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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>電子論文>半導體技術論文>基于SiO2薄膜的915nm半導體激光器的無雜質(zhì)空位誘導量子阱混合研究

      基于SiO2薄膜的915nm半導體激光器的無雜質(zhì)空位誘導量子阱混合研究

      2018-02-10 | rar | 1.19 MB | 次下載 | 3積分

      資料介紹

      　　為了提高915 nm半導體激光器腔面抗光學災變的能力，采用基于Si0：薄膜無雜質(zhì)誘導量子阱混合法制備符合915 nm半導體激光器AIGaInAs單量子阱的非吸收窗口．研究了無雜質(zhì)空位誘導量子阱混合理論及不同退火溫度、不同退火時間、SiO2薄膜厚度、SiO2薄膜折射率、不同蓋片等試驗參數(shù)對制備非吸窗口的影響，并且討論了Si0，薄膜介質(zhì)膜的多孔性對無雜質(zhì)誘導量子阱混合的影響．實驗制備出藍移波長為53 nm的非吸收窗口，最佳制備非吸收窗口條件為退火溫度為875℃，退火時間為90s，SiO2薄膜折射率為1.447，厚度為200 nm，使用GaAs蓋片．
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