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標(biāo)簽 > 刻蝕
刻蝕，英文為Etch，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻 ［1］ 相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。所謂刻蝕，實(shí)際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過(guò)光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理，然后通過(guò)其它方式實(shí)現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。
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深入剖析半導(dǎo)體濕法刻蝕過(guò)程中殘留物形成的機(jī)理
半導(dǎo)體濕法刻蝕過(guò)程中殘留物的形成，其背后的機(jī)制涵蓋了化學(xué)反應(yīng)、表面交互作用以及側(cè)壁防護(hù)等多個(gè)層面，下面是對(duì)這些機(jī)制的深入剖析： 化學(xué)反應(yīng)層面 1 刻蝕劑...
等離子體刻蝕和濕法刻蝕是集成電路制造過(guò)程中常用的兩種刻蝕方法，雖然它們都可以用來(lái)去除晶圓表面的材料，但它們的原理、過(guò)程、優(yōu)缺點(diǎn)及適用范圍都有很大的不同。...
什么是刻蝕？刻蝕是指通過(guò)物理或化學(xué)方法對(duì)材料進(jìn)行選擇性的去除，從而實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)圖形的一種技術(shù)。蝕刻是半導(dǎo)體制造及微納加工工藝中相當(dāng)重要的步驟，自194...
????? ALE，英文名Atomic Layer Etching，中文名原子層刻蝕。是和ALD相對(duì)的，均是自限性反應(yīng)，一個(gè)是沉積一個(gè)是刻蝕。ALD是每...
無(wú)偏差的刻蝕過(guò)程，我們稱之為各向異性刻蝕。為了更清晰地理解這一過(guò)程，我們可以將其拆解為幾個(gè)基本環(huán)節(jié)。首先，第一個(gè)環(huán)節(jié)是刻蝕氣體的處理，這些氣體在等離子體...
(1)什么是飛秒激光 激光器作為20世紀(jì)最偉大的發(fā)明之一，因激光具有方向性、單色性好以及具有良好相干性等特點(diǎn)，在諸多領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。 20世紀(jì)70年...
在芯片制造過(guò)程中的各工藝站點(diǎn)，有很多不同的工藝名稱用于除去晶圓上多余材料，如“清洗”、“刻蝕”、“研磨”等。如果說(shuō)“清洗”工藝是把晶圓上多余的臟污、pa...
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造過(guò)程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕（Etch）是芯片制造過(guò)程中相當(dāng)重要的步驟。 刻蝕主要分為干刻蝕和濕法刻蝕。 ①干法刻蝕 利用等離子...
本文介紹了刻蝕工藝參數(shù)有哪些。 刻蝕是芯片制造中一個(gè)至關(guān)重要的步驟，用于在硅片上形成微小的電路結(jié)構(gòu)。它通過(guò)化學(xué)或物理方法去除材料層，以達(dá)到特定的設(shè)計(jì)要求...
IMD4 工藝是形成 TMV （Top Metal VIA，頂層金屬通孔）的介質(zhì)隔離材料，同時(shí)IMD4 會(huì)隔離第三層金屬和頂層 AL金屬。IMD4 的材...
晶體硅太陽(yáng)能電池刻蝕的作用及方法與刻蝕的工藝流程等介紹立即下載
類別：電源技術(shù) 2017-09-29 標(biāo)簽：太陽(yáng)能電池刻蝕 1755 0
半導(dǎo)體濕法刻蝕殘留物的原理涉及化學(xué)反應(yīng)、表面反應(yīng)、側(cè)壁保護(hù)等多個(gè)方面。 以下是對(duì)半導(dǎo)體濕法刻蝕殘留物原理的詳細(xì)闡述： 化學(xué)反應(yīng) 刻蝕劑與材料的化學(xué)反應(yīng)：...
都說(shuō)半導(dǎo)體濕法刻蝕工藝復(fù)雜，但是你真的了解過(guò)嗎？雖然復(fù)雜，還是有流程有規(guī)律可循。你知道到底半導(dǎo)體刻蝕有哪些工藝嗎？不知道的話今天就是一個(gè)科普好機(jī)會(huì)，一起...
芯片濕法刻蝕方法主要包括各向同性刻蝕和各向異性刻蝕。為了讓大家更好了解這兩種方法，我們下面準(zhǔn)備了詳細(xì)的介紹，大家可以一起來(lái)看看。 各向同性刻蝕 定義：各...
大家知道芯片是一個(gè)要求極其嚴(yán)格的東西，為此我們生產(chǎn)中想盡辦法想要讓它減少污染，更加徹底去除污染物。那么，今天來(lái)說(shuō)說(shuō)，大家知道芯片濕法刻蝕殘留物到底用什么...
目前芯片最流行的工藝一定屬于濕法刻蝕。那么今天來(lái)解答大家一個(gè)問(wèn)題，芯片濕法刻蝕中DIN是什么？似乎不研究深入，大家也沒(méi)辦法一下子解答這個(gè)問(wèn)題。那今天是一...
提高濕法刻蝕的選擇比，是半導(dǎo)體制造過(guò)程中優(yōu)化工藝、提升產(chǎn)品性能的關(guān)鍵步驟。選擇比指的是在刻蝕過(guò)程中，目標(biāo)材料與非目標(biāo)材料的刻蝕速率之比。一個(gè)高的選擇比意...
濕法刻蝕是一種在半導(dǎo)體制造過(guò)程中常用的技術(shù)，用于通過(guò)化學(xué)反應(yīng)溶解或腐蝕材料表面，以形成所需的紋理或結(jié)構(gòu)。 以下是濕法刻蝕的詳細(xì)工藝原理： 準(zhǔn)備工作 在進(jìn)...
晶圓濕法刻蝕原理是指通過(guò)化學(xué)溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為液體化合物的過(guò)程。這一過(guò)程主要利用化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除材料表面的特定部分，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體材料的精細(xì)加工和圖案...
???? 聚焦離子束（FIB）在材料表征方面有著廣泛的應(yīng)用，包括透射電鏡（TEM）樣品的制備。在這方面，F(xiàn)IB比傳統(tǒng)的氬離子束研磨具有許多優(yōu)勢(shì)。例如，電...
本文介紹了腔室壓力對(duì)刻蝕的影響。 ? 腔室壓力是如何調(diào)節(jié)的？對(duì)刻蝕的結(jié)果有什么影響？ ? 什么是腔室壓力？ 腔室壓力是指在刻蝕設(shè)備的工藝腔室內(nèi)的氣體壓力...
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