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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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英特爾與GlobalFoundries分別介紹介電質(zhì)材料不同的新一代制程技術(shù)細(xì)節(jié)
在2017年度IEEE國際電子組件會議(IEDM)上,Intel與GlobalFoundries分別介紹了讓人眼前一亮的新一代制程技術(shù)細(xì)節(jié)。
韓國《中央日報》發(fā)布消息稱,三星電子已成功研發(fā)出5納米(nm)半導(dǎo)體工藝,并于4月中正式量產(chǎn)首個利用極紫外光刻(EUV)的7納米芯片。對于新一代半導(dǎo)體的...
三星揭露3納米制程技術(shù)路線圖以及7納米投產(chǎn)進(jìn)度
三星周二舉行晶圓代工技術(shù)論壇(Samsung Foundry Forum),同時揭露發(fā)展3納米制程的技術(shù)路圖,以及7納米投產(chǎn)進(jìn)度,將搶攻高端運算與聯(lián)網(wǎng)裝置市場。
蘋果A13芯片將采用臺積電第二代7nm工藝 并率先采用EUV光刻技術(shù)
彭博報道稱,臺積電已于4月份就開始了蘋果A13芯片的早期測試生產(chǎn)階段,并且計劃在本月進(jìn)行量產(chǎn)。預(yù)計A13芯片將采用臺積電的第二代7nm工藝,并且率先采用...
SK海力士:采用EUV技術(shù)的第四代10納米級DRAM已量產(chǎn)
近日,SK海力士在官網(wǎng)宣布,適用第四代10納米(1a)級工藝的 8Gigabit(Gb)LPDDR4 移動端DRAM(動態(tài)隨機存儲器)產(chǎn)品已于7月初開始...
三星宣布已正式使用7納米LPP制程來生產(chǎn)晶圓 功耗降低50%效能提升提高20%
晶圓代工大廠三星宣布,正式開始使用其7納米LPP制程來生產(chǎn)晶圓。三星的7納米LPP制程中使用極紫外光刻(EUV)技術(shù),這將使三星7納米LPP制程能夠明顯...
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)作為目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備,EUV光刻機的誕生是由各個部件在技術(shù)上的集體突破才最終成型的,比如光刻膠、掩膜板和鏡組...
EUV光刻技術(shù)競爭激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認(rèn)證,臺積電緊追其后
在晶圓代工市場,臺積電與三星的競爭始終是大家關(guān)心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶,但在7納米制程節(jié)點,高通預(yù)計會轉(zhuǎn)投臺積電,三星要想受更多客戶的青睞,...
目前在幾乎所有的半導(dǎo)體廠商普及7nm,部分甚至進(jìn)入5nm工藝的時候,英特爾仍然打磨自家的14nm工藝,當(dāng)然打磨了之后還是有成果的,那就是頻率已經(jīng)突破天際...
半導(dǎo)體細(xì)微化技術(shù)陷入瓶頸 EUV成救星
半導(dǎo)體細(xì)微化(Scaling)是目前半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的話題之一。隨著DRAM等的芯片元器件在內(nèi)的大部分電子元器件和存儲單元趨于超小型化,對于高度集成技術(shù)...
臺積電第四季度凈利潤1428億新臺幣,今年資本支出預(yù)計提高50%
1月14日,臺積電公布了2020年第四季度財報,截止去年12月31日,該季營業(yè)收入達(dá)3615億新臺幣,約合126.8億美元,凈利潤達(dá)1428億新臺幣。與...
摩爾定律的三種發(fā)展方向,EUV制程技術(shù)勢在必行
從2017到2018年,全球IC制造產(chǎn)業(yè)資本投資規(guī)模達(dá)到高峰,近兩年總投資均超過920億美元規(guī)模。目前中國臺灣IC制造產(chǎn)業(yè)仍以晶圓代工貢獻(xiàn)最主要產(chǎn)值,隨...
7納米EUV制程戰(zhàn)火燃 臺積電3月領(lǐng)先量產(chǎn)
延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢,臺積電支援極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7納米加強版(7+)制程將按既定時程于3月底正式量產(chǎn),而全程采用EUV技術(shù)的5納米制程也將...
中芯國際CEO趙海軍:EUV將在7nm形成主流 專注生產(chǎn)大技術(shù)
中芯國際CEO趙海軍表示,摩爾定律現(xiàn)在還在繼續(xù)發(fā)展,EUV將在7nm形成主流,EUV變化非常大,很多環(huán)節(jié)都要重新開始,變化來的太快。28納米工藝如果到7...
據(jù)中國證券報報道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺大型光刻機,但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴充,并非外界所稱的EUV光刻機。
全球三大晶圓代工廠今年將導(dǎo)入極紫外光微影技術(shù) 家登EUV光罩盒將大出貨
全球三大晶圓代工廠臺積電、英特爾、三星,最快將在2019年導(dǎo)入極紫外光微影技術(shù)(EUV),值得注意的是,全球可提供EUV光罩盒的業(yè)者只有兩家,家登是其中...
三星電子副會長李在镕近日參觀正在開發(fā)“全球第一個3納米級半導(dǎo)體工藝”的韓國京畿道華城半導(dǎo)體工廠,并聽取了關(guān)于3納米工藝技術(shù)的報告,他還與三星電子半導(dǎo)體部...
基于EUV技術(shù),制程工藝演進(jìn)到intel4,激發(fā)千倍算力怎么做?英特爾宋繼強揭示前沿半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新路徑
如何突破算力的瓶頸?如何讓不同架構(gòu)的處理器在硬件架構(gòu)布局上發(fā)揮最大協(xié)同作用?從終端側(cè)、到邊緣再到服務(wù)器,如何對不同級別的硬件進(jìn)行加速?英特爾研究院副總裁...
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