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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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euv資訊

ASML新財(cái)報(bào):銷售額與毛利率雙雙超越預(yù)期

荷蘭時(shí)間2019年7月17日,ASML Holding N.V.(ASML)公布了2019年第二季度財(cái)報(bào)

2019-07-22 標(biāo)簽:EUVASML 3262 0

日韓貿(mào)易戰(zhàn)愈演愈烈 將直接影響三星電子EUV工藝研發(fā)進(jìn)度

近日,日韓貿(mào)易戰(zhàn)愈演愈烈,日本宣布氟聚酰亞胺(Fluorine Polyimide)、半導(dǎo)體制造中的核心材料光刻膠和高純度氟化氫(Eatching Ga...

2019-07-14 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電EUV 3833 0

受日本材料出口管制 三星電子7納米芯片計(jì)劃將受挫

7月11日消息,知情人士表示,由于日本針對(duì)對(duì)韓國產(chǎn)業(yè)至關(guān)重要的半導(dǎo)體材料實(shí)施更嚴(yán)格的出口管制,三星電子明年初推出其最先進(jìn)處理器芯片的雄心計(jì)劃可能會(huì)被推遲。

2019-07-12 標(biāo)簽:芯片三星電子EUV 3243 0

張忠謀的告別作!臺(tái)積電18廠打遍天下無敵手?

臺(tái)積電最新的18廠,將在明年第一季量產(chǎn)5納米制程,領(lǐng)先英特爾、三星一年以上。

2019-07-12 標(biāo)簽:臺(tái)積電EUV 3070 0

Cadence 數(shù)字全流程解決方案通過三星5LPE工藝認(rèn)證

采用極紫外(EUV)光刻技術(shù)的Cadence 數(shù)字全流程解決方案已通過Samsung Foundry 5nm早期低功耗版(5LPE)工藝認(rèn)證。

2019-07-11 標(biāo)簽:三星電子EUV 3765 0

三星5nm取得重要進(jìn)展 可以帶來25%的邏輯電路能效提升

眼下,臺(tái)積電和三星都在全力沖刺5nm工藝,這將是7nm之后的又一個(gè)重要節(jié)點(diǎn),全面應(yīng)用EUV極紫外光刻技術(shù),提升效果會(huì)非常明顯,所以都受到了高度重視。

2019-07-10 標(biāo)簽:三星電子EUV 2352 0

三星今年9月份將完成7nmEUV工藝生產(chǎn)線 明年1月份量產(chǎn)

隨著NVIDIA宣布7nm GPU由三星代工,三星在晶圓代工市場上總算又拉來一個(gè)客戶,如果算上之前的IBM Power 10以及傳聞中的高通驍龍865訂...

2019-07-04 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電EUV 2504 0

ASML新一代EUV設(shè)備預(yù)計(jì)2025年正式量產(chǎn)

當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮已經(jīng)來到10納米節(jié)點(diǎn)以下,EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備,包括現(xiàn)在的7納米制程,以及未來5納米、3納米甚至2納米制程都將采...

2019-07-02 標(biāo)簽:半導(dǎo)體EUVASML 2997 0

DRAM大廠工藝推進(jìn)1z納米 導(dǎo)入EUV設(shè)備擴(kuò)大競爭門檻

2019年上半DRAM價(jià)格下跌壓力沉重,盡管上游產(chǎn)能調(diào)節(jié)以及傳統(tǒng)旺季拉貨需求逐漸回升,預(yù)料將有望支撐跌價(jià)趨緩,為了提高生產(chǎn)效益及拉大競爭差距,DRAM大...

2019-06-21 標(biāo)簽:DRAMEUV 2510 0

DRAM開始進(jìn)入EUV時(shí)代?

根據(jù)國外媒體報(bào)導(dǎo),曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落,短期看不到止跌訊號(hào)的情況下,也頂不住生產(chǎn)成本的壓力,開始...

2019-06-21 標(biāo)簽:半導(dǎo)體DRAM三星電子 3565 0

DRAM廠將陸續(xù)導(dǎo)入EUV技術(shù)

DRAM廠商在面對(duì)DRAM價(jià)格不斷下跌的困境下,已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM,主要目的是為了降低成本。

2019-06-21 標(biāo)簽:DRAMEUV 2254 0

臺(tái)積電官宣2nm研發(fā)啟動(dòng) N5P量產(chǎn)預(yù)計(jì)落在2021年

6月18日,臺(tái)積電在上海舉辦了2019中國技術(shù)論壇(TSMC2019 Technology Symposium)。臺(tái)積電總裁魏家哲介紹了先進(jìn)工藝的發(fā)展規(guī)...

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多家DRAM廠商開始評(píng)估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)

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2019-06-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體DRAMEUV 2696 0

全球第一家!臺(tái)積電官宣2nm工藝!

這幾年,雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩,但是在半導(dǎo)體工藝上,幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進(jìn)入10nm工藝時(shí)代并將在后年轉(zhuǎn)入7nm,臺(tái)積電、...

2019-06-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體臺(tái)積電晶體管 4260 0

ASML放棄EUV光罩防塵薄膜研發(fā)并技轉(zhuǎn)日本三井化學(xué)

ASML將中斷EUV Pellicle(光罩防塵薄膜)技術(shù)的研發(fā),并將該技術(shù)轉(zhuǎn)讓與日本。

2019-06-09 標(biāo)簽:EUVASML 4172 0

NVIDIA或?qū)⒅匦聯(lián)肀?新圖形芯片Ampere將采用三星7nmEUV制程

6月4日消息,據(jù)Digitimes報(bào)道,臺(tái)積電持續(xù)保持先進(jìn)制程技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢,7nm制程包攬了大廠訂單,三星決定跳過7nm制程,直接上7nm LPP EVU制程。

2019-06-05 標(biāo)簽:三星電子NVIDIA圖形芯片 2940 0

臺(tái)積電和三星再次登上摩爾定律階梯

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5納米節(jié)點(diǎn)是首個(gè)從開始就使用極紫外光刻(EUV)技術(shù)做出來的。在波長只有13.5納米的情況下,EUV燈可以在硅上產(chǎn)生非常精細(xì)的圖案。其中一些圖案可以用上...

2019-06-02 標(biāo)簽:芯片臺(tái)積電EUV 3392 0

臺(tái)積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺(tái)積電官方宣布,已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝,這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù),意義非凡。

2019-05-28 標(biāo)簽:臺(tái)積電光刻EUV 3673 0

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BLDC PLC 碳化硅 二極管 OpenAI 元宇宙 安森美 ADI
無刷電機(jī) FOC IGBT 逆變器 文心一言 5G 英飛凌 羅姆
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伺服電機(jī) SVPWM 光伏發(fā)電 UPS AR 智能電網(wǎng) 國民技術(shù) Microchip
瑞薩 沁恒股份 全志 國民技術(shù) 瑞芯微 兆易創(chuàng)新 芯??萍?/a> Altium
德州儀器 Vishay Micron Skyworks AMS TAIYOYUDEN 納芯微 HARTING
adi Cypress Littelfuse Avago FTDI Cirrus LogIC Intersil Qualcomm
st Murata Panasonic Altera Bourns 矽力杰 Samtec 揚(yáng)興科技
microchip TDK Rohm Silicon Labs 圣邦微電子 安費(fèi)諾工業(yè) ixys Isocom Compo
安森美 DIODES Nidec Intel EPSON 樂鑫 Realtek ERNI電子
TE Connectivity Toshiba OMRON Sensirion Broadcom Semtech 旺宏 英飛凌
Nexperia Lattice KEMET 順絡(luò)電子 霍尼韋爾 pulse ISSI NXP
Xilinx 廣瀨電機(jī) 金升陽 君耀電子 聚洵 Liteon 新潔能 Maxim
MPS 億光 Exar 菲尼克斯 CUI WIZnet Molex Yageo
Samsung 風(fēng)華高科 WINBOND 長晶科技 晶導(dǎo)微電子 上海貝嶺 KOA Echelon
Coilcraft LRC trinamic
放大器 運(yùn)算放大器 差動(dòng)放大器 電流感應(yīng)放大器 比較器 儀表放大器 可變?cè)鲆娣糯笃? 隔離放大器
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開關(guān)電源 步進(jìn)電機(jī) 無線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機(jī)
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語音識(shí)別 萬用表 CPLD 耦合 電路仿真 電容濾波 保護(hù)電路 看門狗
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