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      標(biāo)簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題，國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：593個(gè) 瀏覽：86065次 帖子：0個(gè)

      euv資訊

      EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片？

      作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大...

      2021-12-01 標(biāo)簽：EUV5nm 1.2萬(wàn) 0

      ASML計(jì)劃在2018年生產(chǎn)20臺(tái)EUV光刻機(jī)

      EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所...

      2018-05-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1.1萬(wàn) 0

      ***技術(shù)有多難搞？我國(guó)***發(fā)展現(xiàn)狀

      ***技術(shù)有多難搞？我國(guó)***發(fā)展現(xiàn)狀

      搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。

      2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1.1萬(wàn) 0

      EUV光刻機(jī)還能賣(mài)給中國(guó)嗎？

      EUV光刻機(jī)還能賣(mài)給中國(guó)嗎？

      ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿(mǎn)足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為...

      2020-10-19 標(biāo)簽：芯片臺(tái)積電光刻機(jī) 1.0萬(wàn) 0

      莫大康：若7nm EUV禁運(yùn)，中國(guó)半導(dǎo)體怎么辦？

      近日見(jiàn)到一文7nm大戰(zhàn)在即買(mǎi)不到EUV光刻機(jī)的大陸廠商怎么辦？。 受瓦圣納條約的限止，今天中國(guó)即便有錢(qián)想買(mǎi)EUV光刻機(jī)也不可能，此話是事實(shí)，不是危言聳聽(tīng)...

      2017-11-23 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV莫大康 1.0萬(wàn) 0

      從EUV到DUV：先進(jìn)制程離不開(kāi)DUV

      從EUV到DUV：先進(jìn)制程離不開(kāi)DUV

      無(wú)獨(dú)有偶，兩位共和黨議員此前曾致信拜登政府，要求其勸說(shuō)荷蘭政府阻止ASML出售DUV光刻機(jī)賣(mài)給中芯國(guó)際，并且還需與盟國(guó)達(dá)成協(xié)議，統(tǒng)一出口限制和許可權(quán)。

      2021-04-29 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV先進(jìn)制程 9925 0

      關(guān)于EUV光刻的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用以及所面臨的的困境

      關(guān)于EUV光刻的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用以及所面臨的的困境

      不久之前，半導(dǎo)體行業(yè)還堅(jiān)持認(rèn)為 EUV 掃描儀可以不使用防護(hù)膜，只需要在潔凈的環(huán)境中就可以加工晶圓。之后芯片制造商改變了自己的看法，表示無(wú)法保證 EUV...

      2019-09-05 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體EUV 9627 0

      EUV受限，ASML開(kāi)綠燈，向中國(guó)展示7nmDUV光刻機(jī)

      正在進(jìn)行的第三屆進(jìn)博會(huì)上，光刻機(jī)巨頭ASML也參展了，并且還在自己的展臺(tái)上曬出展示了DUV光刻機(jī)。

      2020-11-05 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 9293 0

      我國(guó)成功研發(fā)出9nm線寬雙光束超衍射極限光刻試驗(yàn)樣機(jī) 打破國(guó)外技術(shù)壟斷

      4月10日記者從武漢光電國(guó)家研究中心獲悉，該中心甘棕松團(tuán)隊(duì)采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，采用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法，光刻出最小9納米線寬...

      2019-04-16 標(biāo)簽：EUV 8968 0

      麒麟990處理器或采用臺(tái)積電EUV技術(shù) 7納米＋加強(qiáng)版制程預(yù)計(jì)2019年的第1季進(jìn)行流片

      日前，才在英國(guó)倫敦發(fā)布會(huì)上展出4款Mate 20系列手機(jī)，以及新款麒麟980處理器的華為，根據(jù)外電報(bào)導(dǎo)，更新一代的麒麟990處理器也已經(jīng)發(fā)展到一個(gè)階段。...

      2018-10-22 標(biāo)簽：處理器臺(tái)積電EUV 8715 0

      7nm節(jié)點(diǎn)后光刻技術(shù)從DUV轉(zhuǎn)至EUV，設(shè)備價(jià)值劇增

      芯片行業(yè)從20世紀(jì)90年代開(kāi)始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長(zhǎng)范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容...

      2019-10-01 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 8359 0

      三星3nm工藝創(chuàng)新采用‘GAAFET結(jié)構(gòu)’ 芯片面積減少45％

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      韓國(guó)三星電子于15日宣布在Samsung Foundry Forum 2019 USA上發(fā)布工藝設(shè)計(jì)套件（PDK）0.1版3nm Gate-All-Ar...

      2019-05-17 標(biāo)簽：三星電子EUV芯片工藝 8211 0

      EUV***的核心光源 大功率光源也提上日程

      EUV要解決的不僅是波長(zhǎng)問(wèn)題，更重要的是，ASML的LPP EUV光源中，激光器需要達(dá)到20kW的功率，而這樣的發(fā)射功率經(jīng)過(guò)重重反射，達(dá)到焦點(diǎn)處的功率卻...

      2023-02-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 8179 0

      三星的8nm與臺(tái)積電的7nm制程究竟有何不同呢？

      這還要從三星正式推出8nm制程說(shuō)起。2017年5月，三星電子半導(dǎo)體事業(yè)部在美國(guó)圣克拉拉舉行的三星代工論壇上，公布了其未來(lái)幾年的制程工藝路線圖，其中，8n...

      2021-05-18 標(biāo)簽：臺(tái)積電EUV英偉達(dá) 7953 0

      EUV工藝不同多重圖形化方案的優(yōu)缺點(diǎn)及新的進(jìn)展研究

      與過(guò)去相比，研究人員現(xiàn)在已經(jīng)將EUVL作為存儲(chǔ)器關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的圖形化工藝的一個(gè)選項(xiàng)，例如DRAM的柱體結(jié)構(gòu)及STT-MRAM的MTJ。在本文的第二部分，IM...

      2019-09-05 標(biāo)簽：芯片euv 7747 0

      中國(guó)半導(dǎo)體被卡脖子 芯片生產(chǎn)最重要是光刻機(jī)

      中國(guó)半導(dǎo)體被卡脖子 芯片生產(chǎn)最重要是光刻機(jī)

      2020-09-22 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)EUV 7745 0

      euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

      說(shuō)到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說(shuō)到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話，就無(wú)法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 7657 0

      新思科技Custom Design Platform獲批三星7LPP工藝技術(shù)認(rèn)證

      · 新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術(shù)提供經(jīng)認(rèn)證的工具、PDK、仿真模型、運(yùn)行集（runsets）以及定制參考流...

      2018-07-18 標(biāo)簽：三星電子新思科技euv 7481 0

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