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      標簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：593個 瀏覽：86065次 帖子：0個

      euv資訊

      日韓貿(mào)易戰(zhàn)愈演愈烈 將直接影響三星電子EUV工藝研發(fā)進度

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      2019-07-14 標簽：三星電子臺積電EUV 3833 0

      euv光刻機用途是什么

      光刻機是當前半導體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設備，其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUV 3819 0

      消息稱三星5nm等部分工藝良率低于50%，三星沒否認

      在全球晶圓代工市場上，臺積電的市場份額超過了50%，位居第一，其產(chǎn)能和技術都是領先的。排名第二的三星拿下了超過20%的市場份額，先進工藝直追臺積電，高通...

      2021-07-05 標簽：芯片代工EUV5nm 3818 0

      光刻成為摩爾定律的前沿 制造工藝成主要瓶頸

      光刻成為摩爾定律的前沿 制造工藝成主要瓶頸

      十多年來，半導體制造行業(yè)一方面一直在期待EUV能夠拯救摩爾定律，但另一方面又擔心該技術永遠都不會出現(xiàn)。不過最終，它還是來了，而且不久便將投入使用。

      2020-01-26 標簽：摩爾定律光刻EUV 3815 0

      三星最先進EUV產(chǎn)線投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

      V1產(chǎn)線/工廠2018年2月動工，2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動芯片的生產(chǎn)...

      2020-02-21 標簽：三星電子EUV 3812 0

      國產(chǎn)光刻膠市場前景 國內(nèi)廠商迎來發(fā)展良機

      半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進口依賴較重，不同品質(zhì)之間價 格差異大。以國內(nèi) PAG 對應的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF ...

      2022-11-18 標簽：半導體EUV光刻膠 3807 0

      光刻機行業(yè)需求空間廣闊，國產(chǎn)設備有優(yōu)勢嗎？

      光刻機技術壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術的發(fā)展。

      2020-02-21 標簽：光刻機euv 3793 0

      Cadence 數(shù)字全流程解決方案通過三星5LPE工藝認證

      采用極紫外（EUV）光刻技術的Cadence 數(shù)字全流程解決方案已通過Samsung Foundry 5nm早期低功耗版（5LPE）工藝認證。

      2019-07-11 標簽：三星電子EUV 3765 0

      傳三星與SK海力士正在研發(fā)EUV技術 未來有機會藉此將生產(chǎn)DRAM的成本降低

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      2018-10-29 標簽：DRAM三星電子EUV 3755 0

      芯片制造關鍵的EUV光刻機單價為何能超1億歐元？

      進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折...

      2017-01-19 標簽：芯片制造光刻機EUV 3744 0

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      三星將在明年推5/4nmEUV工藝 2020年推3nmEUV工藝

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      2018-09-06 標簽：三星電子FinFETEUV 3673 0

      臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

      臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術，意義非凡。

      2019-05-28 標簽：臺積電光刻EUV 3673 0

      三星首次分享了基于EUV技術的7nm工藝細節(jié)

      另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污...

      2018-06-22 標簽：三星電子euv 3668 0

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