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標簽 > 刻蝕
刻蝕,英文為Etch,它是半導體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。
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對于電子設備來說,它藏在內部,又非常重要,相當于汽車的發(fā)動機、人的心臟,所以叫“芯”。從形態(tài)來看,它是一片一片的,所以叫“片”。合起來,就是“芯片”。
但是里面也有幾個關鍵的工藝參數需要控制的。同樣Etch GaAs也可以用ICP干法刻蝕的工藝,比濕法工藝效果要好些,側壁也垂直很多。
聚焦離子束與電子束曝光系統(tǒng)相似,由發(fā)射源、離子光柱、工作臺、真空與控制系統(tǒng)等結構組成,其核心為離子光學系統(tǒng),適用的是液態(tài)金屬離子源(例如鎵離子源)。
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