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euv

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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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euv資訊

新思科技加快下一代設(shè)計(jì) 設(shè)計(jì)平臺(tái)成功獲的TSMC 5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證

IC Compiler II和Design Compiler Graphical提供了統(tǒng)一流程,實(shí)現(xiàn)最低功耗、最佳性能和最優(yōu)面積。 StarRC、Pr...

2018-10-23 標(biāo)簽:TSMC新思科技EUV 5644 0

麒麟990處理器或采用臺(tái)積電EUV技術(shù) 7納米+加強(qiáng)版制程預(yù)計(jì)2019年的第1季進(jìn)行流片

日前,才在英國倫敦發(fā)布會(huì)上展出4款Mate 20系列手機(jī),以及新款麒麟980處理器的華為,根據(jù)外電報(bào)導(dǎo),更新一代的麒麟990處理器也已經(jīng)發(fā)展到一個(gè)階段。...

2018-10-22 標(biāo)簽:處理器臺(tái)積電EUV 8715 0

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn),2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了,這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...

2018-10-30 標(biāo)簽:光刻EUV 3625 0

三星宣布已正式使用7納米LPP制程來生產(chǎn)晶圓 功耗降低50%效能提升提高20%

晶圓代工大廠三星宣布,正式開始使用其7納米LPP制程來生產(chǎn)晶圓。三星的7納米LPP制程中使用極紫外光刻(EUV)技術(shù),這將使三星7納米LPP制程能夠明顯...

2018-10-18 標(biāo)簽:三星電子晶圓EUV 4795 0

英特爾又一次處分艾司摩爾股票 持股比率降至3%以內(nèi)

當(dāng)年為了摩爾定律(Moore’s law)的延續(xù),讓半導(dǎo)體先進(jìn)制程可以繼續(xù)發(fā)展下去,在荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商艾司摩爾(ASML)發(fā)展光刻設(shè)備不順利,缺發(fā)資金之...

2018-10-15 標(biāo)簽:英特爾三星電子EUV 3554 0

臺(tái)積電5納米制程將在2019年的第2季試產(chǎn) 并與4家合作伙伴達(dá)成協(xié)議

根據(jù)晶圓代工龍頭臺(tái)積電在日前公布的2018年9月份財(cái)報(bào)顯示,其營收達(dá)到949.22億元(新臺(tái)幣,下同)的歷史次高水準(zhǔn),不但將8月時(shí)因?yàn)樵獾讲《靖腥臼录?..

2018-10-12 標(biāo)簽:臺(tái)積電EUV 1971 0

臺(tái)積電投資250億美元建廠,明年4月試產(chǎn)5nm EUV工藝

在7nm及以下節(jié)點(diǎn)上,臺(tái)積電的進(jìn)展是最快的,今年量產(chǎn)7nm不說,最快明年4月份就要試產(chǎn)5nm EUV工藝了,不過這個(gè)節(jié)點(diǎn)的投資花費(fèi)也是驚人的,臺(tái)積電投資...

2018-10-08 標(biāo)簽:臺(tái)積電EUV5nm 3883 0

臺(tái)積電首款7納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計(jì)定案 預(yù)計(jì)明年4月開始5納米制程風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)

晶圓代工龍頭臺(tái)積電持續(xù)沖刺先進(jìn)制程,采用極紫外光(EUV)微影技術(shù)的首款7+納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計(jì)定案(tape-out),支援最多4層EUV光罩。臺(tái)積電...

2018-10-08 標(biāo)簽:芯片臺(tái)積電EUV 3182 0

臺(tái)積電張忠謀細(xì)數(shù)半導(dǎo)體十大發(fā)明

臺(tái)積電(2330)創(chuàng)辦人張忠謀今在國際半導(dǎo)體展(SEMICON TAIWAN)IC60大師論壇,以《半導(dǎo)體業(yè)的重要?jiǎng)?chuàng)新看半導(dǎo)體公司的盛衰》為題,指出晶圓...

2018-09-06 標(biāo)簽:臺(tái)積電AIEUV 4272 0

三星揭露3納米制程技術(shù)路線圖以及7納米投產(chǎn)進(jìn)度

三星周二舉行晶圓代工技術(shù)論壇(Samsung Foundry Forum),同時(shí)揭露發(fā)展3納米制程的技術(shù)路圖,以及7納米投產(chǎn)進(jìn)度,將搶攻高端運(yùn)算與聯(lián)網(wǎng)裝置市場。

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三星將在明年推5/4nmEUV工藝 2020年推3nmEUV工藝

隨著Globalfoundries以及聯(lián)電退出先進(jìn)半導(dǎo)體工藝研發(fā)、投資,全球有能力研發(fā)7nm及以下工藝的半導(dǎo)體公司就只剩下英特爾、臺(tái)積電及三星了,不過英...

2018-09-06 標(biāo)簽:三星電子FinFETEUV 3673 0

3D傳感需求強(qiáng)勁 II-VIQ4營收創(chuàng)歷史新高

據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道,II-VI公司首次實(shí)現(xiàn)年銷售額突破10億美元,并且在其主要市場預(yù)計(jì)將在近階段繼續(xù)保持這種增長勢頭。

2018-08-13 標(biāo)簽:EUV3D傳感 3499 0

臺(tái)積電預(yù)計(jì)2019年量產(chǎn)7納米,將會(huì)是第一家采用EUV量產(chǎn)的晶圓代工業(yè)者

以應(yīng)用來看,盡管手機(jī)需求衰退第二季臺(tái)積電營收最大宗仍來自通訊領(lǐng)域,貢獻(xiàn)為48%,其次為工業(yè)(23%)、電腦(21%)與消費(fèi)性電子(8%)。

2018-07-27 標(biāo)簽:臺(tái)積電納米euv 3655 0

臺(tái)積電率先導(dǎo)入EUV量產(chǎn),將繼續(xù)穩(wěn)坐晶圓代工龍頭寶座

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臺(tái)積電明年上半年將獨(dú)步同業(yè),成為全世界第一家采用最先進(jìn)的極紫外光(EUV)微影設(shè)備完成量產(chǎn)的晶圓代工廠,助攻臺(tái)積電橫掃全球多數(shù)第五代行動(dòng)通訊(5G)及人...

2018-07-23 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶圓euv 3662 0

ASML第二季度EUV銷量超預(yù)期,中芯新增一臺(tái)訂單

2018年7月18日,ASML公布了2018年第二季度業(yè)績報(bào)告。報(bào)告指出,第二季度銷售額為27.4億歐元,凈利潤為5.84億歐元,毛利率達(dá)到43.3%。

2018-07-21 標(biāo)簽:EUVASML 2638 0

ASML新增訂單來自中芯國際?

2018年7月18日,ASML公布了第二季度業(yè)績報(bào)告,報(bào)告顯示第二季度EUV出貨量為4套,比預(yù)期高出一套,這是否意味著ASML的生產(chǎn)能力正在提升,中芯國...

2018-07-21 標(biāo)簽:中芯國際EUVASML 6420 0

ASML公司Q2季度出貨4臺(tái)EUV光刻機(jī),大陸市場營收比例達(dá)到19%

光刻機(jī),是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一,荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場的一哥,壟斷了高端光科技生產(chǎn),在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。

2018-07-19 標(biāo)簽:光刻機(jī)euvasml 3168 0

新思科技Custom Design Platform獲批三星7LPP工藝技術(shù)認(rèn)證

· 新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術(shù)提供經(jīng)認(rèn)證的工具、PDK、仿真模型、運(yùn)行集(runsets)以及定制參考流...

2018-07-18 標(biāo)簽:三星電子新思科技euv 7481 0

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    MACOM是一家高性能模擬射頻、微波、毫米波和光電解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商,總部位于美國馬薩諸塞州洛厄爾,擁有超過60年的歷史??偛吭O(shè)在美國洛厄爾,馬薩諸塞州。
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microchip TDK Rohm Silicon Labs 圣邦微電子 安費(fèi)諾工業(yè) ixys Isocom Compo
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Samsung 風(fēng)華高科 WINBOND 長晶科技 晶導(dǎo)微電子 上海貝嶺 KOA Echelon
Coilcraft LRC trinamic
放大器 運(yùn)算放大器 差動(dòng)放大器 電流感應(yīng)放大器 比較器 儀表放大器 可變增益放大器 隔離放大器
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