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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內容。
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2020年10月5日,美國商務部工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)布了最終規(guī)則,對《關于常規(guī)武器和兩用貨物及技術出口管制的瓦森納安排》2019年12月全體會議上達...
盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙,但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看,發(fā)展EUV技術是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀九十年代起,中國...
2017-11-15 標簽:半導體產(chǎn)業(yè)三星電子臺積電 1344 0
半導體行業(yè)波動性可能減弱。動蕩的2022年引發(fā)半導體行業(yè)庫存調整,企業(yè)紛紛應對短期下行周期,但背后的發(fā)展趨勢值得關注。由于人工智能(AI)、AR/VR、...
IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強調通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率...
COVID將對光掩模市場產(chǎn)生什么業(yè)務影響?
總體上,三分之二的調查參與者認為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時,口罩的數(shù)量減少了。這是因為EUV將整個行業(yè)帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需...
根據(jù)英特爾的新規(guī)劃,Intel 14A工藝有望在2026年與我們見面,而更先進的Intel 14A-E工藝則預計將在2027年問世。
佳能推出5nm芯片制造設備,納米壓印技術重塑半導體競爭格局?
佳能近日表示,計劃年內或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術,雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢,...
可繞過EUV量產(chǎn)5nm!佳能CEO:納米壓印設備無法賣到中國!
雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了9...
三星臺積電廝殺4nm之戰(zhàn),三星搶先一步入將EUV
晶圓代工之戰(zhàn),7nm制程預料由臺積電勝出,4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱,三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備...
? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近,湖南、江西、浙江等地開始限電,多年不見的「拉閘限電」又回來了。 2004、2011年,中國曾出現(xiàn)大規(guī)模的「用電荒」...
體上,三分之二的調查參與者認為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時,口罩的數(shù)量減少了。這是因為EUV將整個行業(yè)帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要...
ASML產(chǎn)品路線圖曝光,EUV***出貨已超200臺
euv光刻系統(tǒng)從2014年第一季度到2019年第四季度,nxe:3400c在客戶端使用30 mj/cm2的電力,達到了約140芯片/小時的生產(chǎn)效率。nx...
臺積電推出采用EUV的5nm工藝設計 密度提高1.8倍,性能提高15%
臺積電近日宣布,將基于該公司的開放式創(chuàng)新平臺(OIP)提供完整版的5nm工藝設計制成。 據(jù)該公司稱,5nm工藝已經(jīng)處于風險生產(chǎn)階段,針對5G和人工智能市...
本周在火奴魯魯舉行的VLSI(超大規(guī)模集成電路)研討會上,三星首次分享了基于EUV技術的7nm工藝細節(jié)。
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