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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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euv資訊

Intel 4/3/20A/18A四種新工藝都來了!

大家知道,RISC-V已經(jīng)成為繼x86、ARM之后冉冉升起的第三大CPU架構(gòu),盡管此前試圖收購RISC-V內(nèi)核公司SiFive的努力失敗,但I(xiàn)ntel找...

2023-01-31 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVRISC-V 1536 0

下一代EUV***,關(guān)鍵技術(shù)拆解!

但imec先進(jìn)成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時(shí)非常理性地指出,要經(jīng)濟(jì)高效地引入High NA EUV光刻...

2023-03-17 標(biāo)簽:光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 1520 0

我國芯片的國產(chǎn)替代道路遭遇阻礙?

與此同時(shí),美國的作法也給我們帶來提示,不僅要掌握自己的核心技術(shù),還要守護(hù)好核心技術(shù),作法就可以參照美國的出口管制辦法。而事實(shí)上,我國也確實(shí)是這么做的。前...

2020-10-26 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體晶圓 1510 0

三星電子已決定在美國建立完全采用EUV生產(chǎn)設(shè)備的LSI工廠

據(jù)韓國媒體《Infostock Daily》11月18日引述消息人士報(bào)道,三星電子已決定在美國建立完全采用EUV(極紫外光)生產(chǎn)設(shè)備的LSI(Large...

2020-11-22 標(biāo)簽:芯片三星電子EUV 1505 0

韓國企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展

在過去的十年中,包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā),以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...

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ASML第一臺5nm多光束檢測器實(shí)現(xiàn)了怎樣的突破?

ASML宣布其在多光束檢測工具系列上已取得重大突破。新的eScan1000將單光束掃描進(jìn)程優(yōu)化成9光束掃描進(jìn)程,ASML宣稱在線缺陷檢測應(yīng)用中,能使工具...

2020-09-22 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVASML 1503 0

能耗成了EUV***的最大掣肘

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2023-10-25 標(biāo)簽:EUV 1496 0

韓國本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展

據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪一家企業(yè),合理推測應(yīng)指代韓國整個(gè)半...

2020-11-16 標(biāo)簽:三星電子光刻機(jī)EUV 1495 0

傳臺積電計(jì)劃關(guān)閉EUV光刻機(jī)來減少產(chǎn)能

一臺EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機(jī),一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺幣(約合人民幣0.55元...

2022-09-08 標(biāo)簽:臺積電光刻機(jī)EUV 1489 0

爆AMD的Zen3處理器細(xì)節(jié):或?qū)⒁隕UV光刻工藝

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原定2016年底量產(chǎn)的10nm拖到了2019年底,Intel目前僅敢在公開市場拿出Cannon Lake家族的“獨(dú)苗”i3-8121U撐門面??墒撬鼉H僅...

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電子發(fā)燒友網(wǎng)訊: 光刻設(shè)備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經(jīng)投入到下一代元紫外線光刻技術(shù)(EUV)設(shè)備...

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IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化

Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...

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2024-01-03 標(biāo)簽:光源EUV光刻膠 1371 0

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