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標(biāo)簽 > 光刻蝕
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光刻蝕(Photolithography)是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術(shù),用于制造微細(xì)結(jié)構(gòu)和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學(xué)和物理作用,...
2023-08-24 標(biāo)簽:太陽(yáng)能電池光刻膠刻蝕 4437 0
準(zhǔn)備工作的最后一道工序是在二氧化硅層上覆蓋一個(gè)感光層。這一層物質(zhì)用于同一層中的其它控制應(yīng)用。這層物質(zhì)在干燥時(shí)具有很好的感光效果,而且在光刻蝕過程結(jié)束之后...
關(guān)于光刻膠溶解過程中表面粗糙度的變化研究報(bào)告
摘要 圖案圖像中納米級(jí)粗糙度的最小化已成為微處理器生產(chǎn)中光刻過程的優(yōu)先事項(xiàng)。為了探究表面粗糙度的分子基礎(chǔ),通過將臨界電離模型應(yīng)用于聚合物基體的三維分子晶...
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