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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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大家知道,RISC-V已經(jīng)成為繼x86、ARM之后冉冉升起的第三大CPU架構(gòu),盡管此前試圖收購RISC-V內(nèi)核公司SiFive的努力失敗,但I(xiàn)ntel找...
但imec先進(jìn)成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時(shí)非常理性地指出,要經(jīng)濟(jì)高效地引入High NA EUV光刻...
與此同時(shí),美國的作法也給我們帶來提示,不僅要掌握自己的核心技術(shù),還要守護(hù)好核心技術(shù),作法就可以參照美國的出口管制辦法。而事實(shí)上,我國也確實(shí)是這么做的。前...
三星電子已決定在美國建立完全采用EUV生產(chǎn)設(shè)備的LSI工廠
據(jù)韓國媒體《Infostock Daily》11月18日引述消息人士報(bào)道,三星電子已決定在美國建立完全采用EUV(極紫外光)生產(chǎn)設(shè)備的LSI(Large...
韓國企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展
在過去的十年中,包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā),以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...
ASML第一臺5nm多光束檢測器實(shí)現(xiàn)了怎樣的突破?
ASML宣布其在多光束檢測工具系列上已取得重大突破。新的eScan1000將單光束掃描進(jìn)程優(yōu)化成9光束掃描進(jìn)程,ASML宣稱在線缺陷檢測應(yīng)用中,能使工具...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))隨著雙碳目標(biāo)的提出,越來越多的行業(yè)應(yīng)用開始注意到能耗問題,尤其是在半導(dǎo)體制造設(shè)備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機(jī)來說,就...
2023-10-25 標(biāo)簽:EUV 1496 0
韓國本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展
據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪一家企業(yè),合理推測應(yīng)指代韓國整個(gè)半...
傳臺積電計(jì)劃關(guān)閉EUV光刻機(jī)來減少產(chǎn)能
一臺EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機(jī),一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺幣(約合人民幣0.55元...
爆AMD的Zen3處理器細(xì)節(jié):或?qū)⒁隕UV光刻工藝
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。
三星要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付9臺EUV光刻設(shè)備
據(jù)韓媒報(bào)道,三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間,在會議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購買的9臺EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱,ASML正在審查三星的要求,這...
EUV(Extreme Ultraviolet)光刻機(jī)是一種高級光刻設(shè)備,用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一,它...
在比較我們的單片設(shè)計(jì)與小芯片 MCM 設(shè)計(jì)時(shí),我們的光刻工具時(shí)間顯著增加,因?yàn)榫A必須掃描 1.875 倍。這是因?yàn)楠M縫的很大一部分沒有得到充分利用。
AMD 7nm+工藝突然全都消失 意在向市場提供最佳的高性能庫
AMD今天一口氣公布了Zen CPU架構(gòu)路線圖、RDNA/CDNA GPU架構(gòu)路線圖,對于A飯和技術(shù)愛好者來說堪稱一場盛宴,但是在制造工藝方面也出現(xiàn)了意外變化。
Intel的7nm基于EUV光刻技術(shù)有望2020年底推出 10nm或?qū)⒊蔀镮ntel最短命的一代制程
原定2016年底量產(chǎn)的10nm拖到了2019年底,Intel目前僅敢在公開市場拿出Cannon Lake家族的“獨(dú)苗”i3-8121U撐門面??墒撬鼉H僅...
麒麟720和820性能參數(shù)對比 麒麟720和820是華為公司推出的兩款芯片。這兩款芯片都是主流的中高端芯片,為華為手機(jī)及其他智能設(shè)備提供強(qiáng)大的性能支持。...
三星晶圓廠最新路線圖 2025年推出首個(gè)GAA制程先進(jìn)封裝
三星電子公布了其在小于 3 納米(1 米的十億分之一)半導(dǎo)體領(lǐng)域獲得競爭優(yōu)勢的技術(shù)路線圖。
電子發(fā)燒友網(wǎng)訊: 光刻設(shè)備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經(jīng)投入到下一代元紫外線光刻技術(shù)(EUV)設(shè)備...
IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化
Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...
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