資料介紹
摘要:在Synopsys TCAD軟件環(huán)境下,結(jié)合中國科學(xué)院微電子研究所0.8Um標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝條件對于高壓CMOS器件進(jìn)行了工藝和器件模擬。由于考慮到與標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的兼容性,高壓CMOS器件均采用LDMOS結(jié)構(gòu);根據(jù)RESURF技術(shù),對于器件的漂移區(qū)進(jìn)行了優(yōu)化。器件模擬結(jié)果表明,高壓NMOS器件源漏擊穿電壓為220V;閾值電壓和驅(qū)動(dòng)能力分別為0.8V和1×10的4次方A/Um。高壓PMOS器件源漏擊穿電壓為一135V;閾值電壓和驅(qū)動(dòng)能力分別為-9.7V和1.8×10的4次方A/Um。高壓CMOS器件的研制可為進(jìn)一步研制FED和PDP平板顯示高壓驅(qū)動(dòng)電路奠定基礎(chǔ)。
關(guān)鍵詞:顯示驅(qū)動(dòng);高壓CMOS器件;0.8Um CMOS工藝;模擬
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