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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī),將用于14A制程
半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發(fā)布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無(wú)疑...
2024-04-19 標(biāo)簽:英特爾EUV半導(dǎo)體設(shè)備 602 0
半導(dǎo)體和顯示材料開(kāi)發(fā)商石墨烯實(shí)驗(yàn)室于11月14日宣布,其已開(kāi)發(fā)出用石墨烯制造小于5納米的EUV薄膜(pellicles)的技術(shù),并已準(zhǔn)備好量產(chǎn)新型薄膜。
后門(mén)!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!
來(lái)源:國(guó)芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電從ASML購(gòu)買(mǎi)的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門(mén),可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程...
臺(tái)積電魏哲家與ASML高層會(huì)面,是否有意購(gòu)買(mǎi)高數(shù)值孔徑極紫外光機(jī)臺(tái)?
此前,該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示,過(guò)早引入High-NA EUV并無(wú)太大經(jīng)濟(jì)效益,直到日前其秘密訪(fǎng)問(wèn)ASML總部,使市場(chǎng)猜測(cè)臺(tái)積電是否因此事發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。
2024-05-29 標(biāo)簽:臺(tái)積電EUV半導(dǎo)體行業(yè) 580 0
處理器去年漲價(jià)20% 今年還要漲?Intel回應(yīng)了
不出意外的話(huà),Intel將于10月份發(fā)布14代酷睿及全新的酷睿Ultra處理器,但在喜迎新品的同時(shí)還有傳聞稱(chēng)Intel又要漲價(jià)了。
2023-07-30 標(biāo)簽:處理器神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)SoC芯片 574 0
來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺(tái)積電以及日本即將落成的先進(jìn)晶圓代工廠(chǎng) Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將...
ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效...
光刻膠技術(shù)創(chuàng)新引領(lǐng)共性難題解決新方向
隨著半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)不斷發(fā)展至100納米甚至更小的10納米級(jí)別,如何制作出尺寸精度高、表面特征優(yōu)秀、線(xiàn)邊緣粗糙度低的光刻圖形已逐漸成為整個(gè)行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)。
2024-04-02 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造EUV光刻膠 555 0
李在镕會(huì)長(zhǎng)訪(fǎng)問(wèn)蔡司總部,強(qiáng)化半導(dǎo)體技術(shù)和高端設(shè)備合作
蔡司作為ASML EUV光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)唯一供應(yīng)商,其提供的三萬(wàn)余個(gè)組件構(gòu)成了每臺(tái)EUV光刻機(jī)的核心部分,同時(shí)在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域持有超過(guò)2000項(xiàng)關(guān)鍵專(zhuān)利。
ASML:訂單總額達(dá)45億歐元,其中16億歐元是EUV設(shè)備
據(jù)asml公布的財(cái)務(wù)報(bào)告顯示,第二季度凈銷(xiāo)售額為69億歐元,總利潤(rùn)率為51.3%,凈利潤(rùn)為19億歐元。asml首席執(zhí)行官peter wennink表示:...
臺(tái)積電營(yíng)收強(qiáng)勢(shì)攀升,AI/HPC業(yè)務(wù)表現(xiàn)搶眼
從客戶(hù)構(gòu)成來(lái)看,臺(tái)積電在2023年的營(yíng)收中,蘋(píng)果占據(jù)了25%的份額,穩(wěn)居第一。
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機(jī),將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機(jī)計(jì)劃。據(jù)報(bào)道,ASML預(yù)計(jì)2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(jī)(EUV),將縮小最高電晶體密度芯片的設(shè)計(jì)限制。 ASML前...
臺(tái)積電在2nm制程技術(shù)上展開(kāi)防守策略
臺(tái)積電的2nm技術(shù)是3nm技術(shù)的延續(xù)。一直以來(lái),臺(tái)積電堅(jiān)定地遵循著每一步一個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)的演進(jìn)策略,穩(wěn)扎穩(wěn)打,不斷突破。
ASML將每年投資1億歐元建設(shè)柏林工廠(chǎng)
ASML總經(jīng)理George Gomba表示:“在這里,勞動(dòng)力也將會(huì)增加。”gomba表示,從2022年初開(kāi)始增加了600名職員。該公司目前在首都地區(qū)擁有...
2023-11-21 標(biāo)簽:制造工廠(chǎng)EUVASML 521 0
IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心
12 月 12 日消息,今天早些時(shí)候,紐約州長(zhǎng)凱西?霍楚爾(Kathy Hochul )宣布與 IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子(東京威力科創(chuàng))等半導(dǎo)體...
Aston 過(guò)程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量
上海伯東日本 Atonarp Aston? 過(guò)程質(zhì)譜分析儀通過(guò)快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...
2023-06-20 標(biāo)簽:晶圓EUVEUV光刻機(jī) 509 0
三星電子決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè)EUV晶圓廠(chǎng)
據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,韓國(guó)媒體在本周早些時(shí)候的報(bào)道中稱(chēng),三星電子在美國(guó)新建芯片工廠(chǎng)的計(jì)劃,預(yù)計(jì)會(huì)在本月底宣布。 而從韓國(guó)媒體最新的報(bào)道來(lái)看,三星電子考慮在美國(guó)...
ASML CEO傅恪禮:亞洲將繼續(xù)主導(dǎo)芯片行業(yè)
ASML總裁兼CEO傅恪禮近日在接受外媒采訪(fǎng)時(shí)指出,盡管西方國(guó)家正在積極增加芯片生產(chǎn),但亞洲在芯片行業(yè)中的主導(dǎo)地位不太可能發(fā)生改變。
臺(tái)積電發(fā)布Q1財(cái)報(bào) 地震損失約為6.6億元人民幣
臺(tái)積電對(duì)于未來(lái)的生產(chǎn)前景充滿(mǎn)信心,并預(yù)計(jì)將在第二季度內(nèi)有效彌補(bǔ)大部分生產(chǎn)損失。
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