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為對抗三星臺積電搶吃EUV商機(jī)_臺積大聯(lián)盟成軍了

為對抗三星，臺積電計(jì)劃導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影設(shè)備，決定在7納米強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)、并在5納米全數(shù)導(dǎo)入。這項(xiàng)決定引發(fā)群聚效應(yīng)，激勵相關(guān)設(shè)備供應(yīng)鏈和材料...

2018-06-17 標(biāo)簽：臺積電euv 2570 0

長鑫存儲首次公開亮相談DARM技術(shù)的未來

在談到DRAM技術(shù)未來的發(fā)展時(shí)，平博士首先強(qiáng)調(diào)，DRAM是有它的極限的。我們通過改進(jìn)，可以將極限推遲。如導(dǎo)入EUV及HKMG三極管以縮小線寬及加強(qiáng)外圍電...

2019-09-19 標(biāo)簽：EUV長鑫存儲 2555 0

EUV設(shè)備讓摩爾定律再延伸三代工藝 但需克服諸多挑戰(zhàn)

臺積電近日宣布，已經(jīng)開始了7nm+ EUV工藝的大規(guī)模量產(chǎn)，這是該公司乃至整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首個(gè)商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝。作為EUV設(shè)備唯一提供商，市...

2019-10-17 標(biāo)簽：臺積電摩爾定律EUV 2521 0

出貨100萬 三星業(yè)界首款EUV DRAM推出

三星電子（Samsung Electronics）今天宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的...

2020-03-25 標(biāo)簽：DRAMEUV 2513 0

DRAM大廠工藝推進(jìn)1z納米 導(dǎo)入EUV設(shè)備擴(kuò)大競爭門檻

2019年上半DRAM價(jià)格下跌壓力沉重，盡管上游產(chǎn)能調(diào)節(jié)以及傳統(tǒng)旺季拉貨需求逐漸回升，預(yù)料將有望支撐跌價(jià)趨緩，為了提高生產(chǎn)效益及拉大競爭差距，DRAM大...

2019-06-21 標(biāo)簽：DRAMEUV 2510 0

三星今年9月份將完成7nmEUV工藝生產(chǎn)線 明年1月份量產(chǎn)

隨著NVIDIA宣布7nm GPU由三星代工，三星在晶圓代工市場上總算又拉來一個(gè)客戶，如果算上之前的IBM Power 10以及傳聞中的高通驍龍865訂...

2019-07-04 標(biāo)簽：三星電子臺積電EUV 2505 0

三星FinFET制程被判侵權(quán)，將賠償4億美元

韓國三星為了多元化營收來源，這兩年晶圓代工業(yè)務(wù)為重點(diǎn)發(fā)展項(xiàng)目，2018年率先推出7納米EUV制程，搶在臺積電、格羅方德與英特爾之前推出。但三星如今似乎“...

2018-06-20 標(biāo)簽：三星電子finfeteuv 2491 0

三星表示2020年7nmEUV生產(chǎn)線將如期量產(chǎn) 并計(jì)劃再建設(shè)另外的7nmEUV工廠

盡管日本方面上周末推出了第二波禁韓令，預(yù)計(jì)多達(dá)857種重要材料對韓國出口都會受到管制影響，此舉可能會影響韓國公司的半導(dǎo)體生產(chǎn)，不過三星似乎并沒有因此停止...

2019-08-05 標(biāo)簽：三星電子EUV 2471 0

ASML最新一代EUV光刻生產(chǎn)效率增加18%

本土晶圓代工企業(yè)崛起之際，設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示，從荷蘭向中國出口DUV光刻機(jī)無需許可證。

2020-10-16 標(biāo)簽：EUVASML 2464 0

ASML三季度凈銷售額同比增長32.6% 最新EUV光刻機(jī)擬明年發(fā)貨

10月14日，光刻機(jī)制造商ASML發(fā)布三季度的財(cái)報(bào)。公司第三季度凈銷售額為39.58億歐元，同比增長32.6%；凈利潤為10.62億歐元，同比增長29....

2020-10-15 標(biāo)簽：EUVASML 2453 0

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競速:Hyper-NA EUV光刻機(jī)挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

在科技日新月異的今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石，正以前所未有的速度向前躍進(jìn)。隨著人工智能、汽車電子等新興產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，對芯片制造技術(shù)的要求也日益嚴(yán)...

2024-07-03 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 2450 0

EUV光刻有望成為摩爾定律的“救星”？

“光刻技術(shù)的‘雕刻’精細(xì)度，直接決定了元器件、電路等在芯片上所占的體積。因而，光刻是決定芯片能否按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的一項(xiàng)重要技術(shù)，如果沒有光刻技術(shù)的進(jìn)...

2020-01-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體摩爾定律EUV 2431 0

三星宣布全球首座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開始量產(chǎn)

三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。

2020-02-21 標(biāo)簽：三星電子EUV 2413 0

半導(dǎo)體測試設(shè)備商Lasertec支持EUV測試設(shè)備的需求正在擴(kuò)大

日本半導(dǎo)體測試設(shè)備廠商Lasertec正在借助占世界最大份額的EUV（極紫外）測試設(shè)備持續(xù)增長。極紫外光刻機(jī)生產(chǎn)的半導(dǎo)體有望實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，支持極紫外的測試設(shè)...

2021-01-25 標(biāo)簽：測試半導(dǎo)體晶圓 2395 0

ASML將蟬聯(lián)龍頭寶座至明年 國產(chǎn)設(shè)備企業(yè)將如何尋求突破

近日，業(yè)內(nèi)人士羅伯特·卡斯特拉諾預(yù)測，全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭應(yīng)用材料公司2019年有可能失去其蟬聯(lián)多年的龍頭寶座，讓位給光刻機(jī)大廠荷蘭阿斯麥（ASML）公司...

2019-12-11 標(biāo)簽：EUVASML 2392 0