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標(biāo)簽 > 掩膜
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半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程 掩膜版(Photomask)又稱光罩,是液晶顯示器、半導(dǎo)體等制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微細(xì)...
在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準(zhǔn)...
光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用,但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的...
光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過程,涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年,是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢,下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對掩膜版的性能、成本等要求不同,不同代別的產(chǎn)...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
鉻版掩膜版在IC生產(chǎn)中會大量使用,現(xiàn)社會因?yàn)長CD生產(chǎn)的檔次提高了,也加大了生產(chǎn)量,鉻板也逐漸由IC行業(yè)給推薦至LCD行業(yè)。鉻板的優(yōu)點(diǎn)很多,比如:線條精...
2024-09-05 標(biāo)簽:掩膜 274 0
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機(jī)藥品,一部分不感光,易溶于有機(jī)藥品,以而制得選擇擴(kuò)散所...
為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓...
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