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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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euv資訊

荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破,預(yù)計(jì)會在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化

? ? 11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...

2020-12-09 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVASML 4473 0

不使用EUV突破1nm極限?美國推出全新光刻系統(tǒng),分辨率0.768nm!

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)最近,一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1,據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0...

2022-09-27 標(biāo)簽:光刻EUV 4467 0

什么是EUV***?

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別,從...

2023-05-22 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV7nm芯片 4359 0

為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢

EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電...

2021-02-14 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)EUV 4284 0

臺積電張忠謀細(xì)數(shù)半導(dǎo)體十大發(fā)明

臺積電(2330)創(chuàng)辦人張忠謀今在國際半導(dǎo)體展(SEMICON TAIWAN)IC60大師論壇,以《半導(dǎo)體業(yè)的重要?jiǎng)?chuàng)新看半導(dǎo)體公司的盛衰》為題,指出晶圓...

2018-09-06 標(biāo)簽:臺積電AIEUV 4272 0

全球第一家!臺積電官宣2nm工藝!

這幾年,雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩,但是在半導(dǎo)體工藝上,幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進(jìn)入10nm工藝時(shí)代并將在后年轉(zhuǎn)入7nm,臺積電、...

2019-06-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體臺積電晶體管 4260 0

美光公布DRAM和NANDFlash的最新技術(shù)線路圖 將持續(xù)推進(jìn)1ZnmDRAM技術(shù)及研發(fā)128層3DNAND

作為全球知名的存儲器廠商,近日,美光召開了2019年投資者大會,在大會中上,美光展示了DRAM和NAND Flash下一代技術(shù)的發(fā)展以及規(guī)劃。

2019-05-24 標(biāo)簽:DRAMNAND美光 4232 0

臺積電的5納米和3納米都將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

臺積電供應(yīng)鏈管理論壇高度強(qiáng)調(diào)未來前景正面樂觀,外資買盤昨天重新點(diǎn)火,推升股價(jià)大漲6元,以312元作收,市值重回8.09兆元,外資轉(zhuǎn)為買超1萬4,561張。

2019-12-06 標(biāo)簽:臺積電晶圓euv 4219 0

ASML一騎絕塵,EUV光刻機(jī)出貨過半!國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展提速!

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)半導(dǎo)體設(shè)備廠商目前的銷售情況如何?今年以來,芯片產(chǎn)能不足之下全球各地加快建廠擴(kuò)產(chǎn),這帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備廠商銷售持續(xù)高增長。近日...

2021-10-22 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 4208 0

ASML放棄EUV光罩防塵薄膜研發(fā)并技轉(zhuǎn)日本三井化學(xué)

ASML將中斷EUV Pellicle(光罩防塵薄膜)技術(shù)的研發(fā),并將該技術(shù)轉(zhuǎn)讓與日本。

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三大半導(dǎo)體廠微影技術(shù)進(jìn)度一覽

三大半導(dǎo)體廠微影技術(shù)進(jìn)度一覽

臺積電總裁暨執(zhí)行長魏哲家在日前法人說明會中指出,7+nm良率推進(jìn)情況良好,預(yù)期第二季后進(jìn)入量產(chǎn)階段,臺積電已經(jīng)與數(shù)家客戶合作,協(xié)助其第二代或第三代產(chǎn)品設(shè)...

2019-02-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體臺積電EUV 4138 0

疫情或使三星與臺積電的差距進(jìn)一步擴(kuò)大 5nm工藝將遙遙無期

4月14日消息,據(jù)《韓國商業(yè)報(bào)》報(bào)道,荷蘭ASML是全球唯一一家生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的制造商。由于受到疫情影響,荷蘭ASML公司很難將設(shè)備出口,這給三星、臺...

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英特爾確定的7納米制程會支援新一代EUV技術(shù)

隨著晶圓代工廠臺積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光(EUV)微影技術(shù),并會在2019年進(jìn)入量產(chǎn)階段,半導(dǎo)體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的...

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半導(dǎo)體技術(shù)微縮,新材料、材料純度和污染控制扮演重要角色

然而,真正讓芯片效能提升的關(guān)鍵,并非只是晶體管越做越小,也可以用 3D 制程取代 2D,或是導(dǎo)入新材料來提升性能,像是 1997 年 IBM 在半導(dǎo)體制...

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鴻蒙OS的合作伙伴中,京東排在第一位

華為并非三星和微軟,令人欣慰的是,在華為宣布鴻蒙系統(tǒng)上線后,生態(tài)圈里已吸引了京東、銀聯(lián)、百度地圖等120多家企業(yè)的加盟。

2021-01-11 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV5nm 4018 0

ASML的EUV***研發(fā)歷程

asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊,也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年,asml推出了世界...

2023-06-08 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVASML 3985 0

臺積電EUV設(shè)備明年將超50臺 劍橋大學(xué)繼續(xù)和華為進(jìn)行5G合作

據(jù)臺灣媒體消息,全年臺積電已向ASML下單量約15-16臺,而2021年至少13臺,估計(jì)全年需求約可達(dá)16-17臺。臺積電在先進(jìn)制程的優(yōu)勢逐漸擴(kuò)大,與研...

2020-11-16 標(biāo)簽:臺積電華為EUV 3935 0

臺積電投資250億美元建廠,明年4月試產(chǎn)5nm EUV工藝

在7nm及以下節(jié)點(diǎn)上,臺積電的進(jìn)展是最快的,今年量產(chǎn)7nm不說,最快明年4月份就要試產(chǎn)5nm EUV工藝了,不過這個(gè)節(jié)點(diǎn)的投資花費(fèi)也是驚人的,臺積電投資...

2018-10-08 標(biāo)簽:臺積電EUV5nm 3883 0

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