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      標簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：593個 瀏覽：86061次 帖子：0個

      euv資訊

      DNP突破超2nm EUV光刻光掩模技術(shù)

      Dai Nippon Printing Co., Ltd.(DNP)近期在半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域取得了重大突破，成功實現(xiàn)了適用于超2nm(納米，即10^-9...

      2024-12-23 標簽：硅晶圓DNP半導(dǎo)體制造 423 0

      日本首臺EUV光刻機就位

      日本首臺EUV光刻機就位

      據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻...

      2024-12-20 標簽：光刻機EUV 231 0

      美投資8.25億美元建設(shè)NSTC關(guān)鍵設(shè)施,重點發(fā)展EUV光刻技術(shù)

      拜登政府已宣布一項重大投資決策，計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元，用于建設(shè)國家半導(dǎo)體技術(shù)中心（NSTC）的核心設(shè)施。據(jù)美國商務(wù)部透露，奧爾巴尼...

      2024-11-01 標簽：光刻技術(shù)EUVASML 392 0

      美光預(yù)測AI需求將大幅增長,計劃2025年投產(chǎn)EUV DRAM

      隨著人工智能技術(shù)日益普及，從云端服務(wù)器拓展至消費級設(shè)備，對高級內(nèi)存的需求持續(xù)攀升。鑒于此趨勢，美光科技已將其高帶寬內(nèi)存（HBM）的全部產(chǎn)能規(guī)劃至2025...

      2024-10-26 標簽：美光人工智能EUV 744 0

      ASML CEO傅恪禮:亞洲將繼續(xù)主導(dǎo)芯片行業(yè)

      ASML總裁兼CEO傅恪禮近日在接受外媒采訪時指出，盡管西方國家正在積極增加芯片生產(chǎn)，但亞洲在芯片行業(yè)中的主導(dǎo)地位不太可能發(fā)生改變。

      2024-10-10 標簽：芯片EUVASML 489 0

      新型EUVL技術(shù)問世，超越半導(dǎo)體制造標準線

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      來源：Trend Force 據(jù)STDaily援引日本沖繩科學(xué)技術(shù)研究生院（OIST）官網(wǎng)近日報道稱，該大學(xué)設(shè)計出一種超越半導(dǎo)體制造標準邊界的極紫外（E...

      2024-08-06 標簽：半導(dǎo)體EUV 337 0

      日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

      近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項重大研究報告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當前半導(dǎo)體...

      2024-08-03 標簽：光刻技術(shù)EUV 1069 0

      一種無透鏡成像的新方法

      一種無透鏡成像的新方法

      使用OAM-HHG EUV光束對高度周期性結(jié)構(gòu)進行成像的EUV聚光顯微鏡 為了研究微電子或光子元件中的納米級圖案，一種基于無透鏡成像的新方法可以實現(xiàn)近乎...

      2024-07-19 標簽：激光成像EUV 406 0

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      在科技日新月異的今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石，正以前所未有的速度向前躍進。隨著人工智能、汽車電子等新興產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，對芯片制造技術(shù)的要求也日益嚴...

      2024-07-03 標簽：半導(dǎo)體光刻機EUV 2449 0

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      中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的十大技術(shù)“瓶頸”解析

      半導(dǎo)體技術(shù)是現(xiàn)代電子科技的核心，它的發(fā)展水平直接體現(xiàn)了一個國家的科技實力。近年來，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)雖然取得了長足進步，但仍有一些核心技術(shù)尚未完全掌握。本文...

      2024-06-06 標簽：芯片半導(dǎo)體封裝EUV 2455 0

      ASML創(chuàng)下新的EUV芯片制造密度記錄，提出Hyper-NA的激進方案

      ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布，其首臺High-NA（高數(shù)值孔徑）設(shè)備已經(jīng)打破了之前創(chuàng)下的記錄，再次刷新了芯片制造密度的標準。

      2024-05-30 標簽：芯片制造EUVASML 786 0

      臺積電魏哲家與ASML高層會面，是否有意購買高數(shù)值孔徑極紫外光機臺？

      此前，該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示，過早引入High-NA EUV并無太大經(jīng)濟效益，直到日前其秘密訪問ASML總部，使市場猜測臺積電是否因此事發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。

      2024-05-29 標簽：臺積電EUV半導(dǎo)體行業(yè) 578 0

      美光宣布將在日本廣島建設(shè)DRAM工廠

      據(jù)悉，新廠將采用EUV光刻機技術(shù)，并計劃在2025年量產(chǎn)的下一代1-gamma（nm）節(jié)點引入EUV光刻技術(shù)。鑒于DRAM行業(yè)的代際周期，新廠有望具備生...

      2024-05-28 標簽：DRAM美光EUV 694 0

      Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機

      在全球四大先進制程代工巨頭（包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。

      2024-05-27 標簽：EUVASML先進制程 663 0

      后門！ASML可遠程鎖光刻機！

      來源：國芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報道，臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機，暗藏后門，可以在必要的時候執(zhí)行遠程...

      2024-05-24 標簽：光刻機EUVASML 586 0

      ASML考慮推出通用EUV光刻平臺

      范登布林克指出，更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說，Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產(chǎn)流程，避免因使用 High NA 光刻機進行雙...

      2024-05-23 標簽：分辨率光刻機EUV 461 0

      英特爾競購High-NA EUV設(shè)備，臺積電決定回避

      　另一方面，臺積電的年度技術(shù)論壇正在美國和歐洲如火如荼地進行，備受世人矚目的是該公司計劃在2026年量產(chǎn)A16技術(shù)，該技術(shù)將結(jié)合納米片晶體管和超級電軌架構(gòu)。

      2024-05-20 標簽：臺積電晶體管EUV 445 0

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