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      標簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：593個 瀏覽：86065次 帖子：0個

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      競購EUV機臺，三星的計劃真能得逞嗎？

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      2017-10-24 標簽：三星電子euv 6213 0

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      3月3日晚間，中芯國際在港交所公告，根據(jù)批量采購協(xié)議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間，就購買阿斯麥產(chǎn)品與阿斯麥集團簽訂購買單，...

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      浸潤式微影技術(shù)強勢晉級，EUV技術(shù)可有出頭日？

      浸潤式微影技術(shù)、多重圖形以及高折射率液體，將讓193納米微影設(shè)備走到國際半導體技術(shù)藍圖（ITRS）目前的終點：8納米。屆時，EUV技術(shù)可有出頭日？

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      中國光刻機技術(shù)取得關(guān)鍵性突破

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      2021-02-26 標簽：芯片制造光刻機 5704 0

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      AMSL：截止2019年，EUV設(shè)備加工了450萬片晶圓

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      針對近幾日多家媒體報道的有關(guān)ASML公司對中芯國際訂購的EUV光刻機設(shè)備有意延遲的推測。二家公司今日均發(fā)表內(nèi)容回應。 ASML回應如下： 關(guān)于日經(jīng)新聞（...

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      2019-05-25 標簽：臺積電晶圓EUV 5076 0

      DRAM制程分享

      追求更小的 DRAM 單元尺寸（cell size)仍然很活躍并且正在進行中。對于 D12 節(jié)點，DRAM 單元尺寸預計接近 0.0013 um2。無...

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      沒有EUV設(shè)備的中國芯片制造業(yè)

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