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標(biāo)簽 > 芯片制造

芯片制造

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《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。

文章:607個(gè) 瀏覽:28850 帖子:12個(gè)

芯片制造技術(shù)

一文詳解芯片制造全過(guò)程

簡(jiǎn)單地說(shuō),處理器的制造過(guò)程可以大致分為沙子原料(石英)、硅錠、晶圓、光刻(平版印刷)、蝕刻、離子注入、金屬沉積、金屬層、互連、晶圓測(cè)試與切割、核心封裝、...

2020-10-12 標(biāo)簽:芯片芯片制造 5.5萬(wàn) 0

看一看,數(shù)一數(shù),制造一枚合格的芯片都需要哪些設(shè)備?

反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的,利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,即...

2018-05-16 標(biāo)簽:半導(dǎo)體芯片制造光刻機(jī) 4.1萬(wàn) 0

***是什么東西 ***的難度在哪里

光刻機(jī)的難度在于要滿(mǎn)足復(fù)雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),光刻機(jī)制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新,不斷提升設(shè)備性能...

2023-06-28 標(biāo)簽:芯片制造光刻機(jī) 2.0萬(wàn) 0

晶圓制造與芯片制造的區(qū)別

晶圓制造和芯片制造是半導(dǎo)體行業(yè)中兩個(gè)非常重要的環(huán)節(jié),它們雖然緊密相連,但是卻有一些不同之處。下面我們來(lái)詳細(xì)介紹晶圓制造和芯片制造的區(qū)別。

2023-06-03 標(biāo)簽:芯片制造晶圓制造 1.7萬(wàn) 0

固晶機(jī)運(yùn)行簡(jiǎn)介

 LED產(chǎn)業(yè)鏈由襯底加工、LED外延片生產(chǎn)、芯片制造和器件封裝組成。封裝需要的貼片機(jī)、固晶機(jī)、焊線臺(tái)和灌膠機(jī)等。那led固晶機(jī)做什么的?下面由賢集網(wǎng)小編...

2020-01-28 標(biāo)簽:led芯片制造LED固晶 1.5萬(wàn) 0

刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)似,先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜,再將掩膜與待加工物料模組裝好,將樣品置于刻蝕室內(nèi),通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...

2024-03-11 標(biāo)簽:芯片制造光刻光刻機(jī) 1.1萬(wàn) 0

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試...

2023-06-09 標(biāo)簽:芯片制造光刻機(jī)EUV 1.0萬(wàn) 0

簡(jiǎn)單梳理芯片制造的基本步驟

從光刻機(jī)出來(lái)后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙,簡(jiǎn)稱(chēng)后烘。這一步的目的是通過(guò)加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成,可以彌補(bǔ)曝光強(qiáng)度不足的問(wèn)題。

2023-02-16 標(biāo)簽:芯片芯片制造光刻機(jī) 9663 0

全面詳解半導(dǎo)體制造工藝與進(jìn)化

全面詳解半導(dǎo)體制造工藝與進(jìn)化

雙極性晶體管,英語(yǔ)名稱(chēng)為BipolarTransistor,是雙極性結(jié)型晶體管的簡(jiǎn)稱(chēng),由于其具有三個(gè)終端,因此通常將其稱(chēng)為三極管。三極管由兩個(gè)PN結(jié)構(gòu)成...

2023-12-02 標(biāo)簽:集成電路三極管晶體管 8922 0

芯片工藝的"7nm" 、"5nm"到底指什么?

芯片工藝的"7nm" 、"5nm"到底指什么?

近幾年,芯片產(chǎn)業(yè)越來(lái)越火熱,一些行業(yè)內(nèi)的術(shù)語(yǔ)大家也聽(tīng)得比較多了。那么工藝節(jié)點(diǎn)、制程是什么,"7nm" 、"5nm"...

2023-07-28 標(biāo)簽:微處理器晶體管芯片制造 8600 0

光刻機(jī)為何在我國(guó)是個(gè)難題

 光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前,ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國(guó)一直以來(lái)都想掌握光刻機(jī)技術(shù),但是上海微電子經(jīng)過(guò)17年的努力,才造出90...

2020-01-29 標(biāo)簽:光敏芯片制造硅片 8151 0

CD-SEM是怎樣測(cè)線寬呢?CD-SEM與普通SEM有哪些區(qū)別?

CD-SEM是怎樣測(cè)線寬呢?CD-SEM與普通SEM有哪些區(qū)別?

CD-SEM,全名Critical Dimension Scanning Electron Microscopy,中文翻譯過(guò)來(lái)是:特征尺寸掃描電子顯微鏡。

2023-10-07 標(biāo)簽:晶圓芯片制造SEM 7703 0

人工智能芯片的概念和發(fā)展趨勢(shì) 人工智能在芯片制造中的應(yīng)用

人工智能(AI)芯片是一種專(zhuān)門(mén)為AI應(yīng)用而設(shè)計(jì)的芯片,與傳統(tǒng)通用處理器芯片不同,AI芯片被優(yōu)化以支持高度的并行計(jì)算、深度網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)、適應(yīng)性學(xué)習(xí)、語(yǔ)音識(shí)別、...

2023-08-24 標(biāo)簽:計(jì)算機(jī)AI芯片制造 7599 0

激光隱切工藝詳解及其應(yīng)用舉例

激光隱切工藝詳解及其應(yīng)用舉例

在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,需要采用切割工藝對(duì)晶圓進(jìn)行劃片,然而傳統(tǒng)的金剛石切割、砂輪切割會(huì)對(duì)半導(dǎo)體材料造成較為嚴(yán)重的損傷,導(dǎo)致半導(dǎo)體晶圓碎裂、芯片性能下降...

2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓芯片制造 7058 0

關(guān)于芯片制造所遭遇的難題和挑戰(zhàn)

在處理器的世界里,什么都不會(huì)立即發(fā)生,也不會(huì)在不需要電源的情況下發(fā)生。更大的元件需要更長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)改變它們的狀態(tài),信號(hào)需要更長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)傳輸,并且需要更多的...

2019-08-27 標(biāo)簽:處理器芯片制造電磁波 6840 0

***工藝流程圖及成像過(guò)程詳解

***工藝流程圖及成像過(guò)程詳解

IGBT相比MOSFET,可在更高電壓下持續(xù)工作,同時(shí)需要兼顧高功率密度、低損耗、高可靠性、散熱好、低成本等因素。一顆高性能、高可靠性與低成本的IGBT...

2023-06-06 標(biāo)簽:MOSFETIGBT芯片制造 6586 0

光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EU...

2024-03-21 標(biāo)簽:芯片集成電路芯片制造 6539 0

為什么要提升芯片良率?良率為什么難提升?

為什么要提升芯片良率?良率為什么難提升?

提高芯片的良率變得越來(lái)越困難,很多新建的晶圓廠通線數(shù)年仍難以量產(chǎn),有的雖勉強(qiáng)量產(chǎn),但是良率始終無(wú)法爬坡式的提升,很多朋友會(huì)問(wèn):芯片的良率提升真的有那么難...

2023-09-06 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓芯片制造 5611 0

晶圓制造的基礎(chǔ)知識(shí)

芯片制造主要分為5個(gè)階段:材料制備;晶體生長(zhǎng)或晶圓制備;晶圓制造和分揀;封裝;終測(cè)。

2022-12-12 標(biāo)簽:晶圓芯片制造晶圓制造 5260 0

CMP工藝技術(shù)淺析

CMP工藝技術(shù)淺析

在芯片制造制程和工藝演進(jìn)到一定程度、摩爾定律因沒(méi)有合適的拋光工藝無(wú)法繼續(xù)推進(jìn)之時(shí),CMP技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,是集成電路制造過(guò)程中實(shí)現(xiàn)晶圓表面平坦化的關(guān)鍵工藝。...

2023-02-03 標(biāo)簽:集成電路封裝工藝 5162 0

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    北京時(shí)間2015年9月10日,美國(guó)蘋(píng)果公司發(fā)布了iPhone 6s[1] 。iPhone 6s有金色、銀色、深空灰色、玫瑰金色。
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視頻放大器 功率放大器 頻率轉(zhuǎn)換器 揚(yáng)聲器放大器 音頻轉(zhuǎn)換器 音頻開(kāi)關(guān) 音頻接口 音頻編解碼器
模數(shù)轉(zhuǎn)換器 數(shù)模轉(zhuǎn)換器 數(shù)字電位器 觸摸屏控制器 AFE ADC DAC 電源管理
線性穩(wěn)壓器 LDO 開(kāi)關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
變送器 傳感器 解析器 編碼器 陀螺儀 加速計(jì) 溫度傳感器 壓力傳感器
電機(jī)驅(qū)動(dòng)器 步進(jìn)驅(qū)動(dòng)器 TWS BLDC 無(wú)刷直流驅(qū)動(dòng)器 濕度傳感器 光學(xué)傳感器 圖像傳感器
數(shù)字隔離器 ESD 保護(hù) 收發(fā)器 橋接器 多路復(fù)用器 氮化鎵 PFC 數(shù)字電源
開(kāi)關(guān)電源 步進(jìn)電機(jī) 無(wú)線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機(jī)
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Type-C USB 以太網(wǎng) 仿真器 RISC RAM 寄存器 GPU
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