資料介紹
MOS 電容器大綱
·通告:
下發(fā)資料
講稿大綱和摘要
下周三復(fù)習(xí)課將進(jìn)行測(cè)驗(yàn)
·定性描述:-熱平衡狀態(tài)下的金屬氧化物半導(dǎo)體
結(jié)構(gòu)定義:金屬/二氧化硅/p 型(例子:n-MOS)
金屬和硅有關(guān)的靜電勢(shì):?m
零偏的情況:如果:?m > ?pSi,
硅表面耗盡
反向偏置:從耗盡到平帶到積累
正向偏置:耗盡到臨界到反型層
·定量模型:熱平衡狀態(tài)下的金屬氧化物
耗盡近似法應(yīng)用于??S電容器
?平帶電壓:VFB
?積累層電荷密度:qA*
?最大耗盡寬度XDT
?開(kāi)啟電壓:VT
?反型層電荷密度:qN*
·偏置金屬氧化物半導(dǎo)體在臨近區(qū)域的應(yīng)用
耗盡層的寬度
開(kāi)啟電壓的影響
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下周三復(fù)習(xí)課將進(jìn)行測(cè)驗(yàn)
·定性描述:-熱平衡狀態(tài)下的金屬氧化物半導(dǎo)體
結(jié)構(gòu)定義:金屬/二氧化硅/p 型(例子:n-MOS)
金屬和硅有關(guān)的靜電勢(shì):?m
零偏的情況:如果:?m > ?pSi,
硅表面耗盡
反向偏置:從耗盡到平帶到積累
正向偏置:耗盡到臨界到反型層
·定量模型:熱平衡狀態(tài)下的金屬氧化物
耗盡近似法應(yīng)用于??S電容器
?平帶電壓:VFB
?積累層電荷密度:qA*
?最大耗盡寬度XDT
?開(kāi)啟電壓:VT
?反型層電荷密度:qN*
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