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      標(biāo)簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：306個(gè) 瀏覽：30292次 帖子：4個(gè)

      光刻膠技術(shù)

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      光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求...

      2024-11-11 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)光刻膠 566 0

      半導(dǎo)體蝕刻工藝科普

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      過度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會導(dǎo)致表面粗糙。當(dāng)硅表面在HF過程中暴露于OH離子時(shí)，硅表面可能會變得粗糙。

      2024-11-05 標(biāo)簽：硅晶圓蝕刻光刻膠 316 0

      光刻膠的使用過程與原理

      本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。

      2024-10-31 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻膠 470 0

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      雙層膠工藝是什么

      隨著線條寬度的不斷縮小，為了防止膠上圖形出現(xiàn)太大的深寬比，提高對比度，應(yīng)該采用很薄的光刻膠。但薄膠會遇到耐腐蝕性的問題。由此開發(fā)出了 雙層光刻膠技術(shù)，這...

      2024-10-21 標(biāo)簽：芯片工藝光刻膠 476 0

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      微型晶體管的制造過程 1. 硅晶圓的制備 微型晶體管的制造始于硅晶圓的制備。硅晶圓是半導(dǎo)體制造的基礎(chǔ)材料，通常采用高純度的單晶硅制成。硅晶圓的制備過程包...

      2024-10-15 標(biāo)簽：晶圓晶體管半導(dǎo)體制造 361 0

      光刻膠旋轉(zhuǎn)涂膠的原因

      光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外線曝光后在顯影液中的溶解度發(fā)生顯著變化，而未曝光的部分在顯影液中幾乎不溶解。

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      光刻膠按照種類可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除，負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。

      2024-04-24 標(biāo)簽：光刻膠半導(dǎo)體工藝 3035 0

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      光刻膠資訊

      募資12億！國內(nèi)光刻膠“銷冠王”沖刺IPO！

      日前，廈門恒坤新材料科技股份有限公司（下稱“恒坤新材”）科創(chuàng)板IPO獲受理。該公司擬發(fā)行6739.7940萬新股，融資12.00億元，用于集成電路前驅(qū)體...

      2025-01-07 標(biāo)簽：光刻膠 113 0

      微流控中的烘膠技術(shù)

      一、烘膠技術(shù)在微流控中的作用 提高光刻膠穩(wěn)定性 在 微流控芯片 制作過程中，光刻膠經(jīng)過顯影后，進(jìn)行烘膠（堅(jiān)膜）能使光刻膠結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定。例如在后續(xù)進(jìn)行干法刻...

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      隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直...

      2025-01-03 標(biāo)簽：光刻膠 88 0

      光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

      光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻...

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      離子轟擊的不均勻性 干法刻蝕通常是物理作用和化學(xué)作用相結(jié)合的過程，其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過程中，離子的入射角和能量分布可能不均勻. 如...

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      干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法

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      近日，據(jù)相關(guān)報(bào)道，三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉，三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存...

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      光刻膠清洗去除方法

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      光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后，一般都是需要及時(shí)的去除清洗，而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。

      2024-11-11 標(biāo)簽：光刻膠 593 0

      國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

      國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

      來源：太紫微公司 近日，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已...

      2024-10-17 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻膠 293 0

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      光刻膠數(shù)據(jù)手冊

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        +關(guān)注
        　　SDK一般指軟件開發(fā)工具包，軟件開發(fā)工具包一般都是一些軟件工程師為特定的軟件包、軟件框架、硬件平臺、操作系統(tǒng)等建立應(yīng)用軟件時(shí)的開發(fā)工具的集合。軟件開發(fā)工具廣義上指輔助開發(fā)某一類軟件的相關(guān)文檔、范例和工具的集合。
      • OBD
        OBD
        +關(guān)注
        OBD是英文On-Board Diagnostic的縮寫，中文翻譯為“車載診斷系統(tǒng)”。這個(gè)系統(tǒng)隨時(shí)監(jiān)控發(fā)動機(jī)的運(yùn)行狀況和尾氣后處理系統(tǒng)的工作狀態(tài)，一旦發(fā)現(xiàn)有可能引起排放超標(biāo)的情況，會馬上發(fā)出警示。
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