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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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臺積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)...
英特爾推進(jìn)面向未來節(jié)點(diǎn)的技術(shù)創(chuàng)新,在2025年后鞏固制程領(lǐng)先性
英特爾正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo),目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。...
臺積電未確定是否采購阿斯麥高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)
盡管High NA EUV光刻機(jī)有望使芯片設(shè)計(jì)尺寸縮減達(dá)三分之二,但芯片制造商需要權(quán)衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設(shè)備的可靠性問題。
英特爾正在順利推進(jìn)的Intel 20A和Intel 18A兩個(gè)節(jié)點(diǎn)
英特爾正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo),目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。
英特爾完成首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)安裝,助力代工業(yè)務(wù)發(fā)展
知情人士透露,由于ASML高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備產(chǎn)能有限,每年僅能產(chǎn)出5至6臺,因此英特爾將獨(dú)享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預(yù)計(jì)需等到明年下半年...
李在镕會長訪問蔡司總部,強(qiáng)化半導(dǎo)體技術(shù)和高端設(shè)備合作
蔡司作為ASML EUV光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)唯一供應(yīng)商,其提供的三萬余個(gè)組件構(gòu)成了每臺EUV光刻機(jī)的核心部分,同時(shí)在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域持有超過2000項(xiàng)關(guān)鍵專利。
臺積電表示A16工藝不需NAEU,新一代CoWoS封裝獲重大突破
在封裝技術(shù)的研發(fā)道路上,臺積電從未停止過前進(jìn)的腳步。而除了CoWoS封裝技術(shù)的巨大進(jìn)展,該公司還首次對外公布了其A16制程工藝。
英特爾率先推出業(yè)界高數(shù)值孔徑 EUV 光刻系統(tǒng)
來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業(yè)界首個(gè)高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。 新設(shè)備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能...
2024-04-26 標(biāo)簽:英特爾EUV光刻系統(tǒng) 470 0
臺積電公布創(chuàng)新芯片技術(shù)A16,將于2026年下半年投入量產(chǎn)
Kevin Zhang還進(jìn)一步強(qiáng)調(diào)了人工智能芯片廠商對A16技術(shù)的熱切期待。他表示:“他們渴望充分發(fā)揮我們制程的全部性能,以實(shí)現(xiàn)其設(shè)計(jì)的最佳優(yōu)化。
4月22日消息,據(jù)法國媒體LeMagIT報(bào)道,日本光學(xué)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商 Hoya Corporation(豪雅)最近遭遇了勒索軟件的攻擊,其總部和多個(gè)業(yè)務(wù)部...
英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝
英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未...
ASML公司發(fā)布2024財(cái)年一季報(bào),較上季度降幅達(dá)到27%
該季度ASML的凈銷售額達(dá)到53億歐元,較上季度有所下滑,降幅達(dá)到27%。
2024-04-19 標(biāo)簽:光刻機(jī)半導(dǎo)體制造EUV 718 0
臺積電發(fā)布Q1財(cái)報(bào) 地震損失約為6.6億元人民幣
臺積電對于未來的生產(chǎn)前景充滿信心,并預(yù)計(jì)將在第二季度內(nèi)有效彌補(bǔ)大部分生產(chǎn)損失。
今日看點(diǎn)丨英特爾完成首臺商用高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機(jī)組裝;聯(lián)發(fā)科發(fā)布天璣 6300 處理器
1. 臺積電估將在第 2 季認(rèn)列相關(guān)地震損失 30 億元新臺幣 ? 403地震讓臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受創(chuàng),臺積電稍早公告,臺灣廠區(qū)在地震后的第三日結(jié)束前完全復(fù)...
2024-04-19 標(biāo)簽:聯(lián)發(fā)科英特爾光刻機(jī) 784 0
英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī),將用于14A制程
半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發(fā)布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無疑...
2024-04-19 標(biāo)簽:英特爾EUV半導(dǎo)體設(shè)備 602 0
阿斯麥(ASML)公司首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果
在半導(dǎo)體領(lǐng)域,技術(shù)創(chuàng)新是推動整個(gè)行業(yè)向前發(fā)展的重要動力。近日,荷蘭阿斯麥(ASML)公司宣布,成功打造了首臺采用0.55數(shù)值孔徑(NA)投影光學(xué)系統(tǒng)的高...
臺積電營收強(qiáng)勢攀升,AI/HPC業(yè)務(wù)表現(xiàn)搶眼
從客戶構(gòu)成來看,臺積電在2023年的營收中,蘋果占據(jù)了25%的份額,穩(wěn)居第一。
Intel 18A節(jié)點(diǎn)年底投產(chǎn),14A節(jié)點(diǎn)預(yù)計(jì)2027年實(shí)現(xiàn)盈虧平衡
Intel表示,18A節(jié)點(diǎn)的生產(chǎn)預(yù)計(jì)將于年底前開始,14A節(jié)點(diǎn)的生產(chǎn)最早將于2027年實(shí)現(xiàn)盈虧平衡。
美國BIS更新出口管制新規(guī),強(qiáng)化半導(dǎo)體出口監(jiān)管
首先,對EUV掩膜基板追加管制。特別是專供EUV光刻制程之用的掩膜基板現(xiàn)已正式納入出口控制范圍,相關(guān)出口皆需遵循嚴(yán)格的許可要求。
英特爾芯片制造業(yè)務(wù)轉(zhuǎn)用EUV工具,虧損加劇
該企業(yè)宣布其制造部門于2023年度產(chǎn)生70億美元的運(yùn)營虧損,相比去年同期的52億美元有所擴(kuò)大;另一方面,盡管該部門2023年呈現(xiàn)出189億美元的銷售收入...
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