)型 EUV 設(shè)備 EXE:5200,其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量...
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