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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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簡(jiǎn)單地說(shuō),處理器的制造過(guò)程可以大致分為沙子原料(石英)、硅錠、晶圓、光刻(平版印刷)、蝕刻、離子注入、金屬沉積、金屬層、互連、晶圓測(cè)試與切割、核心封裝、...
看一看,數(shù)一數(shù),制造一枚合格的芯片都需要哪些設(shè)備?
反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的,利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,即...
光刻機(jī)的難度在于要滿(mǎn)足復(fù)雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),光刻機(jī)制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新,不斷提升設(shè)備性能...
晶圓制造和芯片制造是半導(dǎo)體行業(yè)中兩個(gè)非常重要的環(huán)節(jié),它們雖然緊密相連,但是卻有一些不同之處。下面我們來(lái)詳細(xì)介紹晶圓制造和芯片制造的區(qū)別。
LED產(chǎn)業(yè)鏈由襯底加工、LED外延片生產(chǎn)、芯片制造和器件封裝組成。封裝需要的貼片機(jī)、固晶機(jī)、焊線臺(tái)和灌膠機(jī)等。那led固晶機(jī)做什么的?下面由賢集網(wǎng)小編...
刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別
刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)似,先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜,再將掩膜與待加工物料模組裝好,將樣品置于刻蝕室內(nèi),通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試...
從光刻機(jī)出來(lái)后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙,簡(jiǎn)稱(chēng)后烘。這一步的目的是通過(guò)加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成,可以彌補(bǔ)曝光強(qiáng)度不足的問(wèn)題。
雙極性晶體管,英語(yǔ)名稱(chēng)為BipolarTransistor,是雙極性結(jié)型晶體管的簡(jiǎn)稱(chēng),由于其具有三個(gè)終端,因此通常將其稱(chēng)為三極管。三極管由兩個(gè)PN結(jié)構(gòu)成...
芯片工藝的"7nm" 、"5nm"到底指什么?
近幾年,芯片產(chǎn)業(yè)越來(lái)越火熱,一些行業(yè)內(nèi)的術(shù)語(yǔ)大家也聽(tīng)得比較多了。那么工藝節(jié)點(diǎn)、制程是什么,"7nm" 、"5nm"...
光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前,ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國(guó)一直以來(lái)都想掌握光刻機(jī)技術(shù),但是上海微電子經(jīng)過(guò)17年的努力,才造出90...
CD-SEM是怎樣測(cè)線寬呢?CD-SEM與普通SEM有哪些區(qū)別?
CD-SEM,全名Critical Dimension Scanning Electron Microscopy,中文翻譯過(guò)來(lái)是:特征尺寸掃描電子顯微鏡。
人工智能芯片的概念和發(fā)展趨勢(shì) 人工智能在芯片制造中的應(yīng)用
人工智能(AI)芯片是一種專(zhuān)門(mén)為AI應(yīng)用而設(shè)計(jì)的芯片,與傳統(tǒng)通用處理器芯片不同,AI芯片被優(yōu)化以支持高度的并行計(jì)算、深度網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)、適應(yīng)性學(xué)習(xí)、語(yǔ)音識(shí)別、...
2023-08-24 標(biāo)簽:計(jì)算機(jī)AI芯片制造 7599 0
在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,需要采用切割工藝對(duì)晶圓進(jìn)行劃片,然而傳統(tǒng)的金剛石切割、砂輪切割會(huì)對(duì)半導(dǎo)體材料造成較為嚴(yán)重的損傷,導(dǎo)致半導(dǎo)體晶圓碎裂、芯片性能下降...
在處理器的世界里,什么都不會(huì)立即發(fā)生,也不會(huì)在不需要電源的情況下發(fā)生。更大的元件需要更長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)改變它們的狀態(tài),信號(hào)需要更長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)傳輸,并且需要更多的...
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EU...
提高芯片的良率變得越來(lái)越困難,很多新建的晶圓廠通線數(shù)年仍難以量產(chǎn),有的雖勉強(qiáng)量產(chǎn),但是良率始終無(wú)法爬坡式的提升,很多朋友會(huì)問(wèn):芯片的良率提升真的有那么難...
芯片制造主要分為5個(gè)階段:材料制備;晶體生長(zhǎng)或晶圓制備;晶圓制造和分揀;封裝;終測(cè)。
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