設(shè)計(jì),適用于高頻。
35W 的TO-220 大功率電阻特性無(wú)感、薄膜技術(shù)。? 熱增強(qiáng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)TO220封裝。符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)。低熱阻,3.3°C/W電阻熱點(diǎn)到金屬片。? 提供完整的熱流設(shè)計(jì),易于實(shí)施。卓越
2024-03-18 08:21:47
AMCOM的AM08012041WN-00-R/AM08012041WN-SN-R是款寬帶GaN MMIC功率放大器。AM08012041WN-00-R/AM08012041WN-SN-R在7.5到
2024-03-15 09:36:37
采用熱增強(qiáng)封裝技術(shù)的 100V GaN 功率級(jí),可將解決方案尺寸縮小 40% 以上,提高功率效率,并將開(kāi)關(guān)損耗降低 50%。
2024-03-06 13:36:39187 MMIC HPA最低頻率(MHz):12700最高頻率(MHz):18000最高值輸出功率(W):1增益值(dB):23.0工作效率(%):30額定電壓(V):28模式:MMIC 裸片封裝類(lèi)型:表面貼裝技術(shù)
2024-03-06 09:41:07
氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管在許多電力電子應(yīng)用中持續(xù)獲得關(guān)注,但氮化鎵技術(shù)仍處于其生命周期的早期階段【1】。雖然基本FET性能品質(zhì)因數(shù)還有很大的提升空間,但GaN功率ic的發(fā)展是一條更有前途的道路。 現(xiàn)代
2024-03-05 14:29:42481 )。另一方面,功率GaN的技術(shù)路線從不同的層面看還有非常豐富的種類(lèi)。 ? 器件模式 ? 功率GaN FET目前有兩種主流方向,包括增強(qiáng)型E-Mode和耗盡型D-Mode。其中增強(qiáng)型GaN FET是單芯片常關(guān)器件,而耗盡型GaN FET是雙芯片常關(guān)器件(共源共柵Cascode結(jié)構(gòu))。 ? E-
2024-02-28 00:13:001844 最高頻率(MHz):14500最高值輸出功率(W):25增益值(dB):26.0工作效率(%):16額定電壓(V):40類(lèi)型:封裝的MMIC封裝類(lèi)別:法蘭盤(pán)技術(shù):GaN-on-SiC深圳市立維創(chuàng)展科技有限公司授權(quán)經(jīng)銷(xiāo)CREE微波器件,如若需要購(gòu)CREE產(chǎn)品,請(qǐng)點(diǎn)擊右側(cè)客服聯(lián)系我們?。?!
2024-02-27 14:09:50
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)繼去年英飛凌收購(gòu)GaN Systems之后,2024年1月,另一家汽車(chē)芯片大廠瑞薩也收購(gòu)了功率GaN公司Transphorm。 ? Transphorm在2022
2024-02-26 06:30:001551 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)充電樁市場(chǎng)隨著高壓直流快充的推廣,在一些400kW以上的充電樁中已經(jīng)采用了SiC功率器件。同為第三代半導(dǎo)體的GaN,由于在高頻應(yīng)用上的優(yōu)勢(shì),一些廠商也在推動(dòng)GaN進(jìn)入到
2024-02-21 09:19:283849 碳化硅(Silicon Carbide,SiC)功率器件因其寬禁帶、耐高壓、高溫、低導(dǎo)通電阻和快速開(kāi)關(guān)等優(yōu)點(diǎn)備受矚目。然而,如何充分發(fā)揮碳化硅器件的性能卻給封裝技術(shù)帶來(lái)了新的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)封裝技術(shù)在應(yīng)對(duì)
2024-01-26 16:21:39218 ):13.0效率(%):33額定電壓(V):40形式:封裝形式分立晶體管封裝形式類(lèi)別:法蘭盤(pán)技術(shù)應(yīng)用:GaN-on-SiC
2024-01-19 09:27:13
最高值輸出功率(W):10增益值(dB):19.0工作效率(%):40額定電壓(V):28模式:封裝的MMIC封裝形式類(lèi)別:表面貼裝技術(shù)技術(shù)應(yīng)用:GaN-on-SiC
2024-01-09 09:10:21
電源散熱技術(shù),都有助于實(shí)現(xiàn)電源從組件到系統(tǒng)的全方位突破。因此,基于GaN功率器件來(lái)研究高頻、高效和輕量化的宇航電源,將引導(dǎo)新一代宇航電源產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)性能參數(shù)的巨大飛躍,
2024-01-05 17:59:04272 事通訊設(shè)備產(chǎn)品規(guī)格描述:180瓦;DC-2GHz;氮化鎵高電子遷移率晶體管最低頻率(MHz):0最高頻率(MHz):2000最高值輸出功率(W):200增益值(分貝):24.0效率(%):70額定電壓(V):27類(lèi)型:封裝分立晶體管封裝類(lèi)別:法蘭盤(pán)、丸狀技術(shù)應(yīng)用:GaN-on-SiC
2024-01-02 12:05:47
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,垂直GaN功率器件逐漸憑借其優(yōu)勢(shì)逐漸應(yīng)用在更多的領(lǐng)域中。高質(zhì)量的GaN單晶材料是制備高性能器件的基礎(chǔ)。
2023-12-27 09:32:54374 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)在我們談?wù)摰谌雽?dǎo)體的時(shí)候,常說(shuō)的碳化硅功率器件一般是指代SiC MOSFET(金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管),而氮化鎵功率器件最普遍的則是GaN HEMT(高電子
2023-12-27 09:11:361219 ,60W GaN MMIC HPA最低頻率(MHz):13400最高頻率(MHz):15500最高值輸出功率(W):60額定電壓(V):28模式:封裝的MMIC封裝類(lèi)別:法蘭盤(pán)、模具技術(shù)性:GaN-on-SiC
2023-12-26 09:52:16
GAN039-650NTB 是一款 33 mΩ(典型值)的氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)管,采用 CCPAK1212i 頂部散熱封裝技術(shù),開(kāi)創(chuàng)了寬禁帶半導(dǎo)體和銅夾片封裝相結(jié)合的新時(shí)代。
2023-12-24 09:30:06430 報(bào)告內(nèi)容包含:
微帶WBG MMIC工藝
GaN HEMT 結(jié)構(gòu)的生長(zhǎng)
GaN HEMT 技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
2023-12-14 11:06:58178 CREE的CGHV96130F是碳化硅(SiC)基材上的氮化鎵(GaN)高遷移率晶體管(HEMT)與其他技術(shù)相比,CGHV96130F內(nèi)部適應(yīng)(IM)FET具有出色的功率附加效率。與砷化鎵相比
2023-12-13 10:10:57
GaN HEMT技術(shù)和專(zhuān)有銅夾片CCPAK表面貼裝封裝,為工業(yè)和可再生能源應(yīng)用的設(shè)計(jì)人員提供更多選擇。經(jīng)過(guò)二十多年的辛勤耕耘,Nexperia在提供大規(guī)模、高質(zhì)量的銅夾片SMD封裝方面積累了豐富
2023-12-11 11:43:37259 作為一種新型功率器件,GaN 器件在電源的高密小型化方面極具優(yōu)勢(shì)。
2023-12-07 09:44:52777 GaN 技術(shù)的過(guò)去和現(xiàn)在
2023-12-06 18:21:00432 深入了解 GaN 技術(shù)
2023-12-06 17:28:542560 氮化鎵(GaN)功率器件具有高擊穿場(chǎng)強(qiáng)、高熱導(dǎo)率、低導(dǎo)通和開(kāi)關(guān)損耗、射頻功率放大器、直流至直流(DC-DC)變換器、薄膜和二維GaN器件、高電子遷移率等特點(diǎn),用于制造高頻、高功率密度和高效率的功率電子器件
2023-12-06 10:04:03350 使用集成 GaN 解決方案提高功率密度
2023-12-01 16:35:28195 通過(guò)GaN電機(jī)系統(tǒng)提高機(jī)器人的效率和功率密度
2023-11-29 15:16:27220 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《克服GaN功率放大器實(shí)施中的挑戰(zhàn).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-11-23 16:41:070 利用封裝、IC和GaN技術(shù)提升電機(jī)驅(qū)動(dòng)性能
2023-11-23 16:21:17236 GaN氮化鎵晶圓硬度強(qiáng)、鍍層硬、材質(zhì)脆材質(zhì)特點(diǎn),與硅晶圓相比在封裝過(guò)程中對(duì)溫度、封裝應(yīng)力更為敏感,芯片裂紋、界面分層是封裝過(guò)程最易出現(xiàn)的問(wèn)題。同時(shí),GaN產(chǎn)品的高壓特性,也在封裝設(shè)計(jì)過(guò)程對(duì)爬電距離的設(shè)計(jì)要求也與硅基IC有明顯的差異。
2023-11-21 15:22:36333 設(shè)計(jì)人員正在尋求先進(jìn)技術(shù),從基于硅的解決方案轉(zhuǎn)向使用碳化硅 (SiC) 和氮化鎵 (GaN) 等寬帶隙 (WBG) 材料的功率半導(dǎo)體技術(shù),從而在創(chuàng)新方面邁出下一步。他們尋求用于電動(dòng)汽車(chē) (EV) 的功率密度更高、效率更高的電路。
2023-11-12 11:30:001163 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年10月,英飛凌以8.3億美元完成對(duì)功率GaN公司GaN Systems的收購(gòu),成為了功率GaN領(lǐng)域史上最大規(guī)模的一筆收購(gòu),這筆收購(gòu)的價(jià)值甚至比2022年整個(gè)功率
2023-11-10 00:24:001758 GaN的驅(qū)動(dòng)電路有哪些挑戰(zhàn)?怎么在技術(shù)上各個(gè)突破?GaN驅(qū)動(dòng)電路有哪些設(shè)計(jì)技巧? GaN(氮化鎵)是一種新型的半導(dǎo)體材料,相比傳統(tǒng)的硅材料,具有更高的電子遷移率和能力,因此在功率電子領(lǐng)域有著廣泛
2023-11-07 10:21:44513 氮化鎵(GaN)功率器件在幾個(gè)關(guān)鍵性能指標(biāo)上比硅(Si)具有優(yōu)勢(shì)。具有低固有載流子濃度的寬帶隙具有更高的臨界電場(chǎng),能實(shí)現(xiàn)更薄的漂移層,同時(shí)在較高的擊穿電壓下可以降低導(dǎo)通電阻(Rds(on))。由于
2023-11-06 09:39:293609 1、SiC MOSFET對(duì)器件封裝的技術(shù)需求
2、車(chē)規(guī)級(jí)功率模塊封裝的現(xiàn)狀
3、英飛凌最新SiC HPD G2和SSC封裝
4、未來(lái)模塊封裝發(fā)展趨勢(shì)及看法
2023-10-27 11:00:52419 隨著世界希望電氣化有助于有效利用能源并轉(zhuǎn)向可再生能源,氮化鎵(GaN)等寬帶隙半導(dǎo)體技術(shù)的時(shí)機(jī)已經(jīng)成熟。傳統(tǒng)硅MOSFET和IGBT的性能現(xiàn)在接近材料的理論極限,進(jìn)一步發(fā)展只是以緩慢和高成本實(shí)現(xiàn)微小
2023-10-25 16:24:43641 使用GaN(氮化鎵)的功率半導(dǎo)體作為節(jié)能/低碳社會(huì)的關(guān)鍵器件而受到關(guān)注。兩家日本公司聯(lián)手創(chuàng)造了一項(xiàng)新技術(shù),解決了導(dǎo)致其全面推廣的問(wèn)題。
2023-10-20 09:59:40707 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)GaN功率器件的價(jià)格在近年持續(xù)下跌,部分650V、150V規(guī)格的GaN器件價(jià)格已經(jīng)與同規(guī)格的硅基器件相近,并且高頻性能更強(qiáng),效率更高。在GaN的成本優(yōu)勢(shì)之下,帶動(dòng)
2023-10-14 00:07:001549 硅襯底GaN材料在中低功率的高頻HEMT和LED專(zhuān)業(yè)照明領(lǐng)域已經(jīng)實(shí)現(xiàn)規(guī)模商用。基于硅襯底GaN材料的Micro LED微顯技術(shù)和低功率PA正在進(jìn)行工程化開(kāi)發(fā)。DUV LED、GaN LD以及GaN/CMOS集成架構(gòu)尚處于早期研究階段。
2023-10-13 16:02:31317 寬帶隙GaN基高電子遷移率晶體管(HEMTs)和場(chǎng)效應(yīng)晶體管(fet)能夠提供比傳統(tǒng)Si基高功率器件更高的擊穿電壓和電子遷移率。常關(guān)GaN非常需要HEMT來(lái)降低功率并簡(jiǎn)化電路和系統(tǒng)架構(gòu),這是GaN HEMT技術(shù)的主要挑戰(zhàn)之一。凹進(jìn)的AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)是實(shí)現(xiàn)常關(guān)操作的有用選擇之一。
2023-10-10 16:21:11291 傳統(tǒng)的功率半導(dǎo)體封裝技術(shù)是采用鉛或無(wú)鉛焊接合金把器件的一個(gè)端面貼合在熱沉襯底上,另外的端面與10-20mil鋁線楔或金線鍵合在一起。這種方法在大功率、高溫工作條件下缺乏可靠性,而且不具備足夠的堅(jiān)固性。
2023-10-09 15:20:58299 長(zhǎng)電科技在功率器件封裝領(lǐng)域積累了數(shù)十年的技術(shù)經(jīng)驗(yàn),具備全面的功率產(chǎn)品封裝外形,覆蓋IGBT、SiC、GaN等熱門(mén)產(chǎn)品的封裝和測(cè)試。
2023-10-07 17:41:32398 無(wú)論是在太空還是在地面,這些基于GaN的晶體管都比硅具有新的優(yōu)勢(shì)。
2023-09-28 17:44:221864 利用GAN技術(shù)扶持5G5G:確定成功表
2023-09-27 14:37:46236 碳化硅(silicon carbide,SiC)功率器件作為一種寬禁帶器件,具有耐高壓、高溫,導(dǎo)通電阻低,開(kāi)關(guān)速度快等優(yōu)點(diǎn)。如何充分發(fā)揮碳化硅器件的這些優(yōu)勢(shì)性能則給封裝技術(shù)帶來(lái)了新的挑戰(zhàn):傳統(tǒng)封裝
2023-09-24 10:42:40391 機(jī)構(gòu)Yole數(shù)據(jù)顯示,2022年GaN功率器件在總功率半導(dǎo)體(功率芯片、功率分立器件和模塊)市場(chǎng)中的占比僅為0.3%。盡管GaN功率率器件的復(fù)合年增長(zhǎng)率很高(59%),Yole預(yù)計(jì)到2027
2023-09-21 17:39:211626 GaN因其特性,作為高性能功率半導(dǎo)體材料而備受關(guān)注,近年來(lái)其開(kāi)發(fā)和市場(chǎng)導(dǎo)入不斷加速。GaN功率器件有兩種類(lèi)型:水平型(在硅晶圓上生長(zhǎng)GaN晶體)和垂直型(原樣使用GaN襯底)。
2023-09-13 15:05:25657 在消費(fèi)類(lèi)應(yīng)用領(lǐng)域,由于快速充電器的快速增長(zhǎng),GaN 技術(shù)在 2020-2021 跨越了鴻溝,目前其他交直流應(yīng)用場(chǎng)景中也采用了GaN? 帶有嵌入式驅(qū)動(dòng)程序 / 控制器(MasterGaN、VIPerGaN)的系統(tǒng)封裝 (SiP) 由于集成簡(jiǎn)單,將有助于更廣泛的使用
2023-09-07 07:20:19
圖2給出了一個(gè)集成模塊的剖面圖,應(yīng)用了嵌入功率器件的多層集成封裝技術(shù)。包括:散熱板、基板、絕緣傳熱材料、功率母線、功率器件、銅層、陶瓷、集成無(wú)源模塊、金屬層、表面貼裝芯片(驅(qū)動(dòng)、檢測(cè)及保護(hù)元件)等。
2023-08-24 14:26:50188 650V硅上GaN增強(qiáng)型功率品體管,采用5mm雙扁平無(wú)引線封裝(DFN)X6毫米大小。增強(qiáng)型晶體管-正常關(guān)閉電源開(kāi)關(guān),符合JEDEC標(biāo)準(zhǔn)的工業(yè)應(yīng)用。
2023-08-16 23:36:51686 碳化硅(SiC)作為一個(gè)新興的寬帶隙半導(dǎo)體材料,已經(jīng)吸引了大量的研究關(guān)注。其優(yōu)越的電氣性能、高溫穩(wěn)定性和高頻響應(yīng)使其在功率電子器件領(lǐng)域中具有巨大的應(yīng)用潛力。但要完全發(fā)揮SiC功率器件的潛力,封裝技術(shù)同樣至關(guān)重要。本文主要探討碳化硅功率器件封裝的三個(gè)關(guān)鍵技術(shù)。
2023-08-15 09:52:11701 英諾賽科(Innoscience)一直致力于推動(dòng)GaN技術(shù)的發(fā)展,從而推動(dòng)新一代電力電子設(shè)備的快速普及。2023年8月,英諾賽科推出了一款100V的GaN新品,采用FCQFN封裝,再次彰顯了其在GaN領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位。
2023-08-14 15:07:06975 基礎(chǔ)半導(dǎo)體器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專(zhuān)家 Nexperia(安世半導(dǎo)體)近日宣布推出首批支持低電壓(100/150 V)和高電壓(650 V)應(yīng)用的 E-mode(增強(qiáng)型)功率 GaN FET
2023-08-10 13:55:54500 寬禁帶半導(dǎo)體GaN能夠在更高電壓、更高頻率以及更高的溫度下工作,在高效功率轉(zhuǎn)換,射頻功放,以及極端環(huán)境電子應(yīng)用方面具有優(yōu)異的材料優(yōu)勢(shì)。
2023-08-09 16:10:10555 SiC和GaN被稱(chēng)為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG),因?yàn)閷⑦@些材料的電子從價(jià)帶炸毀到導(dǎo)帶所需的能量:而在硅的情況下,該能量為1.1eV,SiC(碳化硅)為3.3eV,GaN(氮化鎵)為3.4eV。這導(dǎo)致了更高的適用擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可以達(dá)到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431 650V硅上GaN增強(qiáng)模式功率晶體管,英諾賽科INN650D150A采用雙扁平無(wú)引線封裝(DFN),8mmx8mm尺寸,增強(qiáng)型晶體管-正常關(guān)閉電源開(kāi)關(guān)
2023-08-07 17:22:17968 解決方案帶來(lái)了極高的附加值。采用GaN技術(shù)有助于實(shí)現(xiàn)上述目標(biāo),隨著該項(xiàng)技術(shù)商用步伐的加快,在功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中也獲得了廣泛運(yùn)用。 GaN晶體管與硅基晶體管相比的優(yōu)點(diǎn) 與硅基晶體管相比,GaN功率晶體管有什么優(yōu)點(diǎn)呢?GaN在品質(zhì)因數(shù)(
2023-08-03 14:43:28225 。GaN HEMT還提供更大的功率密度和更寬的與Si和GaAs晶體管相比的帶寬。此MMIC包含兩級(jí)電抗匹配放大器,可實(shí)現(xiàn)非常寬的帶寬可在具有銅鎢散熱片的小型封裝中實(shí)現(xiàn)。
2023-07-05 15:04:321 GaN開(kāi)始為人所知是在光電LED市場(chǎng),廣為人知?jiǎng)t是在功率半導(dǎo)體的消費(fèi)電子快充市場(chǎng)。但實(shí)際上,GaN最初在功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的目標(biāo)據(jù)說(shuō)是新能源汽車(chē)市場(chǎng),而非消費(fèi)電子市場(chǎng)。
2023-06-29 11:43:49398 作為電力電子領(lǐng)域的核心技術(shù)之一,基于GaN的電能轉(zhuǎn)換技術(shù)在消費(fèi)電子、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,這對(duì)提高電能的高效利用及實(shí)現(xiàn)節(jié)能減排起著關(guān)鍵作用。
2023-06-29 10:17:12481 EHEMT功率器件進(jìn)行了性能測(cè)試。本文分享有關(guān)的測(cè)試結(jié)果。
三安集成設(shè)計(jì)的半橋電路測(cè)試平臺(tái)主要用于200V DFN8×8封裝分立GaN EHEMT器件的開(kāi)環(huán)功率實(shí)驗(yàn),可實(shí)現(xiàn)對(duì)器件的雙脈沖測(cè)試、升壓降壓測(cè)試
2023-06-25 15:59:21
GaN在單片功率集成電路中的工業(yè)應(yīng)用日趨成熟
2023-06-25 10:19:10
GaN功率半導(dǎo)體與高頻生態(tài)系統(tǒng)(氮化鎵)
2023-06-25 09:38:13
GaN功率半導(dǎo)體集成驅(qū)動(dòng)性能
2023-06-21 13:24:43
GaN功率半導(dǎo)體器件集成提供應(yīng)用性能
2023-06-21 13:20:16
升級(jí)到半橋GaN功率半導(dǎo)體
2023-06-21 11:47:21
用于無(wú)線充電應(yīng)用的高壓GaN功率半導(dǎo)體單級(jí)6.78 MHz功率放大器設(shè)計(jì)
2023-06-21 11:45:06
單片GaN器件集成驅(qū)動(dòng)功率轉(zhuǎn)換的效率、密度和可靠性
2023-06-21 09:59:28
GaN功率IC使能4倍功率密度150W AC/DC變換器設(shè)計(jì)
2023-06-21 07:35:15
GaN功率集成電路技術(shù):過(guò)去,現(xiàn)在和未來(lái)
2023-06-21 07:19:58
氮化鎵(GaN)功率集成電路集成與應(yīng)用
2023-06-19 12:05:19
GaN功率半導(dǎo)體帶來(lái)AC-DC適配器的革命(氮化鎵)
2023-06-19 11:41:21
GaN功率半導(dǎo)體在快速充電市場(chǎng)的應(yīng)用(氮化鎵)
2023-06-19 11:00:42
GaN功率集成電路的進(jìn)展:效率、可靠性和自主性
2023-06-19 09:44:30
GaN功率半導(dǎo)體(氮化鎵)的系統(tǒng)集成優(yōu)勢(shì)
2023-06-19 09:28:46
GaN功率集成電路
2023-06-19 08:29:06
GaN功率集成電路可靠性的系統(tǒng)方法
2023-06-19 06:52:09
GaN技術(shù)實(shí)現(xiàn)快速充電系統(tǒng)
2023-06-19 06:20:57
為了滿足數(shù)據(jù)中心快速增長(zhǎng)的需求,對(duì)電源的需求越來(lái)越大更高的功率密度和效率。在本文中,我們構(gòu)造了一個(gè)1.5 kW的LLC諧振變換器模塊,它采用了Navitas的集成GaN HEMT ic,完全符合尺寸
2023-06-16 11:01:43
升壓從動(dòng)器PFC通過(guò)調(diào)整來(lái)提高低線效率總線電壓新的SR VCC供電電路簡(jiǎn)化了復(fù)雜性和在高輸出電壓下顯著降低驅(qū)動(dòng)損耗條件新型GaN和GaN半橋功率ic降低開(kāi)關(guān)損耗和循環(huán)能量,提高系統(tǒng)效率顯著提高了
2023-06-16 09:04:37
基于GaN器件的產(chǎn)品設(shè)計(jì)可以提高開(kāi)關(guān)頻率,減小體積無(wú)源器件,進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品功率密度和成本。然而,由于小GaN器件的芯片尺寸和快速開(kāi)關(guān)特性,給散熱帶來(lái)了一系列新的挑戰(zhàn)耗散設(shè)計(jì)、驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)和磁性元件
2023-06-16 08:59:35
基于平面矩陣的高頻高效LLC模塊基于GaN功率集成電路的CPRS變壓器
2023-06-16 06:48:18
OBC和低壓DC/DC的集成設(shè)計(jì)可以減小系統(tǒng)的體積;提高功率密度,降低成本。寬帶隙半導(dǎo)體器件GaN帶來(lái)了進(jìn)一步發(fā)展的機(jī)遇提高電動(dòng)汽車(chē)電源單元的功率密度
2023-06-16 06:22:42
氮化鎵(GaN)的重要性日益凸顯,增加。因?yàn)樗c傳統(tǒng)的硅技術(shù)相比,不僅性能優(yōu)異,應(yīng)用范圍廣泛,而且還能有效減少能量損耗和空間的占用。在一些研發(fā)和應(yīng)用中,傳統(tǒng)硅器件在能量轉(zhuǎn)換方面,已經(jīng)達(dá)到了它的物理
2023-06-15 15:47:44
功率晶體管與標(biāo)準(zhǔn)門(mén)極驅(qū)動(dòng)器兼容,方便集成到現(xiàn)有系統(tǒng)中。 優(yōu)秀的性能:具備出色的功率損耗特性,顯著降低能量損失,提高系統(tǒng)效率。 無(wú)需自由輪二極管:由于650V GaN功率晶體管的特性,無(wú)需額外添加自由輪二極管,簡(jiǎn)化了系統(tǒng)設(shè)計(jì)。 低開(kāi)關(guān)損耗:采用先進(jìn)的GaN技術(shù),650V GaN功率晶體管具有較低
2023-06-12 16:38:34688 由于GaN在高溫生長(zhǎng)時(shí)N的離解壓很高,很難得到大尺寸的GaN單晶材料,因此,為了實(shí)現(xiàn)低成本、高效、高功率的GaN HEMTs器件,研究人員經(jīng)過(guò)幾十年的不斷研究,并不斷嘗試?yán)貌煌耐庋由L(zhǎng)方法在Si
2023-06-10 09:43:44681 功率模組封裝代工 功率模塊封裝是指其中在一個(gè)基板上集成有一個(gè)或多個(gè)開(kāi)關(guān)元件的功率半導(dǎo)體產(chǎn)品,所述開(kāi)關(guān)元件包括絕緣柵雙極晶體管(IGBT)、二極管、金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)、晶閘管
2023-05-31 09:32:31287 GaN HEMT(高電子遷移率晶體管:High Electron Mobility Transistor)是新一代功率半導(dǎo)體,具有低工作電阻和高抗損性,有望應(yīng)用于大功率和高頻電子設(shè)備。
2023-05-25 15:14:061220 氮化鎵(GaN)是用于在干擾器中構(gòu)建RF功率放大器(PA)的主要技術(shù)。GaN 具有獨(dú)特的電氣特性 – 3.4 eV 的帶隙使 GaN 的擊穿場(chǎng)比其他射頻半導(dǎo)體技術(shù)高 20 倍。這不僅是GaN的高溫可靠性的原因,也是功率密度能力的原因。因此,GaN使干擾設(shè)備能夠滿足上述所有要求。
2023-05-24 10:48:091059 GaN HEMT 為功率放大器設(shè)計(jì)者提供了對(duì) LDMOS、GaAs 和 SiC 技術(shù)的許多改進(jìn)。更有利的特性包括高電壓操作、高擊穿電壓、功率密度高達(dá) 8W/mm、fT 高達(dá) 25 GHz 和低靜態(tài)
2023-05-24 09:40:011374 氮化鎵 (GaN) 是需要高頻率工作(高 Fmax)、高功率密度和高效率的應(yīng)用的理想選擇。與硅相比,GaN 具有達(dá) 3.4 eV 的 3 倍帶隙,達(dá) 3.3 MV/cm 的 20 倍臨界電場(chǎng)擊穿
2023-05-19 11:50:49626 UMS的CHK8101-SYC是款前所未有的封裝氮化鎵高電子遷移率晶體管。CHK8101-SYC為各類(lèi)射頻功率技術(shù)應(yīng)用提供通用型和寬帶解決方案。CHK8101-SYC特別適合多功能技術(shù)應(yīng)用,例如空間
2023-05-15 11:24:30168 GaN基功率開(kāi)關(guān)器件能實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的電能轉(zhuǎn)換效率和工作頻率,得益于平面型AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)中高濃度、高遷移率的二維電子氣(2DEG)。圖1示出絕緣柵GaN基平面功率開(kāi)關(guān)的核心器件增強(qiáng)型AlGaN/GaN MIS/MOS-HEMT的基本結(jié)構(gòu)。
2023-04-29 16:50:00793 GaN是第三代半導(dǎo)體材料,具有許多傳統(tǒng)硅半導(dǎo)體所不具備的優(yōu)良特性,因此被視為新一代半導(dǎo)體技術(shù),具有非常廣闊的應(yīng)用前景。隨著 GaN功率器件技術(shù)的成熟, GaN功率器件已廣泛應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心、通訊基站
2023-04-21 14:05:42831 摘要半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步使得芯片的尺寸得以不斷縮小,倒逼著封裝技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步,也由此產(chǎn)生了各種各樣的封裝形式。當(dāng)前功率器件的設(shè)計(jì)和發(fā)展具有低電感、高散熱和高絕緣能力的屬性特征,器件封裝上呈現(xiàn)出模塊化
2023-04-20 09:59:41710 在有限的封 裝空間內(nèi),如何把芯片的耗散熱及時(shí)高效的釋放到外界環(huán)境中以降低芯片結(jié)溫及器件內(nèi)部各封裝材料的工作溫度,已成 為當(dāng)前功率器件封裝設(shè)計(jì)階段需要考慮的重要問(wèn)題之一。本文聚焦于功率器件封裝結(jié)構(gòu)
2023-04-18 09:53:235974 您可以通過(guò)多種方式控制GaN功率級(jí)。LMG5200 GaN 半橋功率級(jí)的 TI 用戶指南使用無(wú)源元件和分立邏輯門(mén)的組合。在這篇文章中,我將描述如何使用Hercules微控制器驅(qū)動(dòng)它。圖 1 顯示了用于驅(qū)動(dòng) LMG5200 的 Hercules 模塊。
2023-04-14 10:07:41963 BGA封裝技術(shù)是一種先進(jìn)的集成電路封裝技術(shù),主要用于現(xiàn)代計(jì)算機(jī)和移動(dòng)設(shè)備的內(nèi)存和處理器等集成電路的封裝。與傳統(tǒng)的封裝方式相比,BGA封裝具有更小的體積,更好的散熱性能和電性能,可在相同體積下提高
2023-04-11 15:52:37
作為高可靠性芯片連接技術(shù),銀燒結(jié)技術(shù)得到了功率模塊廠商的廣泛重視,一些功率半導(dǎo)體頭部公司相繼推出類(lèi)似技術(shù),已在功率模塊的封裝中取得了應(yīng)用。
2023-03-31 12:44:271884
評(píng)論
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