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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：306個 瀏覽：30294次 帖子：4個

      光刻膠技術(shù)

      半導體材料概述

      半導體材料作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要環(huán)節(jié)，在芯片的生產(chǎn)制造過程中起到關(guān)鍵性作用。根據(jù)芯片制造過程劃分，半導體材料主要分為基體材料、制造材料和封裝材料。其...

      2023-08-14 標簽：芯片半導體晶圓 1814 0

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      2023-04-25 標簽：光刻半導體器件光刻膠 1789 0

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      2023-09-11 標簽：芯片晶圓光刻膠 1705 0

      微氣泡對光刻膠層的影響

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      關(guān)鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明，臭氧微氣泡可以去除...

      2022-01-10 標簽：半導體光刻晶片 1660 0

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      2023-12-11 標簽：晶圓光刻機器學習 1609 0

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      最近在外延膜的導電率控制和高質(zhì)量塊狀氧化鋅襯底的可用性方面的進展重新引起了我們對用于紫外光發(fā)射器和透明電子器件的氧化鋅/氧化鋅/氧化鋅異質(zhì)結(jié)構(gòu)系統(tǒng)的興趣。

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      淺談DRAM制造工藝及微縮挑戰(zhàn)

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      2021-12-13 標簽：納米材料納米襯底 1250 0

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        +關(guān)注
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        步進驅(qū)動器
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        SDK
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