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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心啟動(dòng),將聚焦5nm及以下集成電路研發(fā)
國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心、國(guó)家智能傳感器創(chuàng)新中心啟動(dòng)會(huì)7月3日在上海舉行。國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心將圍繞5nm及以下集成電路,聚焦四大共性技術(shù),支持國(guó)產(chǎn)高端芯片...
摩爾定律的三種發(fā)展方向,EUV制程技術(shù)勢(shì)在必行
從2017到2018年,全球IC制造產(chǎn)業(yè)資本投資規(guī)模達(dá)到高峰,近兩年總投資均超過(guò)920億美元規(guī)模。目前中國(guó)臺(tái)灣IC制造產(chǎn)業(yè)仍以晶圓代工貢獻(xiàn)最主要產(chǎn)值,隨...
三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)
另外,7nm EUV的好處還在于,比多重曝光的步驟要少,也就是相同時(shí)間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然,這里說(shuō)的是最理想的情況, 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污...
光刻機(jī)發(fā)展分析:光刻機(jī)國(guó)內(nèi)外主要廠商與市場(chǎng)現(xiàn)狀分析
中國(guó)目前的光刻機(jī)技術(shù)還在起步探索階段,雖然取得了一些小成就,但離國(guó)外先進(jìn)技術(shù)差距還很大,希望通過(guò)目前科研人員的努力,能真正用上性能強(qiáng),穩(wěn)定性高的高端國(guó)產(chǎn)芯片。
三星 SAFE計(jì)劃現(xiàn)在已可提供與Synopsys的Lynx設(shè)計(jì)系統(tǒng)兼容的經(jīng)認(rèn)證
Synopsys宣布,Synopsys Design Platform已通過(guò)全球領(lǐng)先半導(dǎo)體技術(shù)企業(yè)三星電子的工藝認(rèn)證,支持三星代工部門的8nm LPP(...
EUV技術(shù)量產(chǎn)進(jìn)入最后沖刺階段
盡管極紫外光(EUV)步進(jìn)機(jī)的大量生產(chǎn)面臨復(fù)雜的問(wèn)題以及緊迫的時(shí)間,專家們?nèi)匀槐С謽?lè)觀態(tài)度...
EUV光刻技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認(rèn)證,臺(tái)積電緊追其后
在晶圓代工市場(chǎng),臺(tái)積電與三星的競(jìng)爭(zhēng)始終是大家關(guān)心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶,但在7納米制程節(jié)點(diǎn),高通預(yù)計(jì)會(huì)轉(zhuǎn)投臺(tái)積電,三星要想受更多客戶的青睞,...
據(jù)知情人士透露,中國(guó)最大的晶圓代工廠中芯國(guó)際已經(jīng)訂購(gòu)了一臺(tái)EUV設(shè)備,在中美兩國(guó)貿(mào)易緊張的情況下,此舉旨在縮小與市場(chǎng)領(lǐng)先者的技術(shù)差距,確保關(guān)鍵設(shè)備的供應(yīng)...
ASML計(jì)劃在2018年生產(chǎn)20臺(tái)EUV光刻機(jī)
EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī),是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備,因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一,能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路,所...
韓國(guó)三星為了多元化營(yíng)收來(lái)源,這兩年晶圓代工業(yè)務(wù)為重點(diǎn)發(fā)展項(xiàng)目,2018年率先推出7納米EUV制程,搶在臺(tái)積電、格羅方德與英特爾之前推出。但三星如今似乎“...
如何發(fā)現(xiàn)EUV過(guò)程中產(chǎn)生的缺陷
而以上所說(shuō)的化學(xué)反應(yīng)就是隨機(jī)缺陷產(chǎn)生的源頭,然而最大的困難就是這些反應(yīng)中存在這許多未知因素的干擾?!坝捎谶@一復(fù)雜的物理化學(xué)反應(yīng)過(guò)程存在著一些未知因素,因...
臺(tái)積電宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個(gè)時(shí)間表
持續(xù)同時(shí)朝多面向快速進(jìn)展的晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC),于美國(guó)硅谷舉行的年度技術(shù)研討會(huì)上宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn),并將有一個(gè)采用極紫外光微影(EUV)...
微電子產(chǎn)業(yè)特種化學(xué)品和材料解決方案廠商英特格 (Entegris) 宣布,新一代的光罩盒已獲得半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備商艾司摩爾 (ASML) 的認(rèn)證,可用于極紫...
臺(tái)積電與三星下重金,ASML 2019年EUV產(chǎn)量訂單有望全滿
《巴倫》報(bào)導(dǎo),芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)可能要比大多數(shù)人想像的要好,瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認(rèn)為,艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺(tái)...
臺(tái)積投資加大封裝的擴(kuò)產(chǎn) 7納米強(qiáng)化版極紫外光技術(shù)進(jìn)入量產(chǎn)
臺(tái)積電每年獎(jiǎng)勵(lì)優(yōu)良供應(yīng)商中,幾乎以外商為主,包括美商應(yīng)材、科林研發(fā)、荏原制作所、臺(tái)灣先藝科技、日立國(guó)際、日商豪雅、信越化學(xué)及信越半導(dǎo)體和勝高等。
三星投資60億美元7nm EUV工廠動(dòng)工 后者驍龍芯片可能誕生于此
據(jù)報(bào)道,三星投資60億美元建設(shè)的新的半導(dǎo)體工廠已經(jīng)破土動(dòng)工,此工廠主用于擴(kuò)充7nm EUV的產(chǎn)能,有人猜測(cè)后者的驍龍芯片將可能會(huì)在這里誕生。
EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠(yuǎn)
EUV被認(rèn)為是推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑,但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進(jìn)程來(lái)看,10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,就是5nm...
臺(tái)積電2019年10納米及7納米年總產(chǎn)能較今年將增加3倍
晶圓代工龍頭臺(tái)積電7納米已進(jìn)入量產(chǎn),第四季可望再爭(zhēng)取到超微(AMD)中央處理器及高通智能手機(jī)芯片訂單,并在明年放量投片。外資圈指出,臺(tái)積電2019年10...
三星首曝基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)
本周在火奴魯魯舉行的VLSI(超大規(guī)模集成電路)研討會(huì)上,三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)。
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