掩膜

正性光刻對掩膜版的要求

在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準(zhǔn)...

2024-12-20 標(biāo)簽：光刻微流控掩膜 255 0

光刻掩膜和光刻模具的關(guān)系

光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的...

2024-10-14 標(biāo)簽：光刻掩膜 323 0

光刻掩膜版制作流程

光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過程，涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開始制作光刻掩膜版之前，首先需要...

2024-09-14 標(biāo)簽：光刻掩膜 803 0

掩膜版與光刻膠的功能和作用

掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側(cè)重，但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，...

2024-09-06 標(biāo)簽：芯片光刻膠掩膜 820 0

芯片光刻掩膜的保存方法

光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類似于照相的通過它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機(jī)藥品，一部分不感光，易溶于有機(jī)藥品，以而制得選擇擴(kuò)散所...

2024-09-04 標(biāo)簽：芯片光刻掩膜 323 0

如何成功進(jìn)行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？

為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。 首先，光掩模和晶圓...

2024-08-23 標(biāo)簽：微流控光刻膠掩膜 369 0

微流控光刻掩膜制作

微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個(gè)步驟，?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等，?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先，?設(shè)計(jì)階段是制作掩膜版...

2024-08-08 標(biāo)簽：光刻微流控掩膜 357 0

臺(tái)灣光罩40nm產(chǎn)品今下半年量產(chǎn)，營收將逐季增長

臺(tái)灣光罩股份有限公司在5月27日宣布其40納米制程掩膜產(chǎn)品已獲得客戶認(rèn)可，預(yù)計(jì)下半年開始批量生產(chǎn)。此舉將促使其全年掩模產(chǎn)品銷售額持續(xù)上升。

2024-05-28 標(biāo)簽：納米掩膜 1191 0

美國BIS更新出口管制新規(guī)，強(qiáng)化半導(dǎo)體出口監(jiān)管

首先，對EUV掩膜基板追加管制。特別是專供EUV光刻制程之用的掩膜基板現(xiàn)已正式納入出口控制范圍，相關(guān)出口皆需遵循嚴(yán)格的許可要求。

2024-04-08 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV掩膜 740 0

清溢光電在南海丹灶建設(shè)高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地

　據(jù)悉，佛山清溢微電子有限公司就是深圳清溢光電股份有限公司（以下簡稱為“清溢光電”）在佛山設(shè)立的分公司。該公司創(chuàng)立于1997年，至2019年已成功上市；...

2024-01-30 標(biāo)簽：高精度半導(dǎo)體芯片掩膜 1656 0

冠石半導(dǎo)體光掩模版項(xiàng)目在寧波順利封頂

據(jù)了解，該項(xiàng)目預(yù)計(jì)總投資額接近20億元，其中已初步投入16億元，占地約68.8畝，整個(gè)建設(shè)周期預(yù)定60個(gè)月，主要致力于45-28nm成熟制程半導(dǎo)體光掩膜...

2024-01-29 標(biāo)簽：半導(dǎo)體顯示面板掩膜 1431 0

路芯半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)項(xiàng)目奠基啟動(dòng)，2025年預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

根據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)融媒體中心報(bào)道，江蘇路芯半導(dǎo)體科技有限公司，由業(yè)界頂級企業(yè)與金融巨頭聯(lián)合創(chuàng)立，主要研發(fā)和生產(chǎn)低至28nm，高端至45nm甚至更高節(jié)點(diǎn)的掩...

2024-01-24 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體掩膜 1475 0

江蘇路芯半導(dǎo)體建設(shè)130nm-28nm制程半導(dǎo)體掩膜版

鑒于掩膜版制作技術(shù)難度大，故我國在 130nm 及其以下制程節(jié)點(diǎn)對國外進(jìn)口的依賴程度較深。據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)一網(wǎng)通辦公布的信息，江蘇路芯半導(dǎo)體科技是蘇州路行...

2024-01-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)線掩膜 1352 0

國調(diào)基金與深創(chuàng)投聯(lián)手領(lǐng)投湖南普照，加速集成電路布局

據(jù)了解，國調(diào)基金看好普照材料的發(fā)展前景并承諾此次投資將極大地幫助其擴(kuò)大產(chǎn)量。普照材料成立于2003年，坐落于長沙國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)麓谷，是我國獨(dú)家從...

2024-01-16 標(biāo)簽：基板基金掩膜 704 0

重要材料短缺！半導(dǎo)體公司加價(jià)求貨

本次報(bào)道指出，光掩膜短缺主要與幾個(gè)因素有關(guān)：先進(jìn)制程工藝芯片中，更薄的電路圖案需要更多的光掩膜；DUV工藝相較EUV也需要更多的光掩膜。另外，ChatG...

2023-11-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體公司掩膜AI芯片 601 0