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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

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照亮半導體創(chuàng)新之路

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一文讀懂芯片混合鍵合工藝流程

在封裝史上，最后一次重大范式轉變是從引線鍵合到倒裝芯片。從那時起，更先進的封裝形式（例如晶圓級扇出和 TCB）一直是相同核心原理的漸進式改進。

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EUV反射鏡的鍍膜工藝：如何選擇合適的鍍膜機

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2024-02-21 標簽：光譜反射鏡鍍膜機 1177 0

高數(shù)值孔徑EUV光刻：引領下一代芯片制造的革命性技術

摩爾定律是指在給定面積的硅片上，晶體管的數(shù)量大約每兩年翻一番，這種增益推動了計算技術的發(fā)展。在過去半個世紀里，我們將該定律視為一種類似進化或衰老的不可避...

2024-01-24 標簽：摩爾定律晶體管芯片制造 819 0

一文弄懂半導體掩膜版制造工藝及流程

微電子制造過程中的圖形轉移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是圖形設計和工藝技術等...

2024-01-06 標簽：集成電路液晶顯示器光刻機 3.4萬 0

光刻掩膜版保護膜常見的類型有哪些？

掩膜版保護膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對掩膜版起物理與化學保護作用。

2024-01-04 標簽：光刻 EUV 芯片制程 1282 0

什么是摩爾定律，“摩爾定律2.0”從2D微型化到3D堆疊

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2023-12-02 標簽：集成電路英特爾摩爾定律 1669 0

光刻膠國內(nèi)市場及國產(chǎn)化率詳解

KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣泛應用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應用于150 , 200...

2023-11-29 標簽：集成電路 pcb 光刻技術 721 0

什么是納米壓印技術？能否取代***？

納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪坦に?，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機，進行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取...

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關于數(shù)字處理技術部分的路線圖介紹

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什么是EUV光刻？EUV與DUV光刻的區(qū)別

EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續(xù)步驟。

2023-10-30 標簽：芯片設計光刻 EUV 2789 0

光學光刻技術有哪些分類光刻技術的原理

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2023-10-24 標簽：芯片集成電路芯片制造 890 0

高數(shù)值孔徑EUV的可能拼接解決方案

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EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當受到EUV光子照射時會發(fā)生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減...

2023-09-11 標簽：顯示器 car 半導體制造 834 0

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