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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。
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匯集多種優(yōu)勢特征于一體的平行紫外光源是半導(dǎo)體芯片制造中實現(xiàn)高精度、超準(zhǔn)確曝光效果的關(guān)鍵。對比矩陣式LED光源,友思特ALE光源的光刻曝光效果展示出了優(yōu)異的性能。
在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準(zhǔn)...
? 圖像轉(zhuǎn)移,也稱為光刻技術(shù)(或簡稱光刻),在PCB的電路圖形方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。它能實現(xiàn)復(fù)雜和精確的連接,以支持在更小的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)更多連接。隨著對更高密度...
光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用,但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的...
想必大家都有所了解,光刻機對芯片制造的重要性,而光掩膜版又稱光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成,主要作用體...
2024-10-09 標(biāo)簽:光刻 330 0
光刻掩膜版的制作是一個復(fù)雜且精密的過程,涉及到多個步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計與準(zhǔn)備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...
微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色。它的主要作用是通過曝光和顯影等工序,將掩膜上已設(shè)計好的圖案轉(zhuǎn)移到襯底的光刻膠上,進行圖像復(fù)制,從而...
微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設(shè)計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計階段是制作掩膜版...
VCSEL激光在蝕刻和光刻中應(yīng)用廣泛,提高精度和效率。銀月光科技提供多波長VCSEL激光器,定制化服務(wù),助力工業(yè)生產(chǎn)高效高質(zhì)量。未來,更多種類VCSEL...
來源:Silicon Semiconductor ? SkyWater位于明尼蘇達的工廠旨在擁有世界上最先進的200毫米光刻技術(shù)。 SkyWater T...
友思特應(yīng)用 硅片上的光影貼合:UV-LED曝光系統(tǒng)在晶圓邊緣曝光中的高效應(yīng)用
晶圓邊緣曝光是幫助減少晶圓涂布過程中多余的光刻膠對電子器件影響的重要步驟。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能點光源,作為唯一可用...
LED替代汞燈在紫外光源中的使用已成為大勢所趨。友思特先進的 UV-LED-EXP 系統(tǒng)可作為OEM集成、汞燈光刻設(shè)備改造或直接定制光路設(shè)計和曝光設(shè)備,...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點
共讀好書 前烘對正膠顯影的影響 前烘對負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】...
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺積電以及日本即將落成的先進晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將...
精密光子制造中為什么要使用飛秒激光?飛秒激光器發(fā)射持續(xù)時間低于一皮秒的超短光脈沖,達到飛秒級(1fs=10-15s)。飛秒激光的特點是脈沖寬度極短,峰值...
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯(lián)合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日,全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...
新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng) 無需掩膜
? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù),其成本正呈指數(shù)級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補充性選項,可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場。電子束光刻技術(shù)采用電...
英特爾推進面向未來節(jié)點的技術(shù)創(chuàng)新,在2025年后鞏固制程領(lǐng)先性
英特爾正在按計劃實現(xiàn)其“四年五個制程節(jié)點”的目標(biāo),目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。...
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