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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：306個 瀏覽：30294次 帖子：4個

      光刻膠技術(shù)

      詳解光刻膠技術(shù)并闡述光刻膠產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀和國內(nèi)發(fā)展趨勢

      光刻膠是電子領(lǐng)域微細圖形加工關(guān)鍵材料之一，是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下...

      2019-02-19 標簽：芯片光刻膠 4.0萬 0

      光刻膠材料的制備和基本要素

      光刻膠材料的制備和基本要素

      光刻膠是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。主要應用領(lǐng)域包括：半導體領(lǐng)域的集成電路和...

      2019-02-11 標簽：euv光刻膠 2.6萬 1

      光刻膠的原理和正負光刻膠的主要組分是什么

      光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑...

      2022-10-21 標簽：半導體光刻膠 2.1萬 2

      浸沒式光刻原理淺析

      到2002年底浸入式技術(shù)迅速成為光刻技術(shù)中的新寵，而此前業(yè)界并沒有認為浸入式技術(shù)有如此大的功效。

      2019-08-08 標簽：EUV光刻膠 2.0萬 0

      ***誰發(fā)明出來的 ***有多難制造

      光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝，需要高度專業(yè)化的技術(shù)和設(shè)備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件，如光學系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。

      2023-07-04 標簽：集成電路光學系統(tǒng)光刻機 1.4萬 0

      極紫外（EUV）光刻新挑戰(zhàn) 光刻膠只是其一

      極紫外（EUV）光刻新挑戰(zhàn) 光刻膠只是其一

      光刻膠是用來制作圖案的光敏聚合物，它是造成隨機性效應的罪魁禍首之一。根據(jù)定義，隨機效應描述了具有光量子隨機變化的事件。它們是不可預測的，沒有穩(wěn)定的模式。

      2018-03-27 標簽：euv光刻膠 1.1萬 0

      一文解析對準光刻蝕刻光刻的基本知識（SALELE）

      一文解析對準光刻蝕刻光刻的基本知識（SALELE）

      通過逐步的說明，本系列說明并向您展示了確保在當今最先進的節(jié)點中確保布局保真度所需的自對準模式創(chuàng)建的復雜性。第1部分介紹了SADP和SAQP。在本期的最后...

      2021-04-11 標簽：PTD光刻膠 1.1萬 0

      一文看懂：光刻膠的創(chuàng)新應用與國產(chǎn)替代機會

      一文看懂：光刻膠的創(chuàng)新應用與國產(chǎn)替代機會

      引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”，被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的...

      2022-04-25 標簽：電子元器件半導體光刻膠 1.1萬 0

      蝕刻后殘留物和光刻膠的去除方法

      蝕刻后殘留物和光刻膠的去除方法

      在未來幾代器件中，光刻膠(PR)和殘留物的去除變得非常關(guān)鍵。在前端制程(FEOL)離子注入后(源極/漏極、擴展、haIos、深阱)，使用PR封閉部分電路...

      2022-07-04 標簽：蝕刻晶片光刻膠 9497 0

      制造集成電路的版圖基本知識

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      在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。

      2023-06-25 標簽：集成電路CMOSMOSFET 9049 0

      芯片的制作為什么要用半導體？Wafer晶圓半導體制造工藝

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      所謂“半導體”，是一種導電性能介于“導體”和“絕緣體”之間的物質(zhì)總稱。導體能導電，比如鐵銅銀等金屬，絕緣體不導電，比如橡膠。芯片的制作為什么要用半導體？

      2023-05-15 標簽：晶圓半導體制造光刻膠 8413 0

      SPM光刻膠剝離和清洗工藝詳解

      SPM光刻膠剝離和清洗工藝詳解

      硫酸(H2SO4)和過氧化氫(H2O2)混合物(SPM)用于各種濕法清洗工藝步驟。表2.1顯示了SPM的一些常見清潔和表面處理順序:

      2022-07-11 標簽：清洗光刻膠SPM 8207 0

      重點闡述濕法刻蝕

      重點闡述濕法刻蝕

      光刻工藝后，在硅片或晶圓上形成了光刻膠的圖形，下一步就是刻蝕。

      2023-06-08 標簽：集成電路邏輯電路晶圓 6442 0

      干法刻蝕工藝介紹 硅的深溝槽干法刻蝕工藝方法

      干法刻蝕工藝介紹 硅的深溝槽干法刻蝕工藝方法

      第一種是間歇式刻蝕方法(BOSCH)，即多次交替循環(huán)刻蝕和淀積工藝，刻蝕工藝使用的是SF6氣體，淀積工藝使用的是C4F8氣體

      2023-07-14 標簽：TCPSSP電感耦合 6093 0

      極紫外（EUV）光刻新挑戰(zhàn)，除了光刻膠還有啥？

      隨機變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機性變化又稱為隨機效應正在重新浮出水面，并為這項期待已...

      2018-03-31 標簽：光刻膠 6027 0

      關(guān)于PCB通孔及尺寸要求

      合包與分包（pack and unpack，PAU）工藝被用于制備通孔陣列。與其他雙重曝光工藝不同，PAU工藝并不直接提供額外的圖形分辨率。

      2022-10-24 標簽：pcb光刻膠 5712 0

      全面解讀光刻膠工藝制造流程

      全面解讀光刻膠工藝制造流程

      光刻膠可以通過光化學反應，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，...

      2023-05-11 標簽：集成電路三極管印刷電路板 5688 0

      光刻技術(shù)的詳細工序

      光刻技術(shù)的詳細工序

      清洗硅片（Wafer Clean） 清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性 基本步驟：化學清洗——漂洗——烘干。

      2023-04-25 標簽：硅片光刻機光刻膠 5607 0

      光刻膠和光刻機的區(qū)別

      光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。

      2024-03-04 標簽：半導體材料半導體器件光刻機 4829 0

      半導體制造中的等離子體刻蝕過程

      從下圖中可以看出結(jié)合使用XeF2氣流和氯離子轟擊的刻蝕速率最高，明顯高于這兩種工藝單獨使用時的刻蝕速率總和。

      2023-02-23 標簽：半導體晶圓光刻膠 4691 0

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        IoT是Internet of Things的縮寫，字面翻譯是“物體組成的因特網(wǎng)”，準確的翻譯應該為“物聯(lián)網(wǎng)”。物聯(lián)網(wǎng)（Internet of Things）又稱傳感網(wǎng)，簡要講就是互聯(lián)網(wǎng)從人向物的延伸。
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        +關(guān)注
        Wi-Fi模塊又名串口Wi-Fi模塊，屬于物聯(lián)網(wǎng)傳輸層，功能是將串口或TTL電平轉(zhuǎn)為符合Wi-Fi無線網(wǎng)絡(luò)通信標準的嵌入式模塊，內(nèi)置無線網(wǎng)絡(luò)協(xié)議IEEE802.11b.g.n協(xié)議棧以及TCP/IP協(xié)議棧。傳統(tǒng)的硬件設(shè)備嵌入Wi-Fi模塊可以直接利用Wi-Fi聯(lián)入互聯(lián)網(wǎng)，是實現(xiàn)無線智能家居、M2M等物聯(lián)網(wǎng)應用的重要組成部分。
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        +關(guān)注
        Proteus軟件是英國Lab Center Electronics公司出版的EDA工具軟件（該軟件中國總代理為廣州風標電子技術(shù)有限公司）。它不僅具有其它EDA工具軟件的仿真功能，還能仿真單片機及外圍器件。
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        +關(guān)注
        UHD是”超高清“的意思UHD的應用在電視機技術(shù)上最為普遍，目前已有不少廠商推出了UHD超高清電視。
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        在眾多的51系列單片機中，要算國內(nèi)STC 公司的1T增強系列更具有競爭力，因他不但和8051指令、管腳完全兼容，而且其片內(nèi)的具有大容量程序存儲器且是FLASH工藝的，如STC12C5A60S2單片機內(nèi)部就自帶高達60K FLASHROM，這種工藝的存儲器用戶可以用電的方式瞬間擦除、改寫。
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        +關(guān)注
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        +關(guān)注
        LM2596是降壓型電源管理單片集成電路的開關(guān)電壓調(diào)節(jié)器，能夠輸出3A的驅(qū)動電流，同時具有很好的線性和負載調(diào)節(jié)特性。固定輸出版本有3.3V、5V、12V，可調(diào)版本可以輸出小于37V的各種電壓。
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        +關(guān)注
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        STM32單片機
        +關(guān)注
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      • 步進驅(qū)動器
        步進驅(qū)動器
        +關(guān)注
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      • Nexperia
        Nexperia
        +關(guān)注
        Nexperia是大批量生產(chǎn)基本半導體的領(lǐng)先專家，這些半導體是世界上每個電子設(shè)計都需要的組件。該公司廣泛的產(chǎn)品組合包括二極管、雙極晶體管、ESD 保護器件、MOSFET、GaN FET 以及模擬和邏輯IC。
      • CD4046
        CD4046
        +關(guān)注
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      • COMSOL
        COMSOL
        +關(guān)注
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      • 加速度傳感器
        加速度傳感器
        +關(guān)注
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        靜電防護
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        SDK
        +關(guān)注
        　　SDK一般指軟件開發(fā)工具包，軟件開發(fā)工具包一般都是一些軟件工程師為特定的軟件包、軟件框架、硬件平臺、操作系統(tǒng)等建立應用軟件時的開發(fā)工具的集合。軟件開發(fā)工具廣義上指輔助開發(fā)某一類軟件的相關(guān)文檔、范例和工具的集合。
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