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標(biāo)簽 > 等離子
如果溫度不斷升高,氣體將會發(fā)生怎樣的變化呢?科學(xué)家告訴我們,這時構(gòu)成分子的原子發(fā)生分離,形成為獨立的原子,如氮分子會分裂成兩個氮原子,我們稱這種過程為氣體中分子的離解。
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等離子清洗技術(shù)原理??、分類???、特點、應(yīng)用及發(fā)展趨勢
??? 等離子清洗技術(shù)是一種新型的表面處理技術(shù),它通過利用等離子體中的活性粒子與材料表面的化學(xué)反應(yīng),去除材料表面的污染物和雜質(zhì),從而改善材料的表面性能。...
聚焦放電主要包括兩個步驟:1) 將玻璃放在兩個電極之間,通過控制放電對玻璃局部區(qū)域進行放電熔融;2)通過焦耳熱使玻璃內(nèi)部產(chǎn)生高應(yīng)力,引起內(nèi)部高壓和介電擊穿。
等離子發(fā)動機的原理 等離子發(fā)動機最大推力是多少
等離子發(fā)動機原理: 等離子發(fā)動機是一種利用電磁力將離子加速并噴射出來產(chǎn)生推力的發(fā)動機。它主要包括等離子體產(chǎn)生器、離子加速器和噴嘴等組成。下面將詳細介紹等...
什么是等離子體(Plasma),Plasma的組成及應(yīng)用
焊線連接:工藝通過使用氬離子進行物理撞擊,移除基材上的微量污染和氧化物。這種工藝對于解決焊線接合力不足是一種非常有效的途徑。主要優(yōu)點包括焊線接合力具有顯...
近日,Nano Letters(《納米快報》)在線發(fā)表武漢大學(xué)高等研究院梁樂課題組和約翰霍普金斯大學(xué)Ishan Barman課題組關(guān)于高效構(gòu)建等離子增強...
為了提供更優(yōu)良的靜電完整性,三維(3D)設(shè)計(如全圍柵(GAA)場電子晶體管(FET ))預(yù)計將在互補金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)中被采用。3D MOS架構(gòu)為蝕...
本文以 SOP008L 為例,通過對等離子清洗前后引線框架水滴角對比試驗,工藝實驗達到預(yù)期的效果,符合封裝工藝的實際情況。研究結(jié)論對提高封裝產(chǎn)品的可靠性...
在真空狀態(tài)下,高頻電源的高壓交變電場將氧氣、氫氣等反應(yīng)性氣體電離成高能量和高反應(yīng)性的等離子氣體。這些高活性基團被吸附在工件表面,與表面污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)...
針對上述問題,該團隊提出離子動力學(xué)調(diào)制方法,對克服傳統(tǒng)D-LIBS放電能耗大、安全風(fēng)險高、環(huán)境危害大等不利因素,同時提高分析靈敏度具有顯著改善效果。該工...
等離子清洗的反應(yīng)機理如圖 1 所示,通常包括 以下過程:反應(yīng)氣體被離解為等離子體;等離子體作 用于固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子與 殘余物脫離固...
首次提出并利用激光誘導(dǎo)等離子體沖擊波與外加電場空間零弧度耦合方式,實現(xiàn)有效放電區(qū)域全方位覆蓋激光等離子體中粒子的擴散方向,離子的動力學(xué)特征從原始的向外擴...
與濕式刻蝕比較,等離子體刻蝕較少使用化學(xué)試劑,因此也減少了化學(xué)藥品的成本和處理費用。
由下圖可以看出當(dāng)氣體密度較高時MFP較短(a);而當(dāng)氣體密度較低時,MFP就較長(b)。大粒子的截面積較大,掃過的空間也較大。與一般或較小的離子相比,大...
等離子體工藝廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中。比如,IC制造中的所有圖形化刻蝕均為等離子體刻蝕或干法刻蝕,等離子體增強式化學(xué)氣相沉積(PECVD)和高密度等離子體...
干法刻蝕解決RIE中無法得到高深寬比結(jié)構(gòu)或陡直壁問題
在 MEMS 制造工藝中,常用的干法刻蝕包括反應(yīng)離子刻蝕 (Reactive lon Etching, RIE)、深反應(yīng)離子刻蝕(Deep Reacti...
物質(zhì)狀態(tài)亦可用相的轉(zhuǎn)變來表達。相的轉(zhuǎn)變可以是結(jié)構(gòu)上的轉(zhuǎn)變又或者是出現(xiàn)一些獨特的性質(zhì)。
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