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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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材料是半導(dǎo)體大廈的地基,不過,目前中國的這一地基對(duì)國外依存度還很高。 2019年,日韓發(fā)生沖突,日本封鎖了三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料,分別是氟化氫、聚酰亞胺和...
無獨(dú)有偶,兩位共和黨議員此前曾致信拜登政府,要求其勸說荷蘭政府阻止ASML出售DUV光刻機(jī)賣給中芯國際,并且還需與盟國達(dá)成協(xié)議,統(tǒng)一出口限制和許可權(quán)。
對(duì)于芯片制造有一定了解的朋友都知道,想要制造芯片是離不開EUV光刻機(jī)的,但中國并沒有達(dá)到能獨(dú)立制造EUV光刻機(jī)的地步。所以很多時(shí)候,中國制造芯片都需要依...
今天,英特爾新任首席執(zhí)行官Pat Gelsinger在一場演講中概述了在對(duì)英特爾未來幾年的愿景。在題為“英特爾釋放:未來
盡管消息稱中芯國際14nm及以上制程的客服、備品與機(jī)臺(tái)等相關(guān)出口申請獲得許可,但10nm以下仍被卡脖子,尤其是已經(jīng)技術(shù)開發(fā)完整只等EUV光刻機(jī)進(jìn)場的7nm。
解讀ASML澄清中芯國際購買協(xié)議事件和EUV與DUV的差異性
近日,中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作,有媒體報(bào)道稱“除了 EUV 光刻機(jī),中芯國際幾乎可以買到其他...
為什么這很重要?在引入EUV系統(tǒng)之前,最先進(jìn)的IC是使用DUV浸沒式光刻系統(tǒng)制造的。這些DUV系統(tǒng)在193nm的光波長下無法到達(dá)7nm節(jié)點(diǎn),因此EUV取...
清華團(tuán)隊(duì)實(shí)驗(yàn)演示穩(wěn)態(tài)微聚束成功, 有望為EUV光刻光源提供新技術(shù)路線
實(shí)驗(yàn)展示了如何結(jié)合現(xiàn)有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光——的特性。同步輻射設(shè)備發(fā)射的光子具有高重復(fù)率,但由于它們的時(shí)間不相干性,功率相對(duì)...
新成果有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)的“卡脖子”難題
在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中,光刻機(jī)是必不可少的精密設(shè)備,是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟?!拔覈鳨UV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長的路要走,基于SSMB...
3月3日晚間,中芯國際在港交所公告,根據(jù)批量采購協(xié)議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個(gè)月期間,就購買阿斯麥產(chǎn)品與阿斯麥集團(tuán)簽訂購買單,...
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
EUV光刻機(jī),一直是中國芯片制造無法進(jìn)一步升級(jí)的掣肘。去年9月份,時(shí)任中國科學(xué)院院長白春禮公開表態(tài)稱,將集中精力攻克光刻機(jī)難題。不到半年時(shí)間,中國科學(xué)家...
由于西方的禁運(yùn),中國芯片制造業(yè)無法得到EUV設(shè)備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家,分別是臺(tái)積電、三星及英特爾。
臺(tái)積電3nm工藝進(jìn)度超前 EUV工藝獲突破:直奔1nm
在ISSCC 2021國際固態(tài)電路會(huì)議上,臺(tái)積電聯(lián)席CEO劉德音公布了該公司的最新工藝進(jìn)展情況,指出3nm工藝超過預(yù)期,進(jìn)度將會(huì)提前。 不過劉德音沒有公...
2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會(huì)議(IEDM)上,臺(tái)積電公布的兩個(gè)報(bào)告標(biāo)志著集成電路制造邁入了EUV 光刻時(shí)代。第一個(gè)報(bào)告宣布了應(yīng)用EUV...
Lasertec:全球唯一EUV光刻制造測試設(shè)備制造商
在芯片制造過程中,任何一點(diǎn)小瑕疵都可能造成整批芯片的報(bào)廢。因此,這一過程中晶圓監(jiān)測必不可少,可以保證芯片的良品率和控制成本。
SK海力士M16新廠竣工 將首次使用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)
存儲(chǔ)芯片廠商SK海力士宣布,其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經(jīng)竣工,SK海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機(jī)在生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片。SK海力士經(jīng)...
ASML宣布了一項(xiàng)合作成果:在印刷24nm節(jié)距線方面取得突破
本周在SPIE高級(jí)光刻會(huì)議上,世界領(lǐng)先的納米電子和數(shù)字技術(shù)研究與創(chuàng)新中心IEMC與世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商ASML宣布了一項(xiàng)合作成果。在印刷24n...
SK海力士(或“公司”,www.skhynix.com )在韓國京畿道利川總部以“We Do Technology,開啟幸福”為主題舉行M16新廠竣工儀...
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